【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种由下式表示的化合物，其中虚线表示存在或不存在键；R1是Ra、OR2或NR2R3；每个Ra独立地是H、任选地经取代的烃基、任选地经取代的芳基、任选地经取代的杂芳基；R2和R3各自独立地是Ra、CORa或SO2Ra；Y1、Y2、Y3和Y4各自独立地是CR4或N；每个R4独立地是R2、ORa、NR2R3、SRa、SORa、SO2Ra、SO2NHRa、NCORa、卤素、三卤甲基、CN、S=O或硝基；R5是Ra、CORa、SO2Ra或不存在；V是CR2、CR2R3、C=O、COCR2R3或C=NR2；并且W和X可以各自独立地是N、NRa、O、S、CR2R4或CR4。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：肖恩·P·艾度纳托，克里斯廷·贝达德，米拉·王·伊曼纳卡，凯利·W·佛勒，
申请(专利权)人：奇尼塔公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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