涂敷液填充方法、狭缝喷嘴、排出口闭口构件以及狭缝喷嘴单元技术

本发明专利技术提供有助于提高涂膜品质的涂敷液填充方法。该涂敷液填充方法是将对基板表面涂敷涂敷液的狭缝喷嘴的内部的气体排出并填充涂敷液的方法，狭缝喷嘴具备：涂敷液供给口；涂敷液排出口；歧管，与供给口连通，用于将涂敷液贮存到狭缝喷嘴内部；液体通路，与歧管连通，用于使涂敷液向狭缝喷嘴的排出口流动；以及通气孔，用于排除歧管内的气体，该涂敷液填充方法具有在从上述供给口向上述狭缝喷嘴内部的涂敷液的送液中进行的排出口闭口工序和通气孔开放工序，该排出口闭口工序使上述排出口成为关闭的状态，该通气孔开放工序使上述通气孔成为开放的状态。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供有助于提高涂膜品质的涂敷液填充方法。该涂敷液填充方法是将对基板表面涂敷涂敷液的狭缝喷嘴的内部的气体排出并填充涂敷液的方法，狭缝喷嘴具备：涂敷液供给口；涂敷液排出口；歧管，与供给口连通，用于将涂敷液贮存到狭缝喷嘴内部；液体通路，与歧管连通，用于使涂敷液向狭缝喷嘴的排出口流动；以及通气孔，用于排除歧管内的气体，该涂敷液填充方法具有在从上述供给口向上述狭缝喷嘴内部的涂敷液的送液中进行的排出口闭口工序和通气孔开放工序，该排出口闭口工序使上述排出口成为关闭的状态，该通气孔开放工序使上述通气孔成为开放的状态。【专利说明】涂敷液填充方法、狭缝喷嘴、排出口闭口构件以及狭缝喷嘴单元
本专利技术涉及排出用于形成涂膜的涂敷液的狭缝喷嘴、对该狭缝喷嘴的涂敷液填充方法、该涂敷液填充时使用的排出口闭口构件以及包含该排出口闭口构件的狭缝喷嘴单J Li ο
技术介绍
作为在液晶用玻璃基板、半导体晶片等的表面上形成涂膜的方法，有使用狭缝喷嘴来进行的狭缝涂敷法。该方法是从狭缝喷嘴的狭缝状的排出口排出向狭缝喷嘴内的歧管填充的涂敷液来形成涂膜的方法。而且，在通过狭缝涂敷等的方法形成涂膜的装置中，期望能够形成均匀的厚度的涂月旲等闻品质的涂I旲的装置。作为进行狭缝涂敷的装置，例如有具备具有抽出歧管内的空气的空气抽出孔的狭缝喷嘴的涂敷处理装置(参照专利文献I)。该装置的狭缝喷嘴具备在歧管的两侧端部形成的供给口和在歧管的中央上部形成的空气抽出孔，在从两供给口向歧管内供给抗蚀液时，从中央的空气抽出孔抽出空气，抗蚀液被填充到歧管内。另外，该装置的歧管的上表面从两端的供给口向中央上部的空气抽出孔下端上倾。通过使歧管的形状为这种形状，能够简单且可靠地抽出歧管内的空气，进而获得没有气泡的混入的均匀的涂敷膜。因此，在开始涂敷之前释放空气抽出孔一定时间来排出上述歧管内的气体并且用涂敷液对该歧管内进行填充，由此在将从排出口排出的涂敷液的压力调整得均匀并且将从排出口排出的涂敷液调整为直线状之后开始涂敷。专利文献专利文献1:日本特开2005-144376号公报(参照该公报的图3、段落〔0072〕)但是，狭缝喷嘴100在上述歧管101之下具备涂敷液与排出口连通的液体通路102(参照图7)。在该狭缝喷嘴100中，涂敷液L从上述歧管101经由上述液体通路102流到喷嘴前端的排出口 103。而且，在用低粘度的涂敷液形成较薄的涂膜的情况下，液体通路102的宽度为数十μ m左右，在液体到达上述排出口 103之前涂敷液L遍布上述歧管101内的每一处，歧管101内的空气抽出能够毫无问题的进行。但是，随着涂敷液L变得高粘度，作为用于挤出液体的压力以及时间，需要更高的压力及更长的时间，并且，也需要使狭缝喷嘴100的液体通路102的宽度为更宽。而且，在通路宽度变为宽幅时，有涂敷液L到达排出口 103的时期提前的倾向，有时在涂敷液遍布歧管101内的每一处之前(用涂敷液填充歧管内之前)涂敷液从排出口 103溢出落下(参照图7)。
技术实现思路
本专利技术是鉴于这种问题点做出的，以提供在狭缝宽度较宽的高粘度液用的狭缝喷嘴中能够进行良好的空气抽出的涂敷液填充方法，并且提供在这种狭缝喷嘴中使用的排出口闭口构件以及狭缝喷嘴单元为课题。本专利技术的涂敷液填充方法，是将涂敷液填充到以规定宽度对被处理物表面涂敷涂敷液的狭缝喷嘴的内部的方法，该涂敷液填充方法的特征在于，上述狭缝喷嘴具备:作为涂敷液的供给部的供给口 ；作为涂敷液的排出部的排出口 ；与上述供给口连通，用于将涂敷液贮存到狭缝喷嘴内部的歧管；与上述歧管连通，使涂敷液向上述狭缝喷嘴的排出口流动的液体通路；以及用于排出上述歧管内的气体的通气孔，该涂敷液填充方法具有在从上述供给口向上述狭缝喷嘴内部的涂敷液的送液中进行的排出口闭口工序和通气孔开放工序，该排出口闭口工序使上述排出口成为关闭的状态，该通气孔开放工序使上述通气孔成为开放的状态。