喷嘴芯片的制造方法技术

本发明专利技术提供了一种喷嘴芯片的制造方法，所述制造方法包括通过使用具有在通过连接部将喷出口列图案彼此相连接的情况下形成一个喷嘴芯片的喷出口列图案的图案的掩模进行光线照射来形成喷出口列的步骤，其中，所述掩模被配置为使得对于所述喷出口列的喷出口的配置方向、照射与所述连接部的距离最近的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值小于照射与所述连接部的距离最远的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
喷嘴芯片用于例如从喷出口喷出液体的液体喷出头。液体喷出头的示例包括通过向诸如纸张等的记录介质喷墨来进行记录的喷墨记录头。专利文献I描述了一种喷墨记录头的。将简单说明专利文献I中描述的。首先，制备包括能量生成元件的元件基板，其中，该能量生成元件生成用于从喷出口喷出液体的能量。接着，在元件基板上形成包括光吸收剂的正型感光性树脂层。然后，对上述正型感光性树脂层进行曝光，从而形成具有流路形状的图案。接着，形成用作喷出口形成构件的负型感光性树脂层以覆盖上述图案，并且将上述负型感光性树脂层曝光至i线光(波长365nm)下，从而形成喷出口列。最后，去除图案，从而形成液体流路。在通过使用专利文献I中描述的方法来在喷嘴芯片上形成喷出口列时，存在需要对超过作为曝光设备能够进行曝光的最大区域大小的视场角大小的图案进行曝光的情况。在这种情况下，可以使用专利文献2中描述的被称为“分割曝光”的制造方法。利用分割曝光，将具有大于视场角大小的大小的图案分割成小于视场角大小的多个部分，并且将其配置在掩模上，然后进行曝光。通过使用具有如下喷出口列图案的掩模，利用光线进行照射来形成喷出口列，其中，该喷出口列图案在通过连接部将喷出口列图案彼此相连接的情况下形成一个喷嘴芯片的喷出口列图案。连接部通常是喷嘴芯片在与喷出口列的配置方向垂直的方向上、即喷嘴芯片的长度方向上被分割的部分。引用文献_6] 专利文献专利文献1:日本特开2009-166492专利文献2:日本特开2003-145769
技术实现思路
_9] 专利技术要解决的问题然而，专利技术人研究了上述方法，并发现从通过彼此之间的连接部而彼此相邻的喷出口喷出的液滴的着落位置发生偏移，从而在记录介质上生成线。在液滴的着落位置彼此相邻并且由液滴形成的点彼此相接触的情况下，可能生成这样的线。本专利技术的目的在于提供一种使用分割曝光来制造喷嘴芯片的方法，其中，利用该方法，可以减少从分割曝光的连接部附近的喷出口喷出的液滴的着落位置的偏移。用于解决问题的方案为了解决上述问题，本专利技术提供了一种，所述制造方法包括通过使用具有在通过连接部将喷出口列图案彼此相连接的情况下形成一个喷嘴芯片的喷出口列图案的图案的掩模进行光线照射来形成喷出口列的步骤，其中，所述掩模被配置为使得对于所述喷出口列的喷出口的配置方向、照射与所述连接部的距离最近的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值小于照射与所述连接部的距离最远的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值。专利技术的效果利用本专利技术，即使使用分割曝光的方法所制造的喷嘴芯片，也能够减少从分割曝光的连接部附近的喷出口喷出的液滴的着落位置的偏移。【附图说明】图1是喷嘴芯片的示意性立体图。图2是示出使用缩小投影方法的曝光处理的示意性截面图。图3A是示出使用缩小投影方法的曝光处理中的光束倾斜的示意性截面图。图3B是示出使用缩小投影方法的曝光处理中的光束倾斜的示意性截面图。图4是示出在掩模上发生的轴外远心度的概念图。[0021 ]图5是嗔嘴芯片的不意性俯视图。图6A是示出在掩模上的喷嘴芯片的喷出口列图案的示意性俯视图。图6B是示出在掩模上的喷嘴芯片的喷出口列图案的示意性俯视图。图6C是示出在掩模上的喷嘴芯片的喷出口列图案的示意性俯视图。图7A是示出对喷嘴芯片进行图案化的处理的示意性立体图。图7B是示出对喷嘴芯片进行图案化的处理的示意性立体图。图8A是与喷嘴芯片的喷出有关的示意性截面图。图8B是与喷嘴芯片的喷出有关的不意性截面图。图8C是与喷嘴芯片的喷出有关的不意性截面图。图9A是示出喷出的液滴的着落位置相对于理想着落位置的偏移的图。图9B是示出喷出的液滴的着落位置相对于理想着落位置的偏移的图。【具体实施方式】专利技术人研究了上述问题，并且发现曝光设备的光学系统的结构、以及为了进行喷嘴芯片区域的图案化而被配置在掩模上的喷嘴芯片区域图案的位置会影响着落位置的偏移。下面将详细说明这一点。图2示出通过使用包括照明光学系统21和缩小投影光学系统23的曝光设备所进行的曝光处理。照明光学系统21利用从光源发射出的光束20来照射掩模22。缩小投影光学系统23将掩模的图案投影到喷嘴芯片I上。在从照明光学系统发射出的光束的中心和掩模的中心在同一轴上的情况下，穿过掩模的外侧(外周部)的光线往往会以相对于与喷嘴芯片垂直的方向的、略大于穿过掩模中心的光线的角度的角度而入射到喷嘴芯片上。由于以与入射在喷出口的图案上的光线的倾斜同样的倾斜，将掩模中形成的喷出口列图案中被配置在掩模的外周附近的喷出口的图案投影到喷嘴芯片上，因此倾斜地形成喷出口。结果，从倾斜地形成的喷出口喷出的液滴着落在相对于理想着落位置偏移的位置。图1是根据本专利技术实施例的喷嘴芯片的示意性立体图。根据本专利技术实施例的喷嘴芯片包括元件基板10，其中在元件基板10上，以预定间距的两列配置有能量生成元件2。能量生成元件2生成用于喷出液体的能量。利用各向异性的蚀刻在元件基板10上所形成的液体供给口 13在能量生成元件2的两列之间具有开口。在元件基板10上配置有喷出口形成构件9。在喷出口形成构件9中形成有喷出口 11和液体流路(未示出)，其中，喷出口 11与能量生成元件2对应，并且通过液体流路与液体供给口 13相连接。喷出口形成构件9也用来形成诸如顶壁等的流路的一部分。因此，对于喷出口形成构件9，需要作为构造材料的高机械强度、基底构件的密合性、耐墨性、以及能够进行用于形成喷出口的精细图案的高分辨率图案化的特性。具有这样的特性的材料的实例包括阳离子聚合型环氧树脂组合物。环氧树脂由例如双酚A和表氯醇之间的反应、溴双酚A和表氯醇之间的反应、或者苯酚酚醛清漆或邻甲酚酚醛清漆与表氯醇之间的反应生产。优选地，环氧树脂的环氧当量为2000以下，并且更优选为1000以下。如果环氧当量大于2000，则在固化反应时交联密度减小，并且密合性和耐墨性降低。用于固化环氧树脂的光阳离子聚合引发剂的实例包括在用光照射时生成酸的化学化合物。芳香族锍盐和芳香族碘鎗盐是这样的化合物的实例。如果有需要，可以添加波长敏化剂。波长敏化剂的示例包括旭电化工业株式会社出售的“ SP-100 ”。图1所示的喷嘴芯片被配置为使得形成有喷出口 11的表面与记录介质的记录面相对。能量生成元件2将能量施加到经由液体供给口 13供给到流路的液体(墨)，从而从喷出口 11喷出液滴。通过使液滴粘附到记录介质来进行记录。返回参考图2，将进一步说明曝光设备。使用从例如高压汞灯的光源发射出的i线光来进行光线的照射(曝光)。用于曝光的光线不限于此，并且可以使用具有被图案化的构件感光的波长的任何光线。在进行曝光的情况下，相对于光学系统的光轴，光线可能变得倾斜。发生主光线相对于光学系统的光轴的倾斜被称为发生“远心”。倾斜的程度被称为“轴外远心度”。特别地，在缩小投影光学系统中，在焦点位置从最佳焦点位置偏离到离焦位置的情况下，可能发生变形(离焦变形)。伴随着离焦，变形度、即轴外远心度变化。与光束的中心的光线25相比，对于光束中的外侧的光线261，轴外远心度的绝对值往往较大。术语“光束的中心”指的是沿着与掩模平行的平面取光束的截面的重心。如果光束的中心和掩模的中心一致(在同一轴上)，则对于穿过掩模边缘附近的区域的光线261的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种喷嘴芯片的制造方法，所述制造方法包括通过使用具有在通过连接部将喷出口列图案彼此相连接的情况下形成一个喷嘴芯片的喷出口列图案的图案的掩模进行光线照射来形成喷出口列的步骤，其中，所述掩模被配置为使得对于所述喷出口列的喷出口的配置方向、照射与所述连接部的距离最近的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值小于照射与所述连接部的距离最远的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种喷嘴芯片的制造方法，所述制造方法包括通过使用具有在通过连接部将喷出口列图案彼此相连接的情况下形成一个喷嘴芯片的喷出口列图案的图案的掩模进行光线照射来形成喷出口列的步骤， 其中，所述掩模被配置为使得对于所述喷出口列的喷出口的配置方向、照射与所述连接部的距离最近的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值小于照射与所述连接部的距离最远的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值。2....

【专利技术属性】
技术研发人员：真锅贵信，黑须敏明，渡边诚，藤井谦儿，田川义则，浅井和宏，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP