本发明专利技术提供贮藏稳定性优异、且可制造即使经过紫外线/臭氧照射处理也能维持优异的拒墨性的分隔壁的负型感光性树脂组合物、以及可应用于该组合物的拒墨剂的制造方法，并且提供即使经过紫外线/臭氧照射处理拒墨性也优异的分隔壁、具有该分隔壁且抑制了空白点现象等的产生的光学元件。本发明专利技术为一种负型感光性树脂组合物；由其固化膜形成的、形成为将基板表面分隔成多个分区的形态的分隔壁；具有该分隔壁的光学元件。所述负型感光性树脂组合物包含拒墨剂(C)、碱溶性树脂(A)、光聚合引发剂(B)、和溶剂(D)，所述拒墨剂(C)由通过如下方法制造的部分水解缩合物形成，所述方法具备：使包含含氟水解硅烷化合物和具有氨基的水解性硅烷化合物的混合物中含有酸，将氮原子质子化的工序；以及使前述混合物中包含水和酸催化剂，将其水解并进行缩合反应的工序。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供贮藏稳定性优异、且可制造即使经过紫外线/臭氧照射处理也能维持优异的拒墨性的分隔壁的负型感光性树脂组合物、以及可应用于该组合物的拒墨剂的制造方法，并且提供即使经过紫外线/臭氧照射处理拒墨性也优异的分隔壁、具有该分隔壁且抑制了空白点现象等的产生的光学元件。本专利技术为一种负型感光性树脂组合物；由其固化膜形成的、形成为将基板表面分隔成多个分区的形态的分隔壁；具有该分隔壁的光学元件。所述负型感光性树脂组合物包含拒墨剂(C)、碱溶性树脂(A)、光聚合引发剂(B)、和溶剂(D)，所述拒墨剂(C)由通过如下方法制造的部分水解缩合物形成，所述方法具备：使包含含氟水解硅烷化合物和具有氨基的水解性硅烷化合物的混合物中含有酸，将氮原子质子化的工序；以及使前述混合物中包含水和酸催化剂，将其水解并进行缩合反应的工序。【专利说明】拒墨剂的制造方法、负型感光性树脂组合物、分隔壁以及光学元件
本专利技术涉及拒墨剂的制造方法、含有通过该方法得到的拒墨剂的负型感光性树脂组合物、使用其的分隔壁、以及具有该分隔壁的光学元件。
技术介绍
关于作为光学元件的、用于滤色器或有机EL(Electro-Luminescence)元件的像素部的分隔壁，已知有将感光性树脂组合物涂布到基板上并利用光刻技术形成的方法。近年来，作为滤色器、有机EL的像素部的制造方法，提出了利用喷墨法的低成本化工艺。例如，滤色器的制造中，利用光刻法形成分隔壁后，在由分隔壁包围而成的开口部(点)利用喷墨法喷射R(红)、G(绿)、和B(蓝)的墨，进行涂布，形成像素。喷墨法中，需要防止相邻像素间的墨的混色。因此，分隔壁需要具有排斥作为喷墨的喷出液的包含水、有机溶剂的墨的性质，即所谓拒墨性。另一方面，通过喷墨法形成像素的墨层需要具有较高的膜厚均匀性，因此需要由分隔壁包围而成的开口部(点)对喷出液具有良好的润湿性，即所谓亲墨性。因此，为了使分隔壁的表面具有拒墨性，开发了在用于形成分隔壁的感光性树脂组合物中添加拒墨剂的技术。例如，在感光性树脂组合物中添加表面自由能小的拒墨剂，在涂膜的干燥工序中溶剂蒸发的过程中，拒墨剂由于与其它固体成分之间起作用的斥力而发生表面迁移，利用这一现象，实现对得到的分隔壁表面赋予拒墨性。此时，拒墨剂的表面迁移性不足时，存在:由于拒墨剂残留在膜内部而使分隔壁侧面的亲墨性不良的问题；显影工序中膜表面溶解时拒墨剂表面迁移而成的层较薄因而全部被去除，导致分隔壁表面的拒墨性不良的问题等。另外，显影后，由于感光性树脂组合物残留在点上，有时会产生墨的空白点。为了防止该现象而在墨注入前对点进行紫外线/臭氧照射处理等，但此时也存在分隔壁的拒墨性降低的问题。专利文献I中记载了一种负型感光性树脂组合物，其包含拒墨剂，所述拒墨剂由含氟水解性硅烷化合物的水解缩合物形成，所述组合物的表面自由能充分小，即使经过紫外线/臭氧照射处理也可保持拒墨性。专利文献2中记载了一种感光性树脂组合物，其包含具有芳香族仲氨基的水解性硅烷化合物，该感光性树脂组合物的贮藏稳定性良好，且能够提高使用该组合物得到的固化膜的基材密合性。现有技术文献专利文献专利文献1:国际公开 第2010/013816号 专利文献2:国际公开第2007/004345号
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，根据本专利技术人的见解，专利文献I中记载的负型感光性树脂组合物存在构成拒墨剂的水解缩合物的硅烷醇基彼此发生反应而分离等贮藏稳定性不充分的情况。专利文献2中记载的水解性硅烷化合物不具有氟原子，并不作为拒墨剂发挥功倉泛。本专利技术的目的在于，提供在配混于负型感光性树脂组合物时在该组合物中的贮藏稳定性优异、可对由该组合物制造的分隔壁赋予即使经过紫外线/臭氧照射处理也优异的拒墨性的拒墨剂的制造方法，以及贮藏稳定性优异、且可制造即使经过紫外线/臭氧照射处理也可维持优异的拒墨性的分隔壁的负型感光性树脂组合物。另外，本专利技术的目的在于，提供即使经过紫外线/臭氧照射处理拒墨性也优异的分隔壁、以及具有该分隔壁且抑制了空白点现象等的产生的光学元件。