而且，将涂敷液送液到上述狭缝喷嘴内部的送液工序是对上述液体通路内填充涂敷液，之后对上述歧管内填充涂敷液的工序。另外，在向上述液体通路内填充涂敷液开始之前进行上述排出口闭口工序。另外，上述通气孔为多个，各通气孔通过按每个通气孔执行的上述通气孔开放工序以及通气孔闭口工序而开闭，控制各通气孔的开闭，以使至少任一个通气孔变为开放状态。另外，还具有在将涂敷液送液到上述狭缝喷嘴内部的送液工序结束后，将闭口状态的上述排出口开放的工序、以及之后刮除流到上述排出口外侧的涂敷液的工序。另外，上述排出口闭口工序是使上述排出口与排出口闭口构件接触从而关闭的工序，将闭口状态的上述排出口开放的工序是使上述排出口闭口构件与上述排出口分离的工序。本申请涉及的另一个专利技术是在上述的涂敷液填充方法中使用的排出口闭口构件。另外，另外的专利技术的特征在于，是具备以规定宽度对被处理物表面涂敷涂敷液的狭缝喷嘴的狭缝喷嘴单元，上述狭缝喷嘴具备:作为涂敷液的供给部的供给口 ；作为涂敷液的排出部的排出口 ；与上述供给口连通，用于将涂敷液贮存到狭缝喷嘴内部的歧管；与上述歧管连通，使涂敷液向上述狭缝喷嘴的排出口流动的液体通路；以及用于排出上述歧管内的气体的通气孔，上述狭缝喷嘴单元还具备排出口闭口构件，该排出口闭口构件用于在从上述供给口向上述狭缝喷嘴内部的涂敷液的送液中，将上述排出口设为关闭的状态。另一个专利技术是具备以规定宽度对被处理物表面涂敷涂敷液的狭缝喷嘴和上述的排出口闭口构件的狭缝喷嘴单元。而且，上述排出口闭口构件以弹性体包覆作为主体部的芯构件的周围而成。专利技术的效果根据作为本申请涉及的专利技术的涂敷液填充方法，能够迅速且可靠地对歧管内填充涂敷液。因此，本专利技术涉及的涂敷液填充方法作为狭缝宽度较宽的狭缝喷嘴的涂敷液填充方法是优选的。而且，如果使用该方法进行填充，则在之后的涂敷工序中，能够更可靠地形成均匀的膜厚的涂膜。另外，通过本专利技术涉及的排出口闭口构件以及狭缝喷嘴单元，能够更可靠地实施本申请涉及的涂敷液填充方法。【专利附图】【附图说明】图1是表示安装有通过本专利技术涉及的涂敷液填充方法填充涂敷液的狭缝喷嘴的液体涂敷装置的立体图。图2是表示狭缝喷嘴的分解立体图。图3是表示狭缝喷嘴的立体图。图4是表示图3的A-A剖面的狭缝喷嘴的剖视图。图5是表示狭缝喷嘴的主视图。图6是用于说明涂敷液填充方法的示意图。图7是用于说明以往的填充状态的示意图。符号说明I液体涂敷装置2基台2a、2b侧壁3基板用的工作台4板材(基板)5a、5b导轨`10涂敷机构部20狭缝喷嘴(涂敷头)21、22喷嘴片21a,22a突出部2 lb、22b抵接面23垫片23a凹部24涂敷液供给口(供给口)24a上端开口24b下端开口25通孔26歧管26a歧管的开口28液体通路空间(液体通路)29排出口31通气孔40维护(maintenance)机构48滑块可动部50填充台51填充条(排出口闭口构件)52芯构件53弹性件53a填充条的上面X长度方向W狭缝宽度(液体通路宽度)【具体实施方式】接着，对本专利技术涉及的涂敷液填充方法、狭缝喷嘴、排出口闭口构件以及狭缝喷嘴单元的实施例进行说明。涂敷液填充方法在对液体涂敷装置具有的狭缝喷嘴填充涂敷液时使用。为此，首先，对液体涂敷装置进行说明。液体涂敷装置是用于对基板等板材(保留本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂敷液填充方法，其特征在于，在将涂敷液填充到以规定宽度对被处理物表面涂敷涂敷液的狭缝喷嘴的内部的方法中，上述狭缝喷嘴具备：作为涂敷液的供给部的供给口；作为涂敷液的排出部的排出口；与上述供给口连通，用于将涂敷液贮存到狭缝喷嘴内部的歧管；与上述歧管连通，使涂敷液向上述狭缝喷嘴的排出口流动的液体通路；以及用于排出上述歧管内的气体的通气孔，该涂敷液填充方法具有在从上述供给口向上述狭缝喷嘴内部的涂敷液的送液中进行的排出口闭口工序和通气孔开放工序，该排出口闭口工序使上述排出口成为关闭的状态，该通气孔开放工序使上述通气孔成为开放的状态。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：永田义寿，有动修，
申请(专利权)人：平田机工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP