电磁继电器和用于制造电磁继电器的方法技术

本发明专利技术涉及电磁继电器和用于制造电磁继电器的方法。电磁继电器（100）包括：铁芯（28），所述铁芯具有端面（28a）和槽（28b），所述槽穿过端面；和校正线圈（30），所述校正线圈装配在槽中；其中，通过将填塞工艺应用到端面中的夹着槽的多个区域（28c、28d、42），将校正线圈固定到铁芯。

【技术实现步骤摘要】

[0001 ] 本专利技术涉及一种电磁继电器和制造电磁继电器的方法。
技术介绍
存在着一种交流电磁继电器，所述交流电磁继电器将交流电压施加到作为电磁继电器的线圈，所述电磁继电器用电磁体驱动开关。为了保持电磁体的吸引力恒定不变和限制拍(beat)，将校正线圈附接到铁芯。因为利用校正线圈限制拍，所以交流电压的整流不是必须的。专利文献I公开了一种技术，所述技术使用永磁体和辅助磁轭作为帮助吸引力的构件。专利文献2公开了一种技术，所述技术利用螺丝机构将校正线圈附接到铁芯。专利文献3公开了一种技术，所述技术将校正线圈压向铁芯并且固定校正线圈。专利文献4公开了一种技术，所述技术通过将填塞工艺施加到铁芯的极面来固定校正线圈。 现有技术文献 专利文献 专利文献1:日本公开专利公报N0.2008-171639 专利文献2:日本公开专利公报N0.6-53027 专利文献3:日本公开专利公报N0.1-283904 专利文献4:日本未经检验的技术公报N0.62-114411
技术实现思路
本专利技术解决的问题 因将填塞工艺应用到铁芯，故有损校正线圈拍的限制效果，并且因此电磁继电器有可能无法适当地运转。鉴于上述问题，本专利技术的目的是提供一种能够限制拍的电磁继电器和用于制造该电磁继电器的方法。 用于解决所述问题的手段 本专利技术的电磁继电器包括:铁芯，所述铁芯具有端面和槽，所述槽穿过所述端面；和校正线圈，所述校正线圈装配在所述槽中；其中，通过将填塞工艺应用于所述端面中的夹着所述槽的多个区域，将所述校正线圈固定到所述铁芯。 利用上述构造，填塞工艺能够在夹着所述槽的两个端部的位置中应用于所述区域。 本专利技术的电磁继电器包括:铁芯，所述铁芯具有端面和穿过所述端面的槽；和校正线圈，所述校正线圈装配在所述槽中；其中，通过将填塞工艺应用于所述端面，将所述校正线圈固定到所述铁芯，并且所述端面的除了应用所述填塞工艺的区域之外的至少一部分被整平。 在上述构造的情况中，Btt连应用所述填塞工艺的区域的区域能够被整平。 本专利技术的电磁继电器包括:铁芯，所述铁芯具有端面和穿过所述端面的槽；校正线圈，所述校正线圈装配在所述槽中；和保持单元，所述保持单元设置在插入有所述铁芯的线筒中，并且所述保持单元保持所述校正线圈的外周面。 在上述构造的情况中，所述线筒能够包括:贮存单元，所述贮存单元贮存所述校正线圈；和多个保持单元，所述多个保持单元能够从所述贮存单元的内壁朝向所述校正线圈突出。 一种用于制造本专利技术的电磁继电器的方法包括:将校正线圈装配在槽中，所述槽穿过铁芯的端面；和通过将填塞工艺应用于所述端面中的夹着所述槽的多个区域，将所述校正线圈固定到所述铁芯。 在所述构造的情况中，通过将填塞工艺在夹着槽的两端的位置中应用于所述区域，能够将校正线圈固定到铁芯。 一种用于制造本专利技术的电磁继电器的方法包括:将校正线圈装配在穿过铁芯的端面的槽中；和在从所述端面的径向方向支撑所述铁芯的同时，通过将填塞工艺应用到所述端面，将所述校正线圈固定到所述铁芯。 [0021 ] 在上述构造的情况中，在从与穿过端面的槽的方向相交的方向支撑铁芯的同时，能够实施所述固定。 在上述构造的情况中，在支撑铁芯以便包围端面的同时能够实施所述固定。 一种用于制造本专利技术的电磁继电器的方法包括:将校正线圈装配在穿过铁芯的端面的槽中；通过将填塞工艺应用到所述端面，将所述校正线圈固定到所述铁芯；和整平所述端面。 在上述构造的情况中，Btt连所述端面中的应用所述填塞工艺的区域的区域能够被整平。 在上述构造的情况中，在固定之后能够实施所述整平。 本专利技术的效果 根据本专利技术，能够限制拍。 【附图说明】 图1是图解了电磁继电器的分解透视图； 图2A是图解了电磁体的分解透视图； 图2B是图解了组装有线筒、电枢、和电磁体的构造的透视图； 图3A是图解了组装有卡、线筒、电枢、电磁体和接触构件的构造的透视图； 图3B是图解了电磁继电器的透视图； 图4A是图解了填塞工艺的剖视图； 图4B是图解了电磁体的俯视图； 图5A是图解了根据第一实施例的填塞工艺的剖视图； 图5B是图解了电磁体的俯视图； 图6A是图解了根据第二实施例的填塞工艺的剖视图； 图6B是图解了电磁体的俯视图； 图7A是图解了填塞冲头和支撑单元的剖视图； 图7B和图7C是图解了填塞工艺的剖视图； 图8A是图解了填塞冲头和整平单元的剖视图； 图8B是图解了整平工艺的剖视图； 图8C是图解了填塞工艺的剖视图； 图9A是图解在整平工艺和填塞工艺之后的电磁体的俯视图； 图9B是图解了整平工艺和填塞工艺的另一个示例的剖视图； 图1OA是图解了根据第五实施例的电磁继电器的线筒的透视图； 图1OB是图解了线筒的正视图； 图1lA是图解了电磁体的透视图；和 图1lB是图解了电磁体的正视图。 【具体实施方式】 现在将描述电磁继电器的构造。图1是图解了电磁继电器100的分解透视图。图2A是图解了电磁体32R的分解透视图。图2B是图解了组装有线筒(bobbin) 16、电枢(armature)24和电磁体32R的构造的透视图。图3A是图解了组装有卡(card)14、线筒16、电枢24、电磁体32R和接触构件(即，可运动的接触构件18和固定的接触构件20和22)的构造的透视图。图3B是图解了电磁继电器100的透视图。 如图1所示，电磁继电器100包括盖10、壳体12、卡14、线筒16、接触构件、电枢24和电磁体32R。 如图2A和2B所示，电磁体32R包括线筒16、线圈26和铁芯28。线圈26卷绕在线筒16的区域16a上。在区域16a内部形成气孔16b。铁芯28插入到气孔16b中。如稍后描述的那样，铁芯28的端面28a用作电磁体32R的吸引表面。穿过端面28a的槽28b设置在端面28a上。可以设想的是，端面28a中由槽28b分隔开的一个区域是第一区域28c，而端面28a中的另一个区域是第二区域28d。如图2A中的虚线图解的那样，铁芯28穿过校正线圈(shading coil) 30的孔30a。校正线圈30装配到槽28b中，以便例如包围第一区域28c。如下所述,将填塞(caulking)工艺应用到第一区域28c,使得校正线圈30固定到铁芯28。线筒16的端子16c电连接到线圈26。电枢24设置成与端面28a相对。线筒16插入到壳体12的气孔12a中。 如图1和图3A所示,可运动接触构件18包括端子18a、以及电连接到端子18a的可运动接触件18b。固定的接触构件20包括端子20a、以及电连接到端子20a的固定的接触件20b。端子18a、20a和22a中的每一个是用于实施电磁继电器100和外部装置之间的电连接的端子。如图3A所示，接触构件安装在壳体12上，以便经由线筒16位于与端面28a相对的侧部上。从线筒16附近的位置，相继布置有固定的接触构件20、可运动接触构件18和固定的接触构件22。卡14放置在壳体12上并且与电枢24相联接。如图3B所示，盖10设置成穿过卡14覆盖壳体12。 当没有将电压施加到线圈26时，电磁体32R没有产生磁力。因此，电枢24没有被吸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电磁继电器（100），所述电磁继电器的特征在于包括：铁芯（28），所述铁芯具有端面（28a）和穿过所述端面的槽（28b）；和校正线圈（30），所述校正线圈装配在所述槽中；其中，通过将填塞工艺应用于所述端面中的夹着所述槽的多个区域（28c，28d，42），将所述校正线圈固定到所述铁芯。

【技术特征摘要】
2012.11.29 JP 2012-2613981.一种电磁继电器(100),所述电磁继电器的特征在于包括: 铁芯(28)，所述铁芯具有端面(28a)和穿过所述端面的槽(28b);和 校正线圈(30)，所述校正线圈装配在所述槽中； 其中，通过将填塞工艺应用于所述端面中的夹着所述槽的多个区域(28c，28d，42)，将所述校正线圈固定到所述铁芯。2.根据权利要求1所述的电磁继电器，其特征在于，所述填塞工艺在夹着所述槽(28b)的两个端部(28b-l)的位置中应用于所述区域(28c，28d，42)。3.—种电磁继电器(100),其特征在于包括: 铁芯(28 )，所述铁芯具有端面(28a)和穿过所述端面的槽(28b );和 校正线圈(30)，所述校正线圈装配在所述槽中； 其中，通过将填塞工艺应 用于所述端面，将所述校正线圈固定到所述铁芯，并且所述端面的除了应用所述填塞工艺的区域(42)之外的至少一部分(28f)被整平。4.根据权利要求3所述的电磁继电器，其特征在于，Btt连应用所述填塞工艺的区域(42)的区域(28f)被整平。5.—种电磁继电器(100),所述电磁继电器的特征在于包括: 铁芯(28 )，所述铁芯具有端面(28a)和穿过所述端面的槽(28b ); 校正线圈(30)，所述校正线圈装配在所述槽中；和 保持单元(16e)，所述保持单元设置在插入有所述铁芯的线筒(16)中，并且所述保持单元保持所述校正线圈的外周面。6.根据权利要求5所述的电磁继电器，其特征在于，所述线筒包括:贮存单元(16d)，所述贮存单元贮存所述校正线圈；和多个保持单元(16e)，所述多个保持单元从所述贮存单元的内壁朝向所述校正线圈突出...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林超，高野哲，
申请(专利权)人：富士通电子零件有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP