【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种光学掩膜，该光学掩膜采用由两条平行线及两条圆弧线构成的圆矩形结构，所述圆矩形结构沿x轴方向及y轴方向均对称，且带有V字形狭缝；该光学掩膜用于通过所述V字形狭缝的两条缝分别滤波并引入第一条太阳光线及第二条太阳光线到线阵图像传感器。如此，本专利技术实施例中的光学掩膜采用圆矩形的结构形式，易于加工和装配且可以避免旋转移位；采用V字形狭缝滤波并引入太阳光线，形成的光线交点数量较少，在后续测量姿态角的过程中对应的信息处理算法较为简单、快速且精确。【专利说明】一种光学掩膜及基于光学掩膜的太阳敏感器
本专利技术涉及航空航天领域的太阳敏感器技术，尤其涉及一种光学掩膜及基于光学掩膜的太阳敏感器。
技术介绍
太阳敏感器是卫星上重要的姿态测量光学敏感器。太阳敏感器按工作原理主要可分为如下几种:基于光电池的模拟式太阳敏感器、基于光电码盘的编码式太阳敏感器、基于二维线阵式图像传感器的数字太阳敏感器、基于面阵图像传感器的面阵式数字太阳敏感器和基于一维线阵图像传感器的线阵式数字太阳敏感器等；其中，线阵式数字太阳敏感器是新出现的一种太阳敏感器，其重量轻，功...
【技术保护点】
一种光学掩膜，应用于太阳敏感器，其特征在于，所述光学掩膜采用由两条平行线及两条圆弧线构成的圆矩形结构，所述圆矩形结构沿x轴方向及y轴方向均对称，且带有V字形狭缝；所述光学掩膜，用于通过所述V字形狭缝的两条狭缝分别滤波并引入第一条太阳光线及第二条太阳光线到线阵图像传感器。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：樊巧云，高鑫洋，张广军，
申请(专利权)人：北京航空航天大学，
类型：发明
国别省市：北京;11
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