用于解决问题的方案本专利技术提供具有以下~的技术方案的拒墨剂的制造方法、负型感光性树脂组合物、分隔壁以及光学元件。 一种拒墨剂的制造方法，其特征在于，其为由如下混合物的部分水解缩合物形成的拒墨剂的制造方法，所述混合物包含下式(c-?)所示的水解性硅烷化合物和下式(c-2)所示的水解性硅烷化合物，所述拒墨剂的制造方法包括以下的工序⑴和工序(II)。工序(I):使前述混合物中含有酸，将水解性硅烷化合物(c-2)的氮原子质子化的工序；工序(II):使前述混合物中含有水和酸催化剂，将该混合物水解并进行缩合反应的工序。【权利要求】1.一种拒墨剂的制造方法，其特征在于，其为由如下混合物的部分水解缩合物形成的拒墨剂的制造方法，所述混合物包含下式(C-1)所示的水解性硅烷化合物和下式(C-2)所示的水解性硅烷化合物， 所述拒墨剂的制造方法包括以下的工序(I)和工序(II)， 工序(I):使所述混合物中包含酸，将水解性硅烷化合物(c-2)的氮原子质子化的工序; 工序(II):使所述混合物中包含水和酸催化剂，将该混合物水解并进行缩合反应的工 2.根据权利要求1所述的拒墨剂的制造方法，其中，所述混合物中的水解性硅烷化合物(c-?)和(c-2)的含有比例是，相对于I摩尔水解性硅烷化合物(c-1)，水解性硅烷化合物(c-2)为0.1~9摩尔。3.根据权利要求1或2所述的拒墨剂的制造方法，其中，所述部分水解缩合物的氟原子的含有比率为10~55质量％。4.根据权利要求1~3中任一项所述的拒墨剂的制造方法，其中，所述部分水解缩合物含有硅烷醇基，相对于每I个硅原子，硅烷醇基为0.2~3.5个。5.根据权利要求1~4中任一项所述的拒墨剂的制造方法，其中，所述式(c-2)中的D和E中的任一者为氢原子，另一者为苯环中的氢原子可以被烷基取代的碳原子数6~12的苯基、或者苯环中的氢原子可以被烷基取代的碳原子数7~12的苯基烷基。6.根据权利要求1~5中任一项所述的拒墨剂的制造方法，其中，所述式(c-2)所示的水解性硅烷化合物为N-苯基-3-氨基丙基二甲氧基硅烷或N-苯基-3-氨基丙基二乙氧基硅烷。7.根据权利要求1~6中任一项所述的拒墨剂的制造方法，其中，所述混合物还包含下式(c-3)所示的水解性硅烷化合物， R113r-SiX5(4_r)…(c-3) 式(c-3)中的符号如下， Rh3:碳原子数I~6的烃基， X5:水解性基团， r:0、1 或 2， 其中，Rh3和X5在所述水解性硅烷化合物内存在多个时，它们可以彼此不同，也可以相同。8.根据权利要求1~7中任一项所述的拒墨剂的制造方法，其中，所述混合物还包含下式(c-4)所示的水解性硅烷化合物， 9.一种负型感光性树脂组合物，其包含:通过权利要求1~8中任一项所述的制造方法得到的拒墨剂、碱溶性树脂(A)、光聚合引发剂(B)、和溶剂(D)。10.根据权利要求9所述的负型感光性树脂组合物，其中，所述拒墨剂的含有比率在负型感光性树脂组合物的全部固体成分中为0.01~10质量％。11.根据权利要求9或10所述的负型感光性树脂组合物，其还包含交联剂(E)，该交联剂(E)为本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种拒墨剂的制造方法，其特征在于，其为由如下混合物的部分水解缩合物形成的拒墨剂的制造方法，所述混合物包含下式(c‑1)所示的水解性硅烷化合物和下式(c‑2)所示的水解性硅烷化合物，所述拒墨剂的制造方法包括以下的工序(I)和工序(II)，工序(I)：使所述混合物中包含酸，将水解性硅烷化合物(c‑2)的氮原子质子化的工序；工序(II)：使所述混合物中包含水和酸催化剂，将该混合物水解并进行缩合反应的工序，式(c‑1)中，A表示氟原子或下式(1)所示的基团，‑Q3‑SiX33…(1)式(c‑2)中，D、E分别独立地表示氢原子、键合于碳原子的氢原子可以被‑NH2基取代的碳原子数1～12的1价有机基团或下式(2)所示的基团，‑Q4‑SiX4(3‑j)(RH2)j…(2)式(c‑1)、(c‑2)中的除A、D、E以外的符号、以及式(1)和(2)中的符号如下，Rf：碳原子数2～15的可以包含醚性氧原子的全氟亚烷基，Q1、Q3：碳原子数1～10的不含氟原子的2价有机基团，RH1、RH2：碳原子数1～6的烃基，Q2、Q4：分别独立地为碳原子数1～6的不含氟原子的2价有机基团，X1、X2、X3、X4：分别独立地为水解性基团，p：1或2，q：0或1、且使p+q为1或2的数，j：0或1，其中，X1～X4在式(c‑1)和/或式(c‑2)内存在多个时、或者E‑N(D)‑Q2在式(c‑2)内存在多个时，它们可以彼此不同，也可以相同。...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：古川丰，高桥秀幸，川岛正行，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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