感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法、半导体装置及显示体装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供含有(A-1)具有下述通式(1)所示结构的树脂和(B)光产酸剂的感光性树脂组合物。式(1)中，X、R1～R7、m1～m4、n1、n2、Y和W分别如说明书中所规定。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法、半导体装置及显示体装置
本专利技术涉及例如电子元件的绝缘材料、以及半导体装置中的钝化膜、缓冲涂膜和层间绝缘膜等的浮雕图案的形成中使用的感光性树脂组合物，使用其的固化浮雕图案的制造方法以及半导体装置及显示体装置。
技术介绍
一直以来，半导体装置中使用的表面保护膜和层间绝缘膜广泛使用兼具优异的耐热性、电特性、机械特性等的聚酰亚胺树脂或聚苯并噁唑树脂。由于这些树脂在各种溶剂中的溶解性低，因此通常以环状结构开环而成的前体形式溶解在溶剂中形成组合物来使用。因此，使用时必需使前体闭环的工序。该闭环工序通常通过加热到300°C以上的热固化来进行。但是，近年来与以往产品相比耐热性差的半导体装置得到开发，因此对于表面保护膜或层间绝缘膜的形成材料也要求热固化温度的降低，要求300°C以下时的热固化性、进而250°C以下时的热固化性的情况增多。对于上述要求，以下的专利文献I中提出了一种感光性树脂组合物，其感光性能优异，并且含有在抗蚀剂领域中广泛用作基础树脂的具有酚性羟基的碱可溶性树脂作为基础树脂、进而含有醌重氮基化合物和固化剂，记载了该感光性树脂组合物通过本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性树脂组合物，其含有(A‑1)具有下述通式(1)所示结构的树脂和(B)光产酸剂，式(1)中，X各自独立地是选自由氢原子、碳原子数为2～20的烷氧基羰基、碳原子数为2～20的烷氧基羰基甲基、碳原子数为2～20的烷氧基烷基、被至少一个碳原子数为1～10的烷基取代的甲硅烷基、四氢吡喃基、和四氢呋喃基组成的组中的一价基团，m1各自独立地是1～3的整数，m2各自独立地是0～2的整数，2≤(m1+m2)≤4，m3和m4各自独立地是0～4的整数，n1和n2各自独立地是1～500的整数，n1/(n1+n2)在m1是2或3时处于0.05～0.95的范围内、在m1是1时为0.35～0.95，R1各自独立地...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.12.09 JP 2011-270661;2011.12.28 JP 2011-290121.一种感光性树脂组合物，其含有(A-1)具有下述通式⑴所示结构的树脂和⑶光产酸剂， 2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中，所述通式(I)中的X全部是氢原子。3.—种感光性树脂组合物，其含有(A-2)树脂混合物和(B)光产酸剂，所述(A-2)树脂混合物含有具有下述通式(7)所示结构的树脂和具有下述通式(8)所示结构的树脂，该具有通式(7)所示结构的树脂:该具有通式(8)所示结构的树脂的重量比为5:95~95:5， 4.根据权利要求3所述的感光性树脂组合物，其中，所述通式(7)和(8)中的X全部是氢原子。5.根据权利要求3或4所述的感光性树脂组合物，其中，具有所述通式(7)所示结构的树脂具有下述通式(9)所示的结构，并且具有所述通式(8)所示结构的树脂具有下述通式(10)所示的结构， 6.根据权利要求5所述的感光性树脂组合物，其中，所述通式(9)和(10)中的X全部是氢原子。7.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物，其中，所述通式(I)中的Y是具有下述通式(11)或(12)所示结构的树脂，-CHR8- (11) 式(11)中，R8是氢原子或碳原子数为I~11的一价有机基团， 8.根据权利要求3或4所述的感光性树脂组合物，其中，所述通式(8)中的Y是具有下述通式(11)或(12)所示结构的树脂，-CHR8- (11) 式(11)中，R8是氢原子或碳原子数为1~11的一价有机基团， 9.根据权利要求5或6所述的感光性树脂组合物，其中，所述通式(10)中的Y是具有所述通式(11)或(12)所示结构的树脂。10.根据权利要求1、2和7中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，所述通式(I)中的R1是选自由碳原子数为I~10的烃基、碳原子数为I~10的烷氧基、和所述通式(5)所示的基团组成的组中的至少一种，所述通式(I)中的W是单键，并且所述通式(5)中的R15是选自由羟基、-NH2, -NH-R19, -N(R19)2、和-O-R19所示的基团组成的组中的一价基团，其中，R19是选自碳原子数为I~12的脂肪族基团、碳原子数为3~12的脂环式基团、或碳原子数为6~18的芳香族基团中的一价基团。11.根据权利要求3、4和8中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，所述通式(7)和(8)中的R1是选自由碳原子数为I~10的烃基、碳原子数为I~10的烷氧基、和所述通式(5)所示的基团组成的组中的至少一种，所述通式(7)中的W是单键，并且所述通式(5)中的R15是选自由羟基、-NH2、-NH-R19、-N(R19)2、和-O-R19所示的基团组成的组中的一价基团，其中，R19是选自...

【专利技术属性】
技术研发人员：涩井智史，平田龙也，佐佐木隆弘，山田泰辅，
申请(专利权)人：旭化成电子材料株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP