【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及能够作为半导体装置的表面保护膜和层间绝缘膜使用的耐热性树脂 的前体的感光性树脂组合物、使用该感光性树脂组合物的具有耐热性的固化浮雕图案的制 造方法、以及具有该固化浮雕图案而成的半导体装置。
技术介绍
在半导体装置的表面保护膜和层间绝缘膜中,广泛使用了兼具优异的耐热性、电 特性、和机械特性等的聚酰亚胺树脂。该聚酰亚胺树脂目前通常多以感光性聚酰亚胺前体 组合物的形式提供。在制造半导体装置的过程中,将该前体组合物涂布到硅晶圆等基板上 而形成前体层,使用活性光线将该前体层图案化,将该前体层显影,并且对该前体层进行热 酰亚胺化处理,从而能够使聚酰亚胺树脂膜容易地形成作为该半导体装置的一部分的表面 保护膜、层间绝缘膜等。因此,使用了感光性聚酰亚胺前体组合物的半导体装置的制造工艺 与使用了现有的非感光性聚酰亚胺前体组合物的制造工艺相比,其特征在于能够大幅缩短 工序。其中使用了现有的非感光性聚酰亚胺前体组合物的制造工艺需要在形成表面保护膜 等后利用光刻法使其图案化。然而,在该感光性聚酰亚胺前体组合物的显影工序中,需要使用N-甲基-2-吡咯 烷酮等有机溶剂作为显影液。因此,基于近年来环境问题高涨等理由,要求去除有机溶剂的 对策。针对该问题,最近,与光致抗蚀剂同样地,提出了各种能够利用碱性水溶液显影的耐 热性感光性树脂材料的方案。其中,在专利文献1和2中公开了以下方法将固化后形成耐热性树脂的碱性水溶 液可溶性的羟基聚酰胺、例如聚苯并噁唑(以下,也称为“ΡΒ0”。)前体与二叠氮基萘醌化 合物等光产酸剂混合,形成了 PBO前体组合物,并将该PBO前体组合物用作感光 ...
【技术保护点】
一种感光性树脂组合物,其包含: (A)具有选自由下述通式(1)所示的结构和下述通式(2)所示的结构构成的组中的至少1种结构的碱性水溶液可溶性聚合物100质量份, *** (1) 式(1)中,X↓[1]和Y↓[1]分别独立地表示具有至少2个碳原子的2~4价的有机基团,R↓[1]和R↓[2]分别独立地表示氢原子或碳原子数1~10的烃基,n↓[1]、n↓[2]、n↓[3]和n↓[4]分别独立地为0~2的整数,n↓[1]+n↓[2]+n↓[3]+n↓[4]>0,并且m↓[1]为1~1000的整数, *** (2) 式(2)中,X↓[2]和Y↓[2]分别独立地表示具有至少2个碳原子的4价的有机基团,并且m↓[2]为1~1000的整数; (B)光产酸剂1~50质量份;以及 (C)在羧基的α位具有至少1个选自由羟基、醚基和酯基构成的组中的官能团的碳原子数8以上的一元羧酸化合物5~20质量份。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2008-5-29 2008-1409651.一种感光性树脂组合物,其包含(A)具有选自由下述通式(1)所示的结构和下述通式(2)所示的结构构成的组中的至 少1种结构的碱性水溶液可溶性聚合物100质量份,(OH)ni O (OH)n O \ 、I /n| Il ^ I /n2 Il --NH-X「NH—C——Y1~·—C一一 ( 1 )2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述(B)光产酸剂为具有二叠氮基 萘醌结构的化合物。3.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述(C)一元羧酸化合物为选自由 下述通式(3)表示且碳原子数8 30的化合物构成的组中的至少1种化合物,4.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述(C)一元羧酸化合物为选自由下述通式(4)所示且碳原子数8 30的化合物构成的组中的至少1种化合物,5.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述(A)碱性水溶液可溶性聚合物 中的所述通式(1)所示的结构具有由下述通式(5)所示的结构,6.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述(A)碱性水溶液可溶性聚合物 中的所述通式(1)所示的结构具有由下述通式(6)所示的结构,式(6)中,&表示选自由单键和下述式(7)所示的结构构成的组中的至少1种结构, LpL2和L3分别独立地表示氢原子或甲基,L4表示氢原子、甲基或羟基,并且Hi1为1 1000 的整数。7.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述(A)碱性水溶液可溶性聚合物中的所述通式(...
【专利技术属性】
技术研发人员:涩井智史,
申请(专利权)人:旭化成电子材料株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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