一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统技术方案

技术编号:10271985 阅读:248 留言:0更新日期:2014-07-31 13:27
本发明专利技术公开了一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统。本系统包括红外信号传输光学系统、光调制器、红外探测器、AD信号采集卡、二维扫描装置、计算机控制单元;其中红外信号传输光学系统位于待校准面源黑体之前,安装在二维扫描转置上,红外信号传输光学系统的输出端与光调制器输入端连接;红外探测器用于接收光调制器的输出信息,其输出端经AD信号卡与计算机控制单元连接;待校准面源黑体、红外信号传输光学系统、光调制器、红外探测器、AD信号采集卡、二维扫描装置位于同一真空仓内。本发明专利技术能够实现真空低温条件下超大面源黑体校准的系统,填补了此项技术空白。

【技术实现步骤摘要】
一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统
本专利技术属于红外辐射测量及校准
,涉及在真空低温条件下的超大面源黑体性能指标校准系统的设计。
技术介绍
目前,随着技术的发展,红外成像器的应用已经扩展至临近空间及外太空,这些系统包括空间侦察系统、临近空间预警系统、外太空红外导引打击系统、星载红外遥感系统等,这些空间应用的红外成像器在研制、生产、试验过程中,必须根据系统的工作环境,在地面真空低温环境中利用面源黑体对红外成像器进行精确的辐射定标和性能测试,以取得精确的标定系数,准确掌握红外成像器的各项性能指标,保证其性能指标达到预先设计值。目前,许多太空条件下红外成像器的研制已经完成,进入到了真空红外辐射定标和性能测试阶段,该阶段使用的辐射定标和性能测试设备为面源黑体。由于辐射定标的效果将直接决定该红外成像器的最终技战术性能,而性能测试能够使设计和使用单位准确把握红外成像器的各项性能指标,因此,辐射定标和性能测试对于该型号具有重要意义,为了保证红外成像器辐射定标的精度和性能测试的可靠性,需要对面源黑体的相关指标进行校准。此类红外成像器光学系统一般都具有焦距超长、孔径超大的特点,在对这本文档来自技高网...
一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统

【技术保护点】
一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统,其特征在于包括红外信号传输光学系统、光调制器、红外探测器、AD信号采集卡、二维扫描装置、计算机控制单元;其中所述红外信号传输光学系统位于待校准面源黑体之前,安装在所述二维扫描转置上,所述红外信号传输光学系统的输出端与所述光调制器输入端连接,用于对待校准面源黑体的红外光线进行扫描并传输给所述光调制器;所述红外探测器用于接收所述光调制器的输出信息,其输出端经所述AD信号卡与所述计算机控制单元连接;其中待校准面源黑体、红外信号传输光学系统、光调制器、红外探测器、AD信号采集卡、二维扫描装置位于同一真空仓内。

【技术特征摘要】
1.一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统,其特征在于包括红外信号传输光学系统、光调制器、红外探测器、AD信号采集卡、二维扫描装置、计算机控制单元;其中所述红外信号传输光学系统位于待校准面源黑体之前,安装在所述二维扫描装置上,所述红外信号传输光学系统的输出端与所述光调制器输入端连接,用于对待校准面源黑体的红外光线进行扫描并传输给所述光调制器;所述红外探测器用于接收所述光调制器的输出信息,其输出端经所述AD信号卡与所述计算机控制单元连接;其中待校准面源黑体、红外信号传输光学系统、光调制器、红外探测器、AD信号采集卡、二维扫描装置位于同一真空舱内;其中,所述光调制器与所述红外探测器之间设有一调制盘和参考黑体;所述调制盘具有周期分布的通孔,通孔之间的非透光部分设有反射镜,所述调制盘通过其上的通孔和反射镜周期性的将所述光调制器的输出信息和所述参考黑体的辐射能量传输到所述红外探测器。2.如权利要求1所述的超大面源黑体校准系统,其特征在于所述真空舱内还包括一前置放大器和一锁相放大器;所述红外信号传输光学系统的输出端依次经所述前置放大器、锁相放大...

【专利技术属性】
技术研发人员:张玉国魏建强孙红胜杨旺林刘亚平
申请(专利权)人:北京振兴计量测试研究所
类型:发明
国别省市:北京;11

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