用于直读光谱仪的分光室制造技术

技术编号:10375269 阅读:152 留言:0更新日期:2014-08-28 17:43
本实用新型专利技术提供一种用于直读光谱仪的分光室,包括:入射狭缝和光栅,来自光源的光穿过所述入射狭缝入射到所述光栅以进行分光;以及光栅二维倾斜支架和出射狭缝,所述光栅二维倾斜支架安装在所述光栅上以便通过调节所述光栅二维倾斜支架来使所述光栅刻线平行于所述入射狭缝以及所述出射狭缝从而使得经所述光栅分出的光通过所述出射狭缝射出。根据本实用新型专利技术的分光室,只需通过二维倾斜架来调节光栅X、Y、Z轴的变化就是入射狭缝、光栅、出射狭缝的成像精确平行,达到调试效果,能够很好的简化安装,用更简单机械结构完成复杂的调光效果,而且节省了很多的机械部件成本。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
用于直读光谱仪的分光室
本技术属于光学领域,涉及一种用于直读光谱仪的分光室。
技术介绍
传统分光室调试结构包括:入射狭缝一光栅一出射狭缝。其中,入射狭缝固定,通过调节出射狭缝的位置,使得入射狭缝、光栅、出射狭缝三者的成像成精确平行关系。可是,问题在于:出射狭缝由多条单色光组成,理论位置都已固定(入射光和法线之间有固定角度),相应的机械结构比较复杂而且相对庞大,调节起来不容易。此外,通过现有的合页式光栅倾斜架来调节光栅,一会造成光栅中心发生偏移,以及与光路的中心出现偏移,从而降低成像的分辨率,导致光谱仪的整体精度不高;第二,此种结构组装相对复杂,占用的空间大,以至其所需安置的空间,真空腔体的体积变大。
技术实现思路
有鉴于此,需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本技术提出了一种新型的用于直读光谱仪的分光室入射狭缝和光栅,来自光源的光穿过所述入射狭缝入射到所述光栅以进行分光;以及光栅二维倾斜支架和出射狭缝,所述光栅二维倾斜支架安装在所述光栅上以便通过调节所述光栅二维倾斜支架来使所述光栅刻线平行于所述入射狭缝以及所述出射狭缝从而使得经所述光栅分出的光通过所述出射狭缝射出,其中,所述光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于直读光谱仪的分光室,其特征在于,包括:入射狭缝和光栅,来自光源的光穿过所述入射狭缝入射到所述光栅以进行分光;以及光栅二维倾斜支架和出射狭缝,所述光栅二维倾斜支架安装在所述光栅上以便通过调节所述光栅二维倾斜支架来使所述光栅刻线平行于所述入射狭缝以及所述出射狭缝从而使得经所述光栅分出的光通过所述出射狭缝射出,其中,所述光栅二维倾斜支架包括基座和3个支撑, 所述基座上对应地设有3个支撑通孔,所述3个支撑分别通过所述支撑通孔与所述基座连接,所述3个支撑通孔的中心两两连线形成的图形为等边三角形,所述基座的中心位置设有安装所述光栅的腔室,所述光栅固定安装在所述腔室内以所述基座连动,所述支撑包括:基...

【技术特征摘要】
1.一种用于直读光谱仪的分光室,其特征在于,包括: 入射狭缝和光栅,来自光源的光穿过所述入射狭缝入射到所述光栅以进行分光;以及 光栅二维倾斜支架和出射狭缝,所述光栅二维倾斜支架安装在所述光栅上以便通过调节所述光栅二维倾斜支架来使所述光栅刻线平行于所述入射狭缝以及所述出射狭缝从而使得经所述光栅分出的光通过所述出射狭缝射出, 其中,所述光栅二维倾斜支架包括基座和3个支撑, 所述基座上对应地设有3个支撑通孔,所述3个支撑分别通过所述支撑通孔与所述基座连接,所述3个支撑通孔的中心两两连线形成的图形为等边三角形, 所述基座的中心位置设有安装所述光栅的腔室,所述光栅固定安装在所述腔室内以所述基座连动, 所述支撑包括:基座调节机构、支撑柱、调节部件和固定部件,所述基座调节结构一端连接在所述支撑柱上且与所述调节部件固定连接以便所述基座调节结构可随所述调节部件连动,以此来调节与所述基座调节机构连接的所述基座的位置;所述调节部件安装在所述支撑柱上且可在所述支撑柱上进行移动;所述固定部件通过所述调节部件上的通孔来固定所述调节部件的位置。2.根据权利要求1所述的用于直读光谱仪的分光室,其特征在于,所述支撑柱为螺纹柱,所述调节部件为调节螺母,所述调节螺母安装所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:张明亮王建平
申请(专利权)人:江苏天瑞仪器股份有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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