本发明专利技术公开了一种匀胶机托盘结构，包括：硅片承片台和真空吸片结构，所述硅片承片台的顶端有一硅片承载平面，沿着所述硅片承载平面的中心向内开设有一储胶槽，并且所述储胶槽的槽壁为向内凹进的圆弧形，在所述储胶槽的中间还设有一圆台形的凸台；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm。通过上述方式，本发明专利技术能够有效地阻挡光刻胶被吸入真空吸片口内，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞；同时具有大容量储胶槽，能够储存较多被甩出的光刻胶，并防止流入储胶槽内的光刻胶再次被甩出，避免了对匀胶台的损伤。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种匀胶机托盘结构，包括：硅片承片台和真空吸片结构，所述硅片承片台的顶端有一硅片承载平面，沿着所述硅片承载平面的中心向内开设有一储胶槽，并且所述储胶槽的槽壁为向内凹进的圆弧形，在所述储胶槽的中间还设有一圆台形的凸台；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm。通过上述方式，本专利技术能够有效地阻挡光刻胶被吸入真空吸片口内，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞；同时具有大容量储胶槽，能够储存较多被甩出的光刻胶，并防止流入储胶槽内的光刻胶再次被甩出，避免了对匀胶台的损伤。【专利说明】匀胶机托盘结构
本专利技术涉及匀胶机设备领域，特别是涉及一种匀胶机托盘结构。
技术介绍
现有的光刻胶匀胶台采用真空吸片的方式吸住硅片，但现有的硅片承片台无法有效的阻挡光刻胶在甩动过程中渗入真空吸片口中，如图1所示的现有技术，硅片与真空吸片口直接接触，匀胶机在高速旋转过程中，光刻胶受旋转离心力和表面张力的联合作用，被展开成一层薄膜，其中甩动过程中被甩出至硅片边缘的胶滴，由于硅片边缘与承片台吸片口的压力差和胶体的表面张力的作用，部分硅片边缘的胶滴会沿着硅片的背面被吸入真空吸片口中，从而堵塞真空吸片口，造成真空吸片口吸力不足，从而造成光刻胶薄膜的均匀性变差，同时会对勻胶台造成损伤。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种匀胶机托盘结构，能够有效地阻挡光刻胶被吸入真空吸片口内，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞；同时具有大容量储胶槽，能够储存较多被甩出的光刻胶，并防止流入储胶槽内的光刻胶再次被甩出，避免了对匀胶台的损伤。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是:提供一种匀胶机托盘结构，包括:硅片承片台和真空吸片结构，所述硅片承片台的顶端有一硅片承载平面，所述硅片承载平面为一圆形水平面，沿着所述硅片承载平面的中心向内开设有一储胶槽，并且所述储胶槽的槽壁为向内凹进的圆弧形，在所述储胶槽的中间还设有一圆台形的凸台；所述真空吸片结构包括:上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm。在本专利技术一个较佳实施例中，所述储胶槽呈圆形碗体结构。在本专利技术一个较佳实施例中，所述储胶槽包括槽口和槽底，并且所述槽口面积大于槽底的面积。在本专利技术一个较佳实施例中，所述真空吸片口的圆心与所述硅片承载平面的圆心在同一垂直线上。本专利技术的有益效果是:本专利技术匀胶机托盘结构，在硅片承片台的中间开设储胶槽，并且储胶槽呈圆形碗体结构，其槽壁为向内凹进的圆弧形，同时真空吸片口与硅片承载平面间留有一定的距离，使光刻胶在甩动过程中被甩出至硅片背面的胶水在重力的作用下首先流入到储胶槽中，从而能够有效地阻挡光刻胶被吸入真空吸片口内，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞，同时该储胶槽具有储胶量大的特点，且圆弧形槽壁能防止光刻胶在离心力作用下再次被甩出，从而有效避免了对匀胶台的损伤。【专利附图】【附图说明】图1是现有匀胶机托盘结构示意图； 图2是本专利技术匀胶机托盘结构一较佳实施例的主视结构示意图； 图3是图2所示的俯视结构示意图； 图4是图2所示处于工作状态的结构示意图； 附图中各部件的标记如下:1、硅片承片台，2、真空吸片结构，3、硅片，10、硅片承载平面，11、储胶槽，12、凸台，20、上端，21、真空吸片口，110、槽口，111、槽底，112、弧形槽壁，H、真空吸片口与硅片承载平面间的垂直距离。【具体实施方式】下面结合附图对本专利技术的较佳实施例进行详细阐述，以使本专利技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本专利技术的保护范围做出更为清楚明确的界定。请参阅图2和图3，本专利技术实施例包括: 一种匀胶机托盘结构，包括:硅片承片台I和真空吸片结构2，所述硅片承片台I的顶端有一硅片承载平面10，所述硅片承载平面10为一圆形水平面，沿着所述硅片承载平面10的中心向内开设有一储胶槽11，并且所述储胶槽11的槽壁112为向内凹进的圆弧形，在所述储胶槽11的中间还设有一圆台形的凸台12 ;所述真空吸片结构2包括:上端20和真空吸片口 21，所述上端20位于所述凸台12内，所述真空吸片口 21位于所述上端20的顶部，并且所述真空吸片口 21与所述硅片承载平面10间的垂直距离H大于3mm。真空吸片口21与硅片不直接接触，两者间留有一定的间隙，从而使光刻胶在甩动过程中被甩出至硅片背面的胶水在外界大气压和储胶槽内低压的气压差及重力的作用下首先流入到储胶槽11中，从而能够有效地阻挡光刻胶被吸入真空吸片口 21内；储胶槽11的槽壁112为向内凹进的圆弧形，增大了储胶槽11的容量，同时能够避免储存在槽内的光刻胶受离心力作用再次被甩出。其中，所述储胶槽11呈圆形碗体结构，具有储胶量大的特点，能够储存较多的光刻胶，可以减少清理储胶槽11的次数；所述储胶槽11包括:槽口 110和槽底111，并且所述槽口 110面积大于槽底111的面积，槽口 110的面积较大能保证匀胶机旋转中甩出硅片边缘的光刻胶全部渗入到储胶槽11中。并且所述真空吸片口 21的圆心与所述硅片承载平面10的圆心在同一垂直线上，即圆心对齐，以实现滴在硅片表面上的光刻胶在旋转离心力和表面张力的联合作用下的均匀涂覆并展成一层均匀的薄膜。工作过程如下:如图4所示，首先把硅片3放置在硅片承载平面10上，并使两者的圆心对齐，然后打开真空吸片结构2，真空吸片口 21开始抽气，空气从上往下被抽走，从而使硅片3的背面及储胶槽11处于负气压状态，即硅片3的背面及储胶槽11形成一个真空腔体，使硅片3正面的大气压力大于其背面的大气压力，从而把硅片3牢牢吸附在硅片承载平面10上，然后在硅片3静止或低速旋转的同时进行滴胶，其中滴胶量根据光刻胶的粘度和硅片的大小来确定，滴胶结束后，匀胶机高速旋转使光刻胶层变薄达到最终要求的膜厚。其中甩动过程中被甩出至硅片3边缘的胶滴，由于硅片3边缘与真空吸片口 21的压力差和胶体的表面张力的作用，硅片3边缘的胶滴会沿着硅片3的背面向真空吸片口 21附近移动，在移动过程中，光刻胶滴先遇到储胶槽11的槽口 110，由于光刻胶滴所受储胶槽11内外气压压力差、以及光刻胶滴的重力大于其表面张力，故胶滴会下滴至储胶槽11中并储存在其中，但是由于匀胶台高速旋转过程中，在储胶槽11中的胶滴受离心力的作用，仍然会向四周甩动，圆弧形的储胶槽壁112能避免胶滴再次甩动时被吸入到真空吸片口 21内，从而避免了真空吸片口 21吸入光刻胶造成堵塞，同时圆形碗体结构的储胶槽11具有储胶量大的特点，可以减少清理储胶槽11的次数，减轻了工作量。以上所述仅为本专利技术的实施例，并非因此限制本专利技术的专利范围，凡是利用本专利技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的
，均同理包括在本专利技术的专利保护范围内。【权利要求】1.一种匀胶机托盘结构，包括:硅片承片台和真空吸片结构，其特征在于，所述硅片承片台的顶端有一硅片承载平面，所述硅片承载平面为一圆形水平面，沿着所述硅片承载平面的中心向内开设有一储胶槽，并且所述储胶本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种匀胶机托盘结构，包括：硅片承片台和真空吸片结构，其特征在于，所述硅片承片台的顶端有一硅片承载平面，所述硅片承载平面为一圆形水平面，沿着所述硅片承载平面的中心向内开设有一储胶槽，并且所述储胶槽的槽壁为向内凹进的圆弧形，在所述储胶槽的中间还设有一圆台形的凸台；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：花国然，王强，朱海峰，徐影，邓洁，
申请(专利权)人：南通大学，
类型：发明
国别省市：
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