本实用新型专利技术公开了一种匀胶机的防护装置及配备该装置的匀胶机，属于半导体器件生产用具领域。它包括中心板，还包括气管和环形防护罩，所述的中心板为圆形；所述的环形防护罩为环状结构，固定在中心板的四周；所述的环形防护罩由第一斜板、底板、竖直板、顶板和第二斜板依次连接组成；所述的环形防护罩内形成一个空腔；所述的第一斜板和第二斜板位于环形防护罩的内侧，第一斜板和第二斜板之间构成“八”字形；气管与环形防护罩的空腔连接。本实用新型专利技术一方面能改善工作环境，另一方面能及时抽走多余的胶丝，避免了由于光刻胶的回溅和胶丝的污染造成的光刻返工和刻蚀异常，提高了生产效率。
【技术实现步骤摘要】
本技术属于半导体器件生产用具领域，具体地说，涉及一种匀胶机的防护装 置及配备该装置的匀胶机。 一种匀胶机的防护装置及配备该装置的匀胶机
技术介绍
半导体，指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体在收音机、电视 机以及测温上有着广泛的应用。二极管是半导体。在半导体加工工艺中需要进行涂胶处理， 而涂胶经常采用的是匀胶机，匀胶机适用于在基片表面制作薄膜，其工作原理是将待涂胶 的基片高速旋转，使滴在基片上的胶液在表面张力和旋转离心力的联合作用下被展成一层 均匀的薄膜，可以通过胶液的浓度和匀胶机的转速来控制胶膜的厚度。随着芯片尺寸的不 断发展，对匀胶的质量要求越来越严格，特别是匀胶过程中由于芯片高速旋转（2000-10000 转/分）过程中，会将光刻胶飞速的甩出，碰到匀胶机的其他部件后会发生回溅，如果回溅 到芯片上，会在芯片表面形成胶点，造成匀胶不合格，需进行返工处理。部分胶由于粘度较 大，在匀胶过程中会产生大量的飞絮状胶丝，该胶丝也常落在芯片的表面，造成匀胶不合 格,降低了生产效率和增加企业原材料成本。 匀胶机的应用很普遍，例如，中国专利申请号：2012105634536,申请日2012年12 月22日，公开了一份名称为一种基于光发射二极管紫外灯光的微流体制备方法的专利申 请文件，该方法利用20mW/cm2低功率紫外光（365nm)刻蚀涂在硅表面的有机涂层，形成最 小宽度约50 μ m的槽，槽的横截面为矩形，立面高度可以通过调节匀胶机转数进行控制。在 整个工艺过程中，操作环境可在超净环境内完成，也可在普通暗室内完成。相比于传统方 法，该微流体制备方法方便简单，成本低，易于普及。而该专利技术的实现，很大部分也是借助于 匀胶机，可见，匀胶机的应用很普遍。 匀胶机的种类有很多，例如中国专利号：201020693622. 4,【公开日】2012年01月04 日，该技术公开了一种匀胶机，包括机架和旋转轴，还包括固定在所述机架上的轴套， 所述机架设有与所述轴套适配的空腔，所述轴套放入所述空腔后被固定；所述轴套为管状 与所述旋转轴适配，所述旋转轴通过可转动的固定在所述轴套中。这种匀胶机通过设置固 定在机架上的与旋转轴适配的轴套，当匀胶机因碎片或其他原因导致胶渗入需要清洗时， 只需要拆下轴套即可以进行清洗，是一种容易拆卸清洗的匀胶机。但是现有的匀胶机的改 进都是围绕在怎么提高均胶的效果上下功夫，很少有人去关注普通操作工人的痛苦，而实 际操作中，匀胶过程中由于芯片高速旋转，光刻胶飞速的甩出不但容易造成回溅到芯片上， 使得芯片表面形成胶点，造成匀胶不合格，而且产生的大量飞絮状胶丝，还对生产环境造成 影响，恶化生产环境，同时降低了生产效率，增加企业原材料成本，所以迫切需要提供一种 能解决甩胶问题的方案。
技术实现思路
1、要解决的问题 针对现有匀胶机工作过程中出现甩胶以及容易造成回溅到芯片上，使得芯片表面 形成胶点，造成匀胶不合格，而且产生的大量飞絮状胶丝，对生产环境造成影响，同时降低 了生产效率，增加企业原材料成本的问题，本技术提供一种匀胶机的防护装置及配备 该装置的匀胶机，其不但能解决甩胶回溅的问题，而且提供了一种优化的方案，改善工作环 境。 2、技术方案 为解决上述问题，本技术采用如下的技术方案。 -种匀胶机的防护装置，包括中心板，还包括气管和环形防护罩，所述的中心板为 圆形；所述的环形防护罩为环状结构，固定在中心板的四周；所述的环形防护罩由第一斜 板、底板、坚直板、顶板和第二斜板依次连接组成；所述的环形防护罩内形成一个空腔；所 述的第一斜板和第二斜板位于环形防护罩的内侧，第一斜板和第二斜板之间构成八字 形；气管与环形防护罩的空腔连接。 优选地，所述的第一斜板与坚直方向的夹角为30-60°，第二斜板与坚直方向的夹 角为 30-60°。 优选地，所述的第一斜板与坚直方向的夹角为45°，第二斜板与坚直方向的夹角 为 45°。 优选地，所述的气管连接在环形防护罩空腔的中上部。 优选地，所述的气管的数量为1-6个。 优选地，所述的气管的数量为2个。 所述的中心板的中间设有装配孔。 一种匀胶机，配置了上述匀胶机的防护装置。 3、有益效果 相比于现有技术，本技术的有益效果为： (1)本技术还包括气管和环形防护罩，环形防护罩为环状结构，固定在中心板 的四周，环形防护罩由第一斜板、底板、坚直板、顶板和第二斜板依次连接组成，环形防护罩 内形成一个空腔，第一斜板和第二斜板位于环形防护罩的内侧，第一斜板和第二斜板之间 构成八字形，当胶甩到第一斜板和第二斜板上时，不会回溅到芯片上，防止芯片不合格， 气管与环形防护罩的空腔连接，可以将气管接到抽风系统，一方面改善工作环境，另一方面 及时抽走多余的胶丝，避免了由于光刻胶的回溅和胶丝的污染造成的光刻返工和刻蚀异 常，提商了生广效率； (2)本技术第一斜板与坚直方向的夹角为30-60°，第二斜板与坚直方向的 夹角为30-60°能更好的防止甩胶回弹到芯片上，尤其是与坚直方向的夹角为45°时防回 弹的效果最好； (3)本技术气管连接在环形防护罩空腔的中上部，促进大胶粒的沉淀，方便回 收； (4)本技术气管的数量为1-6个，能及时的将甩胶吸收到环形防护罩的空腔 中，综合效果和成本，气管的数量为2个时最划算； (5)本技术结构简单，设计合理，易于制造。 【附图说明】 图1为本技术的结构示意图； 图2为本技术实施例2的俯视图。 图中：1、气管；2、中心板；3、环形防护罩；31、第一斜板；32、底板；33、坚直板；34、 顶板；35、第二斜板。 【具体实施方式】 下面结合附图对本技术进行详细描述。 实施例1 如图1所示，一种匀胶机的防护装置，包括中心板2、气管1和环形防护罩3,中心 板2为圆形；环形防护罩3为环状结构，固定在中心板2的四周；环形防护罩3由第一斜板 31、底板32、坚直板33、顶板34和第二斜板35依次连接组成；环形防护罩3内形成一个空 腔；第一斜板31和第二斜板35位于环形防护罩3的内侧，第一斜板31和第二斜板35之 间构成八字形；气管1与环形防护罩3的空腔连接。第一斜板31与坚直方向的夹角为 45°，第二斜板35与坚直方向的夹角为45°。气管1连接在环形防护罩3空腔的中上部， 气管1的数量为2个。中心板2的中间设有装配孔。 使用时，将匀胶机的转轴插入中心板2中间的装配孔中，将气管1与抽气系统连 接，对芯片进行涂胶处理，在涂胶的过程中，滴在芯片上的胶液在表面张力和旋转离心力的 联合作用下被展成一层均匀的薄膜，涂胶过程中由于芯片高速旋转过程中，会将光刻胶飞 速的甩出，此时会甩到第一斜板31和第二斜板35上，由于斜板是倾斜的，所以不会回弹到 芯片上，同时由于气管1与抽气系统连接，甩胶被抽吸到环形防护罩3内形成的空腔中，一 方面能改善工作环境，另一方面及时抽走多余的胶丝，避免了由于光刻胶的回溅和胶丝的 污染造成的光刻返工和刻蚀异常，提高了生产效率。 一种匀胶机，配置了上述匀胶机的防护装置。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种匀胶机的防护装置，包括中心板(2)，其特征在于：还包括气管(1)和环形防护罩(3)，所述的中心板(2)为圆形；所述的环形防护罩(3)为环状结构，固定在中心板(2)的四周；所述的环形防护罩(3)由第一斜板(31)、底板(32)、竖直板(33)、顶板(34)和第二斜板(35)依次连接组成；所述的环形防护罩(3)内形成一个空腔；所述的第一斜板(31)和第二斜板(35)位于环形防护罩(3)的内侧，第一斜板(31)和第二斜板(35)之间构成“八”字形；气管(1)与环形防护罩(3)的空腔连接。
【技术特征摘要】
1. 一种匀胶机的防护装置，包括中心板（2)，其特征在于：还包括气管（1)和环形防护 罩（3)，所述的中心板（2)为圆形；所述的环形防护罩（3)为环状结构，固定在中心板（2)的 四周；所述的环形防护罩（3)由第一斜板（31)、底板（32)、坚直板（33)、顶板（34)和第二 斜板（35)依次连接组成；所述的环形防护罩（3)内形成一个空腔；所述的第一斜板（31)和 第二斜板（35)位于环形防护罩（3)的内侧，第一斜板（31)和第二斜板（35)之间构成八 字形；气管（1)与环形防护罩（3)的空腔连接。2. 根据权利要求1所述的一种匀胶机的防护装置，其特征在于：所述的第一斜板（31) 与坚直方向的夹角为30-60°，第二斜板（35)与坚直方向的夹...
【专利技术属性】
技术研发人员：廖伟，秦坤，李有群，廉鹏，
申请(专利权)人：马鞍山太时芯光科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。