偏振性层叠膜的制造方法及偏振板的制造方法技术

本发明专利技术提供一种偏振性层叠膜的制造方法及使用了通过该方法得到的偏振性层叠膜的偏振板的制造方法，所述偏振性层叠膜的制造方法包括：准备在基材膜上具备偏振片层的偏振性膜的工序、在偏振性膜的偏振片层上经由第1粘接剂层配置宽度比偏振性膜宽的第1保护膜和在偏振性膜的另一个面上配置宽度比偏振性膜宽的第2保护膜的工序，以下述方式配置第1及第2保护膜：第1及第2保护膜的宽度方向两端分别位于偏振性膜的宽度方向两端的更外侧，同时第1粘接剂层的宽度方向两端分别位于偏振性膜的宽度方向两端的更外侧且位于第1及第2保护膜的宽度方向两端的更内侧。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
偏振板作为液晶显示装置中的偏振光的供给元件、以及作为偏振光的检测元件而被广泛地使用。以往，作为偏振板主要使用在聚乙烯醇系偏振膜通过粘接剂贴合包含三乙酰纤维素等的保护膜而成的偏振板，近年来，伴随着向液晶显示装置的笔记本型个人电脑、手机等移动设备中的开展、以及向大型电视机的开展等，要求偏振板薄壁轻质化。 例如在日本特开2000-338329号公报(专利文献I)中，作为制造薄型的偏振板的方法，公开了:在对基材膜的单面涂布含有聚乙烯醇系树脂的溶液而形成树脂层后，进行单轴拉伸，然后染色，由此得到具有偏振片层的膜，之后在该膜的偏振片层侧通过粘接剂贴合保护膜，制成偏振性层叠膜后，剥离除去基材膜的偏振板的制造方法。 现有技术文献 专利文献 专利文献1:日本特开2000-338329号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题 就具有偏振片层的膜与保护膜的贴合而言，一般通过粘接剂将这些膜层叠，将得到的层叠体例如从一对贴合辊之间通过等而将层叠体压接来进行。但是在层叠体的压接时，粘接剂从其宽度方向端部溢出(漏出)，存在贴合辊等压接装置被污染的问题。该问题在使用长尺寸的基材膜及保护膜连续制造长尺寸的偏振性层叠膜、偏振板时尤其严重，在该连续制造中，附着于贴合辊等压接装置的粘接剂逐渐转印于上述层叠体的外侧表面(与压接装置的接触面)，偏振性层叠膜及偏振板本身受到污染。 另一方面，为了抑制粘接剂从层叠体端部的溢出，若减少粘接剂的供给量，在层叠体的压接时，在宽度方向的两端部分不存在粘接剂，则会在该两端部分发生粘接不良。 因此本专利技术的目的在于提供在贴合保护膜时，可以防止膜两端部分的粘接不良、且防止粘接剂导致的压接装置、膜表面的污染的偏振性层叠膜及偏振板的制造方法。 解决课题的手段 本专利技术包括下述内容。 [I] 一种偏振性层叠膜的制造方法，其包括: 准备偏振性膜的工序，所述偏振性膜在基材膜的至少一个面具备由吸附取向有二色性色素的聚乙烯醇系树脂层构成、且宽度与所述基材膜的宽度相同或比所述基材膜的宽度窄的偏振片层，和 得到偏振性层叠膜的工序，其中，在所述偏振性膜的一个面上即在基材膜的所述一个面设置的偏振片层上经由第I粘接剂层配置宽度比所述偏振性膜宽的第I保护膜，在所述偏振性膜的另一个面上配置宽度比所述偏振性膜宽的第2保护膜， 以下述方式配置所述第I及第2保护膜:所述第I及第2保护膜的宽度方向两端分别位于所述偏振性膜的宽度方向两端的更外侧，同时所述第I粘接剂层的宽度方向两端分别位于所述偏振性膜的宽度方向两端的更外侧、且位于所述第I及第2保护膜的宽度方向两端的更内侧。 [2]根据[I]所述的偏振性层叠膜的制造方法，其进一步包括下述工序:在配置所述第I及第2保护膜的工序之后，在所述偏振片层的宽度方向两端的位置或比所述偏振片层的宽度方向两端的位置更内侧的位置切断，由此将所述偏振性层叠膜的宽度方向两端部分除去。 [3]根据[I]所述的偏振性层叠膜的制造方法，其中， 准备所述偏振性膜的工序包括: 通过在所述基材膜的至少一个面涂布含有聚乙烯醇系树脂的涂布液而形成聚乙烯醇系树脂层的工序、 将具有聚乙烯醇系树脂层的基材膜单轴拉伸的工序、和 用二色性色素将单轴拉伸后的膜的聚乙烯醇系树脂层染色而制成偏振片层的工序。 [4] 一种偏振板的制造方法，其包括准备通过[2]所述的方法制造的偏振性层叠膜的工序、和 从所述偏振性层叠膜剥离除去所述基材膜，得到在所述偏振片层贴合有所述第I保护膜的第I偏振板的工序。 [5]根据[4]所述的偏振板的制造方法，其中，所述偏振性膜在所述基材膜的两面具备所述偏振片层， 在配置所述第I及第2保护膜的工序中，所述第2保护膜以下述方式配置:在所述偏振性膜的另一个面上经由第2粘接剂层配置，所述第2粘接剂层的宽度方向两端分别位于所述偏振性膜的宽度方向两端的更外侧、且位于所述第I及第2保护膜的宽度方向两端的更内侧， 从所述偏振性层叠膜剥离除去所述基材膜，得到所述第I偏振板和在所述偏振片层贴合有所述第2保护膜的第2偏振板。 专利技术效果 根据本专利技术的方法，可以形成防止粘接剂从膜端部的溢出、并且在偏振性膜与保护膜的整个贴合面均匀地形成粘接剂层。因此根据本专利技术的偏振性层叠膜及偏振板的方法，在贴合保护膜时，可以防止膜两端部分的粘接不良、并且防止粘接剂导致的压接装置、膜表面的污染。 【附图说明】 图1是表示本专利技术所涉及的的优选实施方式的流程图。 图2是不意地表不贴合工序的一例的斜视图。 图3是表示在贴合工序中在偏振性膜贴合了第I及第2保护膜的状态的一例的概略俯视图。 图4是图3中示出的IV-1V线的概略剖面图。 图5是示意地表示剥离工序中的基材膜的剥离方向与偏振片层的取向方向的关系的俯视图。 图6是示意地表示剥离点处偏振性层叠膜与第I偏振板所成的角度φρ P和偏振性层叠膜与基材膜所成的角度q>k的关系的侧面图。 【具体实施方式】 以下，示出实施方式对本专利技术所涉及的进行详细说明。 〈偏振性层叠膜的制造方法〉 图1是表示本专利技术所涉及的的优选实施方式的流程图。 本实施方式的偏振性层叠膜的制造方法依次包括:准备在基材膜的至少一个面具备偏振片层的偏振性膜的工序；在偏振性膜的一个面上即在基材膜的上述一个面设置的偏振片层上经由第I粘接剂层贴合、配置第I保护膜，在偏振性膜的另一个面上配置第2保护膜而得到偏振性层叠膜的贴合工序S40 ;将偏振性层叠膜的宽度方向两端部分除去的除去工序S50。 另外，在本实施方式中，准备上述偏振性膜的工序依次包括:在基材膜的至少一个面形成聚乙烯醇系树脂层的树脂层形成工序SlO ;将具有聚乙烯醇系树脂层的基材膜单轴拉伸的拉伸工序S20 ;和用二色性色素将单轴拉伸后的膜的聚乙烯醇系树脂层染色而制成偏振片层的染色工序S30。 在上述贴合工序S40中，第I及第2保护膜使用宽度比偏振性膜宽的保护膜。第 1、第2保护膜以它们的宽度方向两端分别位于偏振性膜的宽度方向两端的更外侧的方式配置于偏振性膜上。此时，以第I粘接剂层的宽度方向两端分别位于偏振性膜的宽度方向两端的更外侧、且位于第I及第2保护膜的宽度方向两端的更内侧的方式调整第I粘接剂层的览度。 需要说明的是如后所述，在本实施方式中，可以通过从实施至除去工序S50而得的宽度方向两端部分被除去后的偏振性层叠膜剥离除去基材膜而得到偏振板(剥离工序S60)。 以下，对本实施方式的偏振性层叠膜的制造方法所具备的SlO?S50的各工序更详细地进行说明。 〔I〕树脂层形成工序SlO 本工序是在基材膜的至少一个表面上形成聚乙烯醇系树脂层的工序。该聚乙烯醇系树脂层是经过拉伸工序S20及染色工序S30而成为偏振片层的层。可以通过从将长尺寸的基材膜卷绕而成的辊体连续地将基材膜退卷，在退卷的基材膜上连续地形成聚乙烯醇系树脂层来连续地实施本工序。 可以通过将含有聚乙烯醇系树脂的涂布液涂布于基材膜表面，根据需要使涂布层干燥来形成聚乙烯醇系树脂层。利用这样的方法，可以使聚乙烯醇系树脂层、以及偏振片层的厚度变小，因此对于偏振性层叠膜及偏振板的薄型化有利。 涂布涂布液的方法可以从线棒本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种偏振性层叠膜的制造方法，其包括：准备偏振性膜的工序，所述偏振性膜在基材膜的至少一个面具备由吸附取向有二色性色素的聚乙烯醇系树脂层构成、且宽度与所述基材膜的宽度相同或比所述基材膜的宽度窄的偏振片层，和得到偏振性层叠膜的工序，其中，在所述偏振性膜的一个面上即在基材膜的所述一个面设置的偏振片层上经由第1粘接剂层配置宽度比所述偏振性膜宽的第1保护膜，在所述偏振性膜的另一个面上配置宽度比所述偏振性膜宽的第2保护膜，以下述方式配置所述第1及第2保护膜：所述第1及第2保护膜的宽度方向两端分别位于所述偏振性膜的宽度方向两端的更外侧，同时所述第1粘接剂层的宽度方向两端分别位于所述偏振性膜的宽度方向两端的更外侧、且位于所述第1及第2保护膜的宽度方向两端的更内侧。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种偏振性层叠膜的制造方法，其包括: 准备偏振性膜的工序，所述偏振性膜在基材膜的至少一个面具备由吸附取向有二色性色素的聚乙烯醇系树脂层构成、且宽度与所述基材膜的宽度相同或比所述基材膜的宽度窄的偏振片层，和 得到偏振性层叠膜的工序，其中，在所述偏振性膜的一个面上即在基材膜的所述一个面设置的偏振片层上经由第I粘接剂层配置宽度比所述偏振性膜宽的第I保护膜，在所述偏振性膜的另一个面上配置宽度比所述偏振性膜宽的第2保护膜， 以下述方式配置所述第I及第2保护膜:所述第I及第2保护膜的宽度方向两端分别位于所述偏振性膜的宽度方向两端的更外侧，同时所述第I粘接剂层的宽度方向两端分别位于所述偏振性膜的宽度方向两端的更外侧、且位于所述第I及第2保护膜的宽度方向两端的更内侧。2.根据权利要求1所述的偏振性层叠膜的制造方法，其进一步包括下述工序: 在配置所述第I及第2保护膜的工序之后，在所述偏振片层的宽度方向两端的位置或比所述偏振片层的宽度方向两端的位置更内侧的位置切断，由此将所述偏振性层叠膜的宽度方向两端部分除去。3.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：九内雄一朗，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP