【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种酸性化学机械抛光液，包括研磨颗粒，氧化剂，水，所述抛光液还含有金属离子磨削促进剂以及溶解在抛光液中的螯合物，其中，所述螯合物具有含胺化合物作为配位体。该抛光液具有加工性能（如储存稳定性）或者对皮肤刺激性较少，改进了对存储器硬盘所用基片的精抛光。并且能够在对存储器硬盘基片进行经抛光的过程中防止形成微凸起、微凹坑和其它表面缺陷，抛光速率不低于常规抛光组合物，同时能得到优良的抛光加工表面。【专利说明】一种酸性化学机械抛光液
本专利技术涉及一种化学机械抛光液，更具体地说，涉及一种酸性的化学机械抛光液。
技术介绍
硬盘作为计算机数据存储的主要部件，其磁存储密度不断提高，磁头与磁盘磁介质之间的距离进一步减小，磁头的飞行高度已小于5nm以下，对磁盘表面质量的要求也越来越高。当硬盘表面具有波度时，磁头就会随着高速旋转的储存器硬盘的波动上下运动，当波度超过一定的高度时，磁头就不再能随着波度运动，它就会与磁盘基片表面碰撞，发生所谓的“磁头压碎”导致磁盘设备发生故障或读写信息的错误。另一方面，当存储器硬盘表面上存在数微米的微凸起时也会发生磁头压碎。此外，当硬盘表...
【技术保护点】
一种酸性化学机械抛光液，含有：研磨颗粒，氧化剂，水，其特征在于，所述抛光液还含有金属离子磨削促进剂以及溶解在抛光液中的螯合物，其中，所述螯合物具有含胺化合物作为配位体。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：高嫄，王雨春，
申请(专利权)人：安集微电子上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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