本实用新型专利技术公开了一种由抛光盘对移动的工作平台上的工件施加设定压强的曲面抛光机的抛光装置，它包括机架，机架上设有可旋转的抛光盘，其特征是机架上设有实现抛光盘对移动的工作平台上的工件施加设定压强的动态加压装置，所述动态加压装置通过安装在升降机架上的抛光盘对工件保持施加设定的压强，本实用新型专利技术结构简单，通过PLC可实现抛光盘对工件施加设定的压强进行抛光，克服了现有抛光存在的缺陷，同时，工作平台的移动，大大提高了生产效率并为实现流水线生产打下了基础。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种由抛光盘对移动的工作平台上的工件施加设定压强的曲面抛光机的抛光装置，它包括机架，机架上设有可旋转的抛光盘，其特征是机架上设有实现抛光盘对移动的工作平台上的工件施加设定压强的动态加压装置，所述动态加压装置通过安装在升降机架上的抛光盘对工件保持施加设定的压强，本技术结构简单，通过PLC可实现抛光盘对工件施加设定的压强进行抛光，克服了现有抛光存在的缺陷，同时，工作平台的移动，大大提高了生产效率并为实现流水线生产打下了基础。【专利说明】曲面抛光机的抛光装置
本技术涉及一种曲面抛光机，具体地说是一种超薄、易脆性工件用曲面抛光机的抛光装置，特别是涉及一种如玻璃、蓝宝石、压电水晶、单晶硅片等工件用曲面抛光机的抛光装置。
技术介绍
为了使超薄、易脆性工件如玻璃、蓝宝石、压电水晶、单晶硅片等工件的表面变得光滑、透明，并具有光泽，通常对其表面需进行抛光。目前，现所使用曲面抛光机的基本结构为上盘(抛光盘)、下盘结构，抛光盘进行旋转运动，放置有工件的工作平台即下盘可以相对抛光盘反向旋转，一是增大磨削速度，二是使工件抛光均匀。同时，在整个运动过程中，因抛光盘与工作平台的接触面积保持不变，所以在加压抛光工作时，气缸可以通过抛光盘给工作平台上的工件施加恒定的压力，以保证抛光盘与工件之间保持恒定的压强。但是，因抛光盘、工作平台均进行旋转运动，抛光盘、工作平台的外圈与内圈在线速度上存在差异，这样导致工作平台上工件的抛光均匀度差，在工件上留下暇疵，如抛光纹等，影响抛光效果与效率。为此，可以采用在抛光盘进行旋转运动的同时，放置有工件的工作平台进行水平移动。但是，工作平台进行水平移动时，抛光盘与工件的接触面积在不断变化，从而抛光盘与工件之间不能保持恒定的压强，严重地影响抛光效果，甚至损坏工件。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种由抛光盘对移动的工作平台上的工件施加设定压强的曲面抛光机的抛光装置。本技术是采用如下技术方案实现其专利技术目的的，一种曲面抛光机的抛光装置，它包括机架，机架上设有可旋转的抛光盘，机架上设有实现抛光盘对移动的工作平台上的工件施加设定压强的动态加压装置，所述动态加压装置通过安装在升降机架上的抛光盘对工件保持施加设定的压强。本技术所述的工作平台为方形。本技术所述的动态加压装置包括安装在机架上由PLC控制的升降气缸、检测工作平台位移的位移传感器，升降气缸的气缸座安装在机架上，升降气缸的活塞杆与升降机架连接；PLC根据工作平台的位移量计算抛光盘与工件的接触面积，通过比例换向阀确定对升降气缸的升、降控制，实现抛光盘对工件施加设定的压强。为计算简单，本技术所述所述抛光盘对工件施加设定的压强为P = (F — G)/S，F为抛光盘施加给工件的压力，G为升降机架的重量，S为抛光盘的工作面与工件的接触面积；所述抛光盘的工作面与工件的接触面积近似计算为:【权利要求】1.一种曲面抛光机的抛光装置，它包括机架，机架上设有可旋转的抛光盘，其特征是机架上设有实现抛光盘对移动的工作平台上的工件施加设定压强的动态加压装置，所述动态加压装置通过安装在升降机架上的抛光盘对工件保持施加设定的压强。2.根据权利要求1所述的曲面抛光机的抛光装置，其特征是所述的工作平台为方形。3.根据权利要求1所述的曲面抛光机的抛光装置，其特征是所述的动态加压装置包括安装在机架上由PLC控制的升降气缸、检测工作平台位移的位移传感器，升降气缸的气缸座安装在机架上，升降气缸的活塞杆与升降机架连接；PLC根据工作平台的位移量计算抛光盘与工件的接触面积，通过比例换向阀确定对升降气缸的升、降控制，实现抛光盘对工件施加设定的压强。4.根据权利要求3所述的曲面抛光机的抛光装置，其特征是所述所述抛光盘对工件施加设定的压强为P = (F — G)/ S，F为抛光盘施加给工件的压力，G为升降机架的重量，S为抛光盘的工作面与工件的接触面积；所述抛光盘的工作面与工件的接触面积近似计算为: 5.根据权利要求1或2或3或4所述的曲面抛光机的抛光装置，其特征是所述的抛光盘安装在安装盘上，抛光盘由安装在升降机架上的抛光电机驱动，所述安装盘由安装在升降机架上的公转电机驱动。6.根据权利要求5所述的曲面抛光机的抛光装置，其特征是所述抛光盘为2~8个，抛光盘的驱动轴通过齿轮组与抛光电机的主轴联接。【文档编号】B24B29/02GK203680003SQ201320871592【公开日】2014年7月2日 申请日期:2013年12月27日 优先权日:2013年12月27日 【专利技术者】杨佳葳, 刘先交, 周斌, 徐翊华 申请人:湖南宇晶机器股份有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种曲面抛光机的抛光装置，它包括机架，机架上设有可旋转的抛光盘，其特征是机架上设有实现抛光盘对移动的工作平台上的工件施加设定压强的动态加压装置，所述动态加压装置通过安装在升降机架上的抛光盘对工件保持施加设定的压强。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨佳葳，刘先交，周斌，徐翊华，
申请(专利权)人：湖南宇晶机器股份有限公司，
类型：新型
国别省市：湖南;43
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