一种高强度的投射式电容屏及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种高强度的投射式电容屏及其制作方法，该高强度的投射式电容屏包括第一玻璃基板、设置于第一玻璃基板上的第一ITO层、第二玻璃基板、设置于第二玻璃基板上的第二ITO层，第一TIO层与第二ITO层之间通过压合层连接；第一玻璃基板为钢化玻璃基板；第一ITO层包括由若干X轴方向电极形成的X轴电极层，第二ITO层包括由若干Y轴方向电极形成的Y轴电极层；X轴电极层边缘上还设有与X轴电极层相连的X金属线，Y轴电极层边缘上还设有与Y轴电极层相连的Y金属线，X金属线与Y金属线分别与柔性线路板相连；压合层为EVA胶层或PVB胶层。该投射式电容屏的抗冲击强度强，且其制作方法中节省搭桥工艺，可有效提高产品良率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电容屏领域，尤其涉及。
技术介绍
投射式电容屏是采用投射电容触控技术的屏幕，触摸屏面板能在手指触碰到时检 测到该位置电容的变化从而计算出手指所在，进行多点触控操作。投射式电容屏广泛应用 于我们日常生活各个领域，如手机、平板电脑、媒体播放器、导航系统、数码相机、电器控 制、医疗设备等等。 投射电容式触摸屏是在两层ΙΤ0导电玻璃涂层上蚀刻出不同的ΙΤ0导电线路模 块。两个模块上蚀刻的图形相互垂直，可以把它们看作是X和Y方向连续变化的滑条。由 于x、Y架构在不同表面，其相交处形成一电容节点。一个滑条可以当成驱动线，另外一个滑 条当成是侦测线。当电流经过驱动线中的一条导线时，如果外界有电容变化的信号，那么就 会引起另一层导线上电容节点的变化。侦测电容值的变化可以通过与之相连的电子回路测 量得到，再经由A/D控制器转为数字讯号让计算机做运算处理取得（Χ，Υ)轴位置，进而达到 定位的目地。 现有技术中的投射式电容屏主要有以下几种结构：（1)GG模式；其中第一个G为保 护玻璃，第二个G是SENSOR传感器，即双面ΙΤ0玻璃，将X方向电极形成的X轴电极层的图 案和Y方向电极形成的Y轴电极图案分别做到双面ΙΤ0玻璃的两个面，并使用金属线将X 方向电极和Y方向电极引出，该GG结构采用双层玻璃，结构较为厚重。（2)GFF模式；其中G 是保护玻璃，F是ΙΤ0膜，用于分别将X轴电极图案与Y轴电极图案分别做到两个ΙΤ0膜， 再使用0CA贴合；GFF模式制作过程中需使用0CA贴合三次，其透光性不好而且良率难以控 制。（3) GF2模式；其中G是保护玻璃，F是双面ΙΤ0膜，分别将X轴电极图案和Y轴电极图 案做到F的正反两面，通过0CA贴合，并使用金属线将X方向电极和Y方向电极引出；其制 作过程中需在ΙΤ0膜的双面分别制作与X轴电极图案和Y轴电极图案相连的金属线，制作 困难且难以控制良率，而且其消影效果不好。（4)0GS模式，即在一层保护玻璃上直接形成 ΙΤ0导电膜及传感器的技术，即将X轴电极图案和Y轴电极图案均制作在保护玻璃上，其过 程中需要对X轴电极和Y轴电极进行搭桥，并分别制作与X轴电极图案和Y轴电极图案相 连的金属线路，制作困难且难以控制良率。 现有技术中投射式电容屏的保护玻璃容易发生破碎，无法适用于需高强度领域， 如为迎合市场需求，需要制作防摔的电容屏等领域。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题在于，针对现有技术的缺陷，提供一种高强度的投射式 电容屏及其制作方法。 本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种高强度的投射式电容屏，包括 第一玻璃基板、设置于所述第一玻璃基板上的第一 ΙΤ0层、第二玻璃基板、设置于所述第二 玻璃基板上的第二ITO层，所述第一 TIO层与所述第二ITO层之间使用高强度的压合层连 接；所述第一玻璃基板为钢化玻璃基板；所述第一 ΙΤ0层包括由若干X轴方向电极形成的X 轴电极层，所述第二ΙΤ0层包括由若干Υ轴方向电极形成的Υ轴电极层；所述高强度的投射 式电容屏还包括设置于所述X轴电极层边缘的与所述X轴电极层相连的X金属线和设置于 所述Υ轴电极层边缘的与所述Υ轴电极层相连的Υ金属线，所述X金属线与所述Υ金属线 分别与柔性线路板相连；所述压合层为EVA胶层或PVB胶层。 优选地，所述第一玻璃基板与第一 ΙΤ0层之间、所述第二玻璃基板与第二ΙΤ0层之 间均设有用于消除光折射率的消影层。 优选地，所述第一玻璃基板的边缘设有釉彩边框层。 本专利技术还提供一种高强度的投射式电容屏的制作方法，包括以下步骤： S1、对第一玻璃基板进行钢化处理，以形成钢化玻璃基板； S2、在钢化玻璃基板上制作第一 ΙΤ0层，所述第一 ΙΤ0层包括由若干X轴方向电极 形成的X轴电极层；并在所述X轴电极层边缘制作与所述X轴电极层相连的X金属线，将X 金属线绑定到柔性线路板上； S3 :在第二玻璃基板上制作第二ΙΤ0层，所述第二ΙΤ0层包括由若干Y轴方向电极 形成的Y轴电极层；并在所述Y轴电极层边缘制作与所述Y轴电极层相连的Y金属线，将Y 金属线绑定到柔性线路板上； S4 :在设有第一 ΙΤ0层的第二玻璃基板和设有第一 ΙΤ0层的钢化玻璃基板之间放 置压合胶，压合以形成压合层。 优选地，所述步骤S1包括：采用物理或化学方法对第一玻璃基板进行钢化处理， 以形成钢化玻璃基板； 所述采用物理方法对第一玻璃基板进行钢化处理，包括：将所述第一玻璃基板放 置在加热炉中进行加热至接近第一玻璃基板的软化温度软化后，采用多头喷嘴向第一玻璃 基板的两面吹高压冷空气，使其迅速均匀冷却至室温，得到钢化玻璃基板； 所述采用化学方法对第一玻璃基板进行钢化处理，包括：采用高温型离子交换法 或低温型离子交换法对第一玻璃基板进行处理。 优选地，在步骤S1之前还包括步骤so:采用丝印方式将低温釉料丝印到所述第一 玻璃基板的边缘上，制得釉彩边框层；并在所述第一玻璃基板和所述第二玻璃基板上制作 用于消除光折射率的消影层。 优选地，所述步骤S2包括： S21 :在真空条件下，采用溅射方式在所述钢化玻璃基板上镀氧化铟锡层； S22:在真空条件下，采用溅射方式在镀有氧化铟锡层的一面镀金属层，所述金属 层设置在所述釉彩边框层上；在所述金属层上采用覆膜方式覆上干膜，使用光罩曝光X金 属线的图案；使用显影剂将所述X金属线显影，并使用不与干膜反应的退镀液退镀所述金 属层，制得所述X金属线； S23 :在制得所述X金属线的钢化玻璃基板上覆上干膜，使用光罩曝光由若干X轴 方向电极形成X轴电极层的图案；所述X金属线与所述X轴电极层相连； S24 :使用显影剂将X轴电极层的图案显影，采用蚀刻液对氧化铟锡层进行蚀刻； S25 :采用去墨液将干膜去除，清洗并干燥，以制作X轴电极层； S26 :将所述X金属线绑定到柔性线路板上； 或所述步骤S2包括： S21 :在真空条件下，采用溅射方式在所述钢化玻璃基板上镀氧化铟锡层； S22 :在溅射有氧化铟锡层的所述钢化玻璃基板上覆上干膜，使用光罩曝光由X轴 方向电极形成的X轴电极层的图案； S23 :使用显影剂将X轴电极层的图案显影，采用蚀刻液对氧化铟锡层进行蚀刻； S24 :采用去墨液将干膜去除，清洗并干燥，以制作X轴电极层； S25 :在所述釉彩边框层上采用丝印方式丝印X金属线，并在140?160°C温度下 烘烤50?70min，以制得所述X金属线，将X金属线绑定到柔性线路板上。 优选地，所述步骤S3包括： S31 :在真空条件下，采用溅射方式在所述第二玻璃基板上镀氧化铟锡层； S32:在真空条件下，采用溅射方式在镀有氧化铟锡层的一面镀金属层，所述金属 层设置在所述第二玻璃基板上；在所述金属层上采用覆膜方式覆上干膜，使用光罩曝光Y 金属线的图案；使用显影剂将所述Y金属线显影，并使用不与干膜反应的退镀液退镀所述 金属层，制得所述Y金属线； S33 :在制得所述Y金属线的第二玻璃基板上覆上干膜，使用光罩曝光由若干Y轴 方向电极形成Y轴电极层的图案；所述Y金属线与所述Y电极层相连； 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高强度的投射式电容屏，其特征在于：包括第一玻璃基板（1）、设置于所述第一玻璃基板（1）上的第一ITO层（2）、第二玻璃基板（3）、设置于所述第二玻璃基板（3）上的第二ITO层（4），所述第一TIO层与所述第二ITO层（4）之间使用高强度的压合层（7）连接；所述第一玻璃基板（1）为钢化玻璃基板；所述第一ITO层（2）包括由若干X轴方向电极形成的X轴电极层，所述第二ITO层（4）包括由若干Y轴方向电极形成的Y轴电极层；所述高强度的投射式电容屏还包括设置于所述X轴电极层边缘的与所述X轴电极层相连的X金属线（5）和设置于所述Y轴电极层边缘的与所述Y轴电极层相连的Y金属线（6），所述X金属线（5）与所述Y金属线（6）分别与柔性线路板相连；所述压合层（7）为EVA胶层或PVB胶层。

【技术特征摘要】
1. 一种高强度的投射式电容屏，其特征在于：包括第一玻璃基板（1)、设置于所述第一 玻璃基板（1)上的第一 ITO层（2)、第二玻璃基板（3)、设置于所述第二玻璃基板（3)上的第 二ITO层（4)，所述第一 TIO层与所述第二ITO层（4)之间使用高强度的压合层（7)连接； 所述第一玻璃基板（1)为钢化玻璃基板；所述第一 ITO层（2)包括由若干X轴方向电极形成 的X轴电极层，所述第二ITO层（4)包括由若干Y轴方向电极形成的Y轴电极层；所述高强 度的投射式电容屏还包括设置于所述X轴电极层边缘的与所述X轴电极层相连的X金属线 (5)和设置于所述Y轴电极层边缘的与所述Y轴电极层相连的Y金属线（6)，所述X金属线 (5)与所述Y金属线（6)分别与柔性线路板相连；所述压合层（7)为EVA胶层或PVB胶层。2. 根据权利要求1所述的高强度的投射式电容屏，其特征在于：所述第一玻璃基板（1) 与第一 ITO层（2)之间、所述第二玻璃基板（3)与第二ITO层（4)之间均设有用于消除光折 射率的消影层（9)。3. 根据权利要求1所述的高强度的投射式电容屏，其特征在于：所述第一玻璃基板（1) 的边缘设有釉彩边框层（8)。4. 一种权利要求1?3任一项所述高强度的投射式电容屏的制作方法，其特征在于： 包括以下步骤： 51、 对第一玻璃基板（1)进行钢化处理，以形成钢化玻璃基板； 52、 在钢化玻璃基板上制作第一 ITO层（2)，所述第一 ITO层（2)包括由若干X轴方向 电极形成的X轴电极层；并在所述X轴电极层边缘制作与所述X轴电极层相连的X金属线 (5)，将X金属线（5)绑定到柔性线路板上； 53 :在第二玻璃基板（3)上制作第二ITO层（4)，所述第二ITO层（4)包括由若干Y轴 方向电极形成的Y轴电极层；并在所述Y轴电极层边缘制作与所述Y轴电极层相连的Y金 属线（6)，将Y金属线（6)绑定到柔性线路板上； 54 :在设有第一 ITO层（2)的第二玻璃基板（3)和设有第一 ITO层（2)的钢化玻璃基板 之间放置压合胶，压合以形成压合层（7 )。5. 根据权利要求4所述的高强度的投射式电容屏的制作方法，其特征在于：所述步骤 S1包括：采用物理或化学方法对第一玻璃基板（1)进行钢化处理，以形成钢化玻璃基板； 所述采用物理方法对第一玻璃基板（1)进行钢化处理，包括：将所述第一玻璃基板（1) 放置在加热炉中进行加热至接近第一玻璃基板（1)的软化温度软化后，采用多头喷嘴向第 一玻璃基板（1)的两面吹高压冷空气，使其迅速均匀冷却至室温，得到钢化玻璃基板； 所述采用化学方法对第一玻璃基板（1)进行钢化处理，包括：采用高温型离子交换法 或低温型离子交换法对第一玻璃基板（1)进行处理。6. 根据权利要求4所述的高强度的投射式电容屏的制作方法，其特征在于：在步骤S1 之前还包括步骤SO :采用丝印方式将低温釉料丝印到所述第一玻璃基板（1)的边缘上，制 得釉彩边框层（8);并在所述第一玻璃基板（1)和所述第二玻璃基板（3)上制作用于消除光 折射率的消影层（9)。7. 根据权利要求6所述的高强度的投射式电容屏的制作方法，其特征在于：所述步骤 S2包括： S21 :在真空条件下，采用溅射方式在所述钢化玻璃基板上镀氧化铟锡层； S22:在真空条件下，采用溅射方式在镀有氧化铟锡层的一面镀金属层，所述金属层设 置在所述釉彩边框层（8)上；在所述金属层上采用覆膜方式覆上干膜，使用光罩曝光X金属 线（5)的图案；使用显影剂将所述X金属线（5)显影，并使用不与干膜反应的退镀液退镀所 述金属层，制得所述X金属线（5); 523 :在制得所述X金属线（5)的钢化玻璃基板上覆上干膜，使用光罩曝光由若干X轴 方向电极形成X轴电极层的图案；所述X金...

【专利技术属性】
技术研发人员：向火平，
申请(专利权)人：向火平，
类型：发明
国别省市：广东;44