包括铰链组件的等离子体处理组件制造技术

在一个实施方式中，等离子体处理组件可以包括耦合到铰链体的上处理体和耦合到基部铰链构件的下处理体。所述铰链体能与所述基部铰链构件可枢转地接合。自锁闩能与所述基部铰链构件可枢转地接合。当铰链体围绕第一旋转轴旋转时，凸锁闩接合构件能接触所述自锁闩并且使所述自锁闩围绕第二旋转轴沿与偏置方向相反的方向旋转。所述自锁闩能围绕第二旋转轴沿偏置方向旋转并且能阻止所述铰链体围绕第一旋转轴旋转。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包括铰链组件的等离子体处理组件
本说明书总体上涉及等离子体处理组件，并且更具体地，涉及包括铰链组件的等离子体处理组件。
技术介绍
等离子体处理组件能够被用来将材料从由例如半导体或玻璃形成的基底蚀刻掉。等离子体处理组件可以包括包围等离子体处理气体的真空室，该处理气体能够被离子化并且转化为等离子体。例如射频源(RF源)能够向处理气体施加射频能量(RF能源)以产生等离子体。在一些等离子体处理组件中，多个电极和电介质环能够同心地对准以将RF能量导向基底的期望的部分。此外，一个电极能够耦合到下处理体并且另一个电极能够耦合到上处理体。下处理体和上处理体能够可枢转地彼此啮合以便相对旋转运动。例如:上处理体可以周期性地旋转远离下处理体以便维护和/或清洗下处理体。这种周期性的维护能够导致上处理体和下处理体之间的错位。因此，需要一种附加的包括铰链组件的等离子体处理组件。
技术实现思路
在一种实施方式中，等离子体处理组件可以包括:下处理体、基部铰链构件、铰链体、以及自锁闩。下处理体可以包括形成于其中的下真空室。基部铰链构件能被安装到下处理体。铰链体能与基部铰链构件可枢转地接合。铰链体能被安装到上处理体。基部铰链构件和铰链体能够彼此围绕第一旋转轴相对转动，使得上处理体的运动由基部铰链构件和铰链体约束。铰链体可以包括凸锁R接合构件。自锁R能与基部铰链构件可枢转地接合。自锁闩和基部铰链构件能彼此围绕第二旋转轴相对转动。自锁闩能被偏置在偏置方向。当铰链体围绕第一旋转轴从闭合位置并朝向锁定位置旋转时，凸锁闩接合构件能接触自锁闩并且能使自锁闩围绕第二旋转轴沿与偏置方向相反的方向旋转。当铰链体围绕第一旋转轴旋转到锁定位置时，自锁闩能围绕第二旋转轴沿偏置方向旋转并且能够阻止铰链体围绕第一旋转轴旋转到闭合位置。鉴于下文结合附图的详细描述，将更充分地理解这些和通过本文所述的实施方式提供的附加特征。【附图说明】示于附图中的实施方式是说明性和示例性的，并非旨在限制由权利要求书所限定的主题。当结合下面的附图阅读时，就能够理解本说明性实施方式的以下详细描述，其中用相同的附图标记表示相同的结构，并且其中:图1A不意性地描绘了根据本文所不和描述的一个或多个实施方式的位于闭合位置的等离子体处理组件；图1B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的等离子体处理组件；图2示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的铰链组件；图3A和3B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的位于初始接触点处的铰链组件；图4A和4B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的铰链组件；图5A和5B不意性地描绘了根据本文所不和描述的一个或多个实施方式的位于锁定位置的铰链组件；以及图6A和6B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的位于释放位置的铰链组件。【具体实施方式】图1 一般地描绘了用于从基底蚀刻材料和/或在基底上沉积材料的等离子体处理组件的一个实施方式。等离子体处理组件通常包括通过铰链组件与下处理体可枢转地接合的上处理体。根据此处所述的实施方式，铰链组件通常包括与铰链体可枢转地接合的基部铰链构件和与基部铰链构件可枢转地接合的自锁闩。在这里将更详细地描述等离子体处理组件的各种实施方式和等离子体处理组件的操作。共同参考图1A和1B，等离子体处理组件10包括具有下真空室22的下处理体20，下真空室22形成于下处理体20中，用于密闭(enclose)等离子体处理。在诸如蚀刻或沉积之类的等离子体处理中，下真空室22能够包围等离子体处理气体，例如，处理气体可以包括卤素或卤族元素，例如:氟(F)、氯(Cl)、溴(Br)、碘(I)、和砹(At)。此外，特定的处理气体可以包括 CC1F3、C4F8, C4F6, CHF3> CH2F3> CF4, HBr, CH3F, C2F4, N2, 02、Ar、Xe、He、H2, NH3>SF6, BC13、Cl2和能够被离子化的其它气体。下处理体20能够进一步包括适于将等离子体处理气体密封在下真空室22内的O形环26。因此，O形环26能与下真空室22同心并且与下真空室22相邻。值得注意的是，虽然在图1B中描绘的O形环26位于下处理体20中，但O形环26能位于上处理体30中。等离子体处理组件10进一步包括上处理体30，其与下处理体20配合以密封下真空室22。具体而言，上处理体30包括室盖32，室盖32与下处理体20互锁以使下真空室22能够维持在低压。在一些实施方式中，上处理体30的室盖32能与位于下处理体20内的O形环26形成密封。例如:能够使室盖32与O形环26接触(即，如图1A中所示的当上处理体30被关闭时)。上处理体30能引起O形环26的足以能够在下真空室22内抽真空的初始收缩，即，上处理体30的重量能压缩O形环26和/或能利用夹紧装置来引起该初始压缩。然后，真空室内的压强能够逐渐减少并且O形环26能被逐渐地压缩。具体而言，例如，下真空室22能被降低到低压并保持在低压，例如:在毫托的范围，或者约100毫托至约200毫托。因此，O形环26能被配置使得保持合适的密封以允许下真空室22内的压强的降低。如图1B所示，下处理体20可以包括销接收孔28以及上处理体30可以包括定位销34。销接收孔28和定位销34能被配置以使上处理体30与下处理体20的下真空室22对准。例如，定位销34可以包括球形构件36以及销接收孔28能具有圆形横截面，使得球形构件36和销接收孔28的尺寸例如，沿着X-Z平面在相对小的径向游隙内，例如:少于约0.002英寸(约50微米)，在一个实施方式中少于约0.001英寸(约25微米)，或者在另一个实施方式中从约0.0003英寸(约7微米)至约0.0008英寸(约20微米)。值得注意的是，虽然图1B中描绘的定位销34基本上为圆柱形以及销接收孔28基本上为圆形，定位销34和销接收孔28能以适于使下处理体20与上处理体30互锁和对准的任何方式成形。此外，应当注意的是上处理体30可以包括用于定位的孔以及下处理体20可以包括相应的用于定位的销。共同参考图1A和1B，上处理体30可以任选地包括用于与基底装卸致动器(未示出)耦合的穿过上处理体30形成的致动器口 38。基底装卸致动器能被配置来为等离子体处理自动地装载和卸载基底。此外，基底装卸致动器能够在斜面蚀刻操作中被用以确保电极和电介质环的正确对准。然而，应当注意的是，本文所述的实施方式可在有或者没有致动器口 38的情况下使用。现在参考图2，示意性地描绘了用于向等离子体处理组件10提供枢转运动和自锁机构的铰链组件100。铰链组件100包括与铰链体130可枢转地接合的基部铰链构件110。基部铰链构件I1包括用于与下处理体20 (图1A和1B)耦合的安装平台112。在一个实施方式中，基部铰链构件110能进一步包括第一瓣构件114和第二瓣构件116。第一瓣构件114和第二瓣构件116中的每个能够与安装平台112连接并且自安装平台112垂直延伸(正Y方向)。在一些实施方式中，第一瓣构件114和第二瓣构件116能自安装平台112沿正Z方向横向偏移。第一瓣构件114和第二瓣构件116能够彼此沿X轴横向偏移并且在第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体处理组件，其包括：下处理体，其包含形成于其中的下真空室；安装到所述下处理体的基部铰链构件；与所述基部铰链构件可枢转地接合并安装到上处理体的铰链体，其中所述基部铰链构件和所述铰链体彼此围绕第一旋转轴相对旋转，使得所述上处理体的运动由所述基部铰链构件和所述铰链体约束，并且其中所述铰链体包括凸锁闩接合构件；与所述基部铰链构件可枢转地接合的自锁闩，其中所述自锁闩和所述基部铰链构件彼此围绕第二旋转轴相对旋转，并且所述自锁闩被偏置在偏置方向，并且其中：当所述铰链体围绕所述第一旋转轴从闭合位置并且朝向锁定位置旋转时，所述凸锁闩接合构件接触所述自锁闩并且使所述自锁闩围绕所述第二旋转轴沿与偏置方向相反的方向旋转；以及当所述铰链体围绕所述第一旋转轴旋转到锁定位置时，所述自锁闩围绕所述第二旋转轴沿偏置方向旋转并且阻止所述铰链体围绕所述第一旋转轴旋转到所述闭合位置。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.11.21 US 61/562,124;2011.12.09 US 13/315,9291.一种等离子体处理组件，其包括: 下处理体，其包含形成于其中的下真空室； 安装到所述下处理体的基部铰链构件； 与所述基部铰链构件可枢转地接合并安装到上处理体的铰链体，其中所述基部铰链构件和所述铰链体彼此围绕第一旋转轴相对旋转，使得所述上处理体的运动由所述基部铰链构件和所述铰链体约束，并且其中所述铰链体包括凸锁闩接合构件； 与所述基部铰链构件可枢转地接合的自锁闩，其中所述自锁闩和所述基部铰链构件彼此围绕第二旋转轴相对旋转，并且所述自锁闩被偏置在偏置方向，并且其中: 当所述铰链体围绕所述第一旋转轴从闭合位置并且朝向锁定位置旋转时，所述凸锁闩接合构件接触所述自锁闩并且使所述自锁闩围绕所述第二旋转轴沿与偏置方向相反的方向旋转；以及 当所述铰链体围绕所述第一旋转轴旋转到锁定位置时，所述自锁闩围绕所述第二旋转轴沿偏置方向旋转并且阻止所述铰链体围绕所述第一旋转轴旋转到所述闭合位置。2.如权利要求1所述的等离子体处理组件，其中所述基部铰链构件包括被耦合到所述下处理体的安装平台以及延伸远离所述安装平台的一个或多个瓣构件。3.如权利要求2所述的等离子体处理组件，其还包括细长狭槽和铰链销，其中所述细长狭槽形成在所述瓣 构件中的至少一个中，并且所述铰链销基本上对准所述第一旋转轴插入所述细长狭槽。4.如权利要求3所述的等离子体处理组件，其中所述铰链体包围并围绕所述铰链销旋转。5.如权利要求4所述的等离子体处理组件，其中所述铰链体位于所述瓣构件中的两个之间。6.如权利要求3所述的等离子体处理组件，其中所述铰链销固定于所述细长狭槽内并且在所述细长狭槽内垂直滑动。7.如权利要求3所述的等离子体处理组件，还包括固定螺丝，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：格雷格·塞克斯顿，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：美国;US