一种活性纳米级单晶二氧化硅制造技术

一种活性纳米级单晶二氧化硅，其特征在于，单晶二氧化硅的加工过程为：1）粗旷筛选，水性环境，水洗、酸洗、中和处理PH值控制在4～10，去处矿石表面杂质单晶粗粉碎，2）干式粉碎，线速度6m/s～25m/s,空气压力2～18公斤；3）单晶分级工艺，干式分级单晶精研磨工艺；4）湿法粉碎，中性水性环境，不破坏单晶形貌的条件下进行分散处理纳米级研磨，对颗粒进行最终细度加工，使其达到纳米级10～800纳米，使其比表面积最大化，以达到易分散效果纳米级颗粒成型加工，最终颗粒外形处理抛光，使其表面活性更大，更易于橡胶结合成型；5）纳米表面加工，纳米活性处理，液体加工成粉体。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种活性纳米级单晶二氧化硅，其特征在于，单晶二氧化硅的加工过程为：1）粗旷筛选，水性环境，水洗、酸洗、中和处理PH值控制在4～10，去处矿石表面杂质单晶粗粉碎，2）干式粉碎，线速度6m/s～25m/s,空气压力2～18公斤；3）单晶分级工艺，干式分级单晶精研磨工艺；4）湿法粉碎，中性水性环境，不破坏单晶形貌的条件下进行分散处理纳米级研磨，对颗粒进行最终细度加工，使其达到纳米级10～800纳米，使其比表面积最大化，以达到易分散效果纳米级颗粒成型加工，最终颗粒外形处理抛光，使其表面活性更大，更易于橡胶结合成型；5）纳米表面加工，纳米活性处理，液体加工成粉体。【专利说明】一种活性纳米级单晶二氧化硅
本专利技术涉及一种活性纳米级单晶二氧化硅。
技术介绍
现有的类似产品为气相法生产的白炭黑或者沉淀法生产的白碳黑，由于白碳黑是一种具有触变性的物质，所以在橡胶产品添加时的添加量受到限制，而且不易分散，影响了橡胶的生产效率，制约了橡胶的生产效率，提高了橡胶生产过程中的能耗。因为添加量的有限，所以作为填料在橡胶主材中的改善特性不能充分发挥。根本体现不出纳米级二氧化硅的真正纳米特性。
技术实现思路
针对现有技术上存在的不足，本专利技术提供一种活性纳米级单晶二氧化硅。为了实现上述目的，本专利技术的技术方案如下: 一种活性纳米级单晶二氧化硅，其特征在于，单晶二氧化硅的加工过程为: I)粗旷筛选，水性环境，水洗、酸洗、中和处理PH值控制在4~10，去处矿石表面杂质单晶粗粉碎； 2)干式粉碎，线速度6m/s~25m/s,空气压力2~18公斤； 3)单晶分级工艺，干式分级`单晶精研磨工艺；4)湿法粉碎，中性水性环境，不破坏单晶形貌的条件下进行分散处理纳米级研磨，对颗粒进行最终细度加工，使其达到纳米级10~800纳米使其比表面积最大化，以达到易分散效果纳米级颗粒成型加工，最终颗粒外形处理抛光，使其表面活性更大，更易于橡胶结合成型； 5)纳米表面加工，纳米活性处理，液体加工成粉体,并使粉体表面二次活性处理，表现出更优异的活性及易分散性，一旦于橡胶结合，则能完全表现出单晶纳米二氧化硅的各个优异特性，极易分散，超高添加比例，耐酸耐碱，耐高温，超耐磨。利用纳米级单晶二氧化硅生产的橡胶，由以下成分按照重量百分比构成， 纯度80%以上二氧化硅矿30%~90%，提高橡胶的耐酸耐碱特性； 粗粉碎助剂0.1%~10%，增加比表面积 精研磨稳定剂0.2%~10%，增加比表面积 纳米分散剂0.01%~5%，提高产品耐温性能，易分散性等 颗粒成型助剂5%~20%，使产品具有极佳的易分散性，与橡胶结合性更好 活性剂0.02%~5%，使产品具有更好的硫化活性 纳米分散稳定剂0.1%~10%，提高产品稳定性 所述分散剂为六偏磷酸钠或三聚磷酸钠；活性剂为十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠或O P— I O (烷基酚聚氧乙烯醚)中的一种，粉碎助剂是硅化合物类、聚羧酸盐类中的至少一种化合物，活性剂为非离子表面活性剂或阳离子表面活性剂，所述的非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基酚聚氧乙烯醚，所述阳离子表面活性剂为季铵盐型表面活性剂，分散稳定剂为聚乙二醇、阿拉伯树胶粉、羧甲基纤维素三者之一。与现有类似产品相比:生产过程环保，节能，对原矿的利用率高达98%，生产过程稳定可控，整体工艺简单。体现在产品性能上，在同等使用量的前提下，对橡胶及乳胶制品的重要理化指标有100%~200%的显著提高，如果添加量提高I~3倍，则橡胶及乳胶制品的性能有质的飞跃，可以突破原有的使用领域，使得落后的橡胶及乳胶制品迈入新材料的行业，前景不可限量。【具体实施方式】为更为详细的阐述本专利技术，该本专利技术实施例如下: 实施例1 一种活性纳米级单晶二氧化硅，其特征在于，单晶二氧化硅的加工过程为: I)粗旷筛选，水性环境，水洗、酸洗、中和处理PH值控制在4~10，去处矿石表面杂质单晶粗粉碎； 2)干式粉碎，线速度6m/s~25m/s,空气压力2~18公斤； 3)单晶分级工艺，干式分级单晶精研磨工艺；4)湿法粉碎，中性水性环境，不破坏单晶形貌的条件下进行分散处理纳米级研磨，对颗粒进行最终细度加工，使其达到纳米级10~800纳米使其比表面积最大化，以达到易分散效果纳米级颗粒成型加工，最终颗粒外形处理抛光，使其表面活性更大，更易于橡胶结合成型； 5)纳米表面加工，纳米活性处理，液体加工成粉体,并使粉体表面二次活性处理，表现出更优异的活性及易分散性，一旦于橡胶结合，则能完全表现出单晶纳米二氧化硅的各个优异特性，极易分散，超高添加比例，耐酸耐碱，耐高温，超耐磨。`利用纳米级单晶二氧化硅生产的橡胶，由以下成分按照重量百分比构成， 纯度80%以上二氧化硅矿30%~90%，提高橡胶的耐酸耐碱特性； 粗粉碎助剂0.1%~10%，增加比表面积 精研磨稳定剂0.2%~10%，增加比表面积 纳米分散剂0.01%~5%，提高产品耐温性能，易分散性等 颗粒成型助剂5%~20%，使产品具有极佳的易分散性，与橡胶结合性更好 活性剂0.02%~5%，使产品具有更好的硫化活性 纳米分散稳定剂0.1%~10%，提高产品稳定性 所述分散剂为六偏磷酸钠或三聚磷酸钠；活性剂为十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠或O P— I O (烷基酚聚氧乙烯醚)中的一种，粉碎助剂是硅化合物类、聚羧酸盐类中的至少一种化合物，活性剂为非离子表面活性剂或阳离子表面活性剂，所述的非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基酚聚氧乙烯醚，所述阳离子表面活性剂为季铵盐型表面活性剂，分散稳定剂为聚乙二醇、阿拉伯树胶粉、羧甲基纤维素三者之一。以上显示和描述了本专利技术的基本原理和主要特征和本专利技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本专利技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本专利技术的原理，在不脱离本专利技术精神和范围的前提下，本专利技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本专利技术范围内。本专利技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。【权利要求】1.一种活性纳米级单晶二氧化硅，其特征在于，单晶二氧化硅的加工过程为:1)粗旷筛选，水性环境，水洗、酸洗、中和处理PH值控制在4~10，去处矿石表面杂质单晶粗粉碎，2)干式粉碎，线速度6m/s~25m/s，空气压力2~18公斤；3)单晶分级工艺，干式分级单晶精研磨工艺；4)湿法粉碎，中性水性环境，不破坏单晶形貌的条件下进行分散处理纳米级研磨，对颗粒进行最终细度加工，使其达到纳米级10~800纳米使其比表面积最大化，以达到易分散效果纳米级颗粒成型加工，最终颗粒外形处理抛光，使其表面活性更大，更易于橡胶结合成型；5)纳米表面加工，纳米活性处理，液体加工成粉体，并使粉体表面二次活性处理，表现出更优异的活性及易分散性，一旦于橡胶结合，则能完全表现出单晶纳米二氧化硅的各个优异特性，极易分散，超高添加比例，耐酸耐碱，耐高温，超耐磨。2.利用权利要求1所述的纳米级单晶二氧化硅生产的橡胶，由以下成分按照重量百分比构成，纯度80%以上二氧化硅矿30%~90%，粗粉碎助剂0.1%~10%，精研磨稳定剂0.2%~10%，纳米分散剂 0.01%~5%，颗粒成型助剂5%~20%本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种活性纳米级单晶二氧化硅，其特征在于，单晶二氧化硅的加工过程为：1）粗旷筛选，水性环境?，水洗、酸洗、中和处理?PH值控制在?4～10，去处矿石表面杂质单晶粗粉碎，?2）干式粉碎，线速度?6m/s～25m/s,空气压力?2～18公斤；3）单晶分级工艺，干式分级单晶精研磨工艺；4）湿法粉碎，中性水性环境，不破坏单晶形貌的条件下进行分散处理纳米级研磨，对颗粒进行最终细度加工，使其达到纳米级?10～800纳米??????????????????使其比表面积最大化，以达到易分散效果纳米级颗粒成型加工，?最终颗粒外形处理抛光，使其表面活性更大，更易于橡胶结合成型；5）纳米表面加工，纳米活性处理，液体加工成粉体，并使粉体表面二次活性处理?，表现出更优异的活性及易分散性?，一旦于橡胶结合，则能完全表现出单晶纳米二氧化硅的各个优异特性，?极易分散，超高添加比例，耐酸耐碱，耐高温，超耐磨。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：许荣，
申请(专利权)人：上海那博新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：