曝光装置、记录介质、记录装置及再现装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及记录介质。所述记录介质包括：简单磁道，所述简单磁道由布置的凹坑或布置的标记构成；及有沟磁道，所述有沟磁道是通过在凹坑或标记之间插入沟而构成的。所述简单磁道和所述有沟磁道以0.27微米以下的磁道间距在径向上交替地布置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光装置、记录介质、记录装置及再现装置
本专利技术涉及用于执行母盘(master disc)的曝光操作的曝光装置，并涉及记录介质，其中母盘用于制造光盘记录介质。而且，本专利技术还涉及用于在包括记录层的可记录型记录介质上执行记录操作的记录装置，并涉及用于执行记录介质的再现(reproduction)操作的再现装置，其中在记录层中，允许响应于激光照射来执行标记记录。引用列表专利文献专利文献1:日本未审查专利申请2007-226965专利文献2:日本未审查专利申请2002-123982
技术介绍
对于通过光的照射来执行信号的记录操作或再现操作的光学记录介质，例如广泛地使用了诸如CD (致密盘),DVD (数字化通用磁盘)和BD (蓝光光盘:注册商标)等所谓的光盘记录介质(在下文中，还可被简称为“光盘”)。通过提高光盘的信息记录密度实现了光盘的记录容量的增加。为提高信息记录密度，采取了在径向上减小作为凹坑线(pitline)或标记线的磁道的形成间距的方法，即，提高记录密度的方法。而且，还采取了通过减小凹坑或标记的尺寸来在线方向(与径向正交的方向)上提高记录密度的方法。
技术实现思路
然而，期望考虑到在为提高信息记录密度而减小磁道间距的方法中存在着空间分辨率的限制。例如，在BD的情况下，用于记录和再现操作的光学条件为:记录-再现波长λ为约405nm ；以及物镜的数值孔径NA为约0.85。然而，当采取作为现有技术的跟踪误差检测法(tracking error detection method)时，在磁道间距减小至λ/2ΝΑ以下(在BD的情况下约0.238 μ m以下)时，不能够获得跟踪误差信号的振幅。因此，很难检测到跟踪误差。换句话说，不能够执行跟踪伺服操作。因此，以高密度记录的信息完全不能够得到再现。在此情况下，上述“ λ/2ΝΑ”是理论值。考虑到诸如光学噪音等实际劣化因素，允许适当地检测跟踪误差的磁道间距界限值变大。例如，在BD的情况下，磁道间距的界限值为约 0.27 μ m。在采取作为现有技术的跟踪误差检测法的这类情况下，由于光学界限值的存在而难以在超出界限值的情况下减小磁道。换句话说，根据现有技术中的方法，在通过减小磁道间距来提高信息记录密度时存在着限制，且进一步增大记录容量是极其困难的。因此，期望能够在以超出光学界限值的间距布置磁道的状态下适当地执行跟踪伺服操作，从而进一步提高信息记录密度。为了解决上述问题，以下列方式配置根据本专利技术的实施例的曝光装置。具体地，所述曝光装置包括旋转驱动部，以用于驱动母盘以使所述母盘旋转。而且，所述曝光装置还包括曝光部，以用于在被所述旋转驱动部旋转的所述母盘上执行曝光操作，以使简单凹坑线和有沟凹坑线以0.27微米以下的磁道间距在径向上交替地布置，所述简单凹坑线由布置的凹坑构成，且所述有沟凹坑线是通过在凹坑之间插入沟而构成的。另外，以下列方式配置根据本专利技术的实施例的记录介质。具体地，所述记录介质包括:简单磁道，所述简单磁道由布置的凹坑或布置的标记构成；及有沟磁道，所述有沟磁道是通过在凹坑或标记之间插入沟而构成的。所述简单磁道和所述有沟磁道以0.27微米以下的磁道间距在径向上交替地布置。此外，以下列方式配置根据本专利技术的实施例的记录装置。具体地,所述记录装置包括记录部，所述记录部用于在记录介质的记录层上执行记录操作，以使简单标记线和有沟标记线以0.27微米以下的磁道间距在径向上交替地布置，所述简单标记线由布置的标记构成，且所述有沟标记线是通过在标记之间插入沟而构成的。此外，以下列方式配置根据本专利技术的实施例的再现装置。具体地，所述再现装置包括光照射接收部，所述光照射接收部通过物镜向记录介质照射激光并接收所照射的激光的反射光，所述记录介质包括以0.27微米以下的磁道间距在径向上交替地布置的简单磁道和有沟磁道，所述简单磁道由布置的凹坑或布置的标记构成，且所述有沟磁道是通过在凹坑或标记之间插入沟而构成的。而且，所述再现装置还包括跟踪误差信号生成部，所述跟踪误差信号生成部基于光接收信号生成跟踪误差信号，所述光接收信号是根据由所述光照射接收部接收的所述反射光得到的。而且，所述再现装置还包括位置控制部，所述位置控制部基于所述跟踪误差信号控制所述物镜在跟踪方向上的位置，并由此控制所述激光在所述径向上的位置，所述跟踪方向是与所述径向平行的方向。而且，所述再现装置还包括再现部，所述再现部基于所述光接收信号执行来自所述记录介质的记录信号的再现操作。根据本专利技术的上述实施例，在所述记录介质中，所述简单磁道和所述有沟磁道以0.27微米以下的磁道间距在径向上交替地布置，其中所述简单磁道包括布置的凹坑或布置的标记，且所述有沟磁道是通过在凹坑之间或标记之间插入沟而构成的。由于所述沟的形成，在所述有沟磁道中更大地获得了所述跟踪误差信号的振幅。另一方面，在没有形成沟的所述简单磁道中，所述磁道间距被设定为0.27 μ m以下(超出实际光学界限值的间距)。因此，几乎没有获得跟踪误差信号的振幅。基于这些方面，根据本专利技术的上述实施例，可获得几乎仅与所述有沟磁道相对应的所述跟踪误差信号的振幅。换句话说，可获得几乎与在光盘记录介质上仅形成有沟磁道的情况下的跟踪误差信号类似的跟踪误差信号。由于能够以这种方式获得仅与有沟磁道相对应的跟踪误差信号的振幅，所以可稳定地执行跟踪伺服操作。换句话说，能够在以超出光学界限值的间距布置磁道的情况下适当地执行跟踪伺服操作。在此情况下，通过以下列方式执行稍后说明的切换来实现在没有形成沟的简单磁道与有沟磁道之间以不同的方式执行的跟踪伺服操作。即，在执行以所述简单磁道为目标的位置控制时，基于通过在所述跟踪误差信号上执行极性反转或偏移而获得的信号(第一控制信号)来执行位置控制。在执行以所述有沟磁道为目标的位置控制时，基于在所述跟踪误差信号上没有执行极性反转或偏移的信号(第二控制信号)来执行位置控制。如上所述，根据本专利技术的实施例，能够在以超出所述光学界限值的间距来布置磁道的状态下适当地执行跟踪伺服操作。于是，因此，进一步提高了信息记录密度。【附图说明】图1图示了当磁道间距从0.32 μ m逐渐地减小至0.27 μ m和0.23 μ m时观察到的SUM信号和推挽信号。图2图示了 O次光和衍射光(激光的+1次光和-1次光)。图3A说明了根据实施例的形成在光盘记录介质中的磁道的结构。图3B说明了根据实施例的形成在光盘记录介质中的磁道的结构。图4A图示了在以图3A所示的布置形成磁道的情况下在磁道间距为0.32 μ m时各个磁道与NPP信号振幅之间的关系。图4B图示了在以图3A所示的布置形成磁道的情况下在磁道间距为0.27 μ m时各个磁道与NPP信号振幅之间的关系。图5图示了 NPP信号振幅与有沟磁道T-g和无沟磁道Τ-s之间的更详细的关系。图6说明了第一实施例中的光盘记录介质的制造处理。图7图示了第一实施例中的曝光装置的内部构造示例。图8说明了执行有沟磁道的记录与无沟磁道的记录之间的切换的方法。图9是示出了第一实施例中的为实现切换记录操作的方法而将要执行的具体处理的步骤的流程图。图10图示了用于执行第一实施例的光盘记录介质的再现的再现装置的内部构造示例。图1lA示例地图示了伺服电路的内部构造。图1l本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，其包括：旋转驱动部，其用于驱动母盘以使所述母盘旋转；及曝光部，其用于在被所述旋转驱动部旋转的所述母盘上执行曝光操作，以使简单凹坑线和有沟凹坑线以0.27微米以下的磁道间距在径向上交替地布置，所述简单凹坑线由布置的凹坑构成，且所述有沟凹坑线是通过在凹坑之间插入沟而构成的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.12.20 JP 2011-2785391.一种曝光装置，其包括: 旋转驱动部，其用于驱动母盘以使所述母盘旋转 '及 曝光部，其用于在被所述旋转驱动部旋转的所述母盘上执行曝光操作，以使简单凹坑线和有沟凹坑线以0.27微米以下的磁道间距在径向上交替地布置，所述简单凹坑线由布置的凹坑构成，且所述有沟凹坑线是通过在凹坑之间插入沟而构成的。2.如权利要求1所述的曝光装置，其中，每当所述母盘的旋转角度为预定的旋转角度时，所述曝光部在用于所述简单凹坑线的曝光操作与用于所述有沟凹坑线的曝光操作之间执行交替切换。3.如权利要求1所述的曝光装置，其中，所述曝光部通过使用多个光束对所述母盘同时执行用于所述简单凹坑线的曝光操作和用于所述有沟凹坑线的曝光操作。4.一种记录介质，其包括: 简单磁道，所述简单磁道由布置的凹坑或布置的标记构成；及 有沟磁道，所述有沟磁道是通过在凹坑或标记之间插入沟而构成的， 其中，所述简单磁道和所述有沟磁道以0.27微米以下的磁道间距在径向上交替地布置。5.一种记录装置，其 包括记录部，所述记录部用于在记录介质的记录层上执行记录操作，以使简单标记线和有沟标记线以0.27微米以下的磁道间距在径向上交替地布置，所述简单标记线由布置的标记构成，且所述有沟标记线是通过在标记之间插入沟而构成的。6.如权利要求5所述的记录装置，其中，所述记录部将标记线记录至所述记录层，所述记录层为不具有预制沟的平面形状。7.如权利要求6所述的记录装置，其还包括: 光照射部，其向所述记录介质照射伺服激光和记录激光，所述伺服激光用于获得来自参考表面的反射光，所述记录激光用于在所述记录层上执行记录操作，所述参考表面与所述记录层一起形成在所述记录介质中，并且所述参考表面包括形成在所述参考表面上的位置引导；及 位置控制部，其基于根据所述伺服激光的反射光的接收而得到的光接收信号来控制向所述记录介质照射的所述记录激光在跟踪方向上的照射位置。8.如权利要求7所述的记录装置，其中， 所述光照射部用于通过物镜向所述记录介质照射所述伺服激光，所述物镜设置成由所述伺服激光和所述记录激光共用，且 所述位置控制部基于根据所述伺服激光的所述光接收信号来控制所述物镜在所述跟踪方向上的位置。9.如权利要求8所述的记录装置，其中， 所述参考表面具有多个凹坑线相位，在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥谦作，斋藤昭也，山下荣辉，
申请(专利权)人：索尼公司，索尼信息技术日本股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP