一种大面积制备透明导电膜玻璃的方法技术

本发明专利技术涉及一种大面积制备透明导电膜玻璃的方法，包括以下步骤：玻璃板（1）进入第一液相辊涂镀膜机（5a），在玻璃板上涂覆氧化硅液体前驱物，形成厚度为30～150nm的中间薄膜层；玻璃板进入第二液相辊涂镀膜机(5b)，在玻璃板的中间薄膜层上涂覆氧化锡掺杂液体前驱物，形成厚度为360-1200nm的氧化锡掺杂透明导电薄膜；玻璃板进行热处理，温度为400～700℃，时间不少于3分钟。本发明专利技术得到的透明导电膜具有高透过率、高电导率以及自身绒面结构的特点，在薄膜太阳能电池及低辐射节能玻璃中应用极广。本发明专利技术实现简单、低成本、大面积均匀制备透明导电膜玻璃。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及，包括以下步骤：玻璃板（1）进入第一液相辊涂镀膜机（5a），在玻璃板上涂覆氧化硅液体前驱物，形成厚度为30～150nm的中间薄膜层；玻璃板进入第二液相辊涂镀膜机(5b)，在玻璃板的中间薄膜层上涂覆氧化锡掺杂液体前驱物，形成厚度为360-1200nm的氧化锡掺杂透明导电薄膜；玻璃板进行热处理，温度为400～700℃，时间不少于3分钟。本专利技术得到的透明导电膜具有高透过率、高电导率以及自身绒面结构的特点，在薄膜太阳能电池及低辐射节能玻璃中应用极广。本专利技术实现简单、低成本、大面积均匀制备透明导电膜玻璃。【专利说明】
本专利技术涉及，该玻璃主要应用于薄膜太阳能电池及低福射节能玻璃等领域。
技术介绍
随着能源危机及传统能源对环境污染的日趋严重，开发可再生洁净能源成为国际范围内的重大战略课题之一，太阳能是取之不尽、用之不竭的洁净能源，因此，研究与开发利用太阳能成为世界各国政府可持续发展的能源战略决策。其中，薄膜太阳能电池以其低成本、易大面积实现等优点，太阳能电池中占据重要位置，应用前景广阔，而氧化锡掺杂透明导电膜具有高透过率、高电导率以及自身绒面结构的优点，使其在薄膜太阳能电池及低辐射节能玻璃中得到广泛应用。中国专利CN1962510阐述一种利用喷雾热解法制备氧化锡透明导电膜的方法。该方法利用SnCl2.2H20和NH4F得到了电阻20 Ω / 口的氧化锡薄膜，但该方法成膜速度太低，需经过多次反复喷涂才能得到满足要求的透明导电膜。中国专利CN101140143阐述了超声喷雾法制备大面积透明导电膜的方法及装备。该方法通过超声喷雾法，在静止的热玻璃表面上沉积了氧化锡掺杂氟透明导电膜，膜层电导率及透过率较高，但该方法未涉及中间屏蔽层的制备，同时，该方法得到的样品膜层不够均匀且尺寸较小，不宜进行工业化生产。中国专利CN101188149阐述了一种利用射频磁控溅射法在玻璃表面共沉积Ce掺杂的AZO透明导电膜的方法，得到了电阻率为7~8 X 10_4 Ω.cm，在400~800nm可见光范围内平均透过率达到80~90%的透明导电膜，但该方法得到的透明导电膜本身不具有绒面结构，需经过绒面处理后才能应用于太阳能电池电极。中国专利CN1145882阐述了一种通过化学气相沉积的方式在移动的6 30~640°C的平板玻璃或浮法玻璃基体上，利用四氯化锡和水预混合形成单一的气流，沉积氧化锡膜层的方法。该方法涉及的反应物质要求在高温下瞬间分解反应，不易控制，工艺复杂。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有技术存在的不足，提供一种大面积透明导电膜玻璃的制备方法。本专利技术采用了如下技术方案: ，其特征在于包括以下步骤: (1).玻璃板进入第一液相辊涂镀膜机，利用液相辊涂法，在玻璃板上涂覆氧化硅液体前驱物，然后进入流平段中进行流平表干，形成厚度为30~150nm的中间薄膜层； (2).流平表干的玻璃板进入第二液相辊涂镀膜机，利用液相辊涂法，在玻璃板的中间薄膜层上涂覆氧化锡掺杂液体前驱物，形成厚度为360-1200nm的氧化锡掺杂透明导电薄膜； (3).镀完膜的玻璃板送入后处理段中进行热处理，后处理温度为400~700°C，热处理时间不少于3分钟。在上述技术方案的基础上，可以有以下进一步的技术方案: (0.所述氧化娃液体前驱物的化学式为RuOvSim,其中R为直链或支链或环烷基，u=3_8，v=0-4, m=l-4 ； (2).所述氧化锡掺杂液体前驱物包括: 氧化锡液体前驱物，其化学式为RnSnCl4_n，其中R为直链或支链或环烷基，n=0, I或2，锡源为 RnSnCl4_n ； 掺杂液体前驱物，包括氟的前驱物，主要有三氟乙酸、氢氟酸、三氟化磷、氟化铵；锑的前驱物，主要有三氯化锑、五氯化锑； 液体前驱物中的溶剂是水、醇类或其混合物。氧化锡液体前驱物优选四氯化锡或单丁基三氯化锡； 氧化硅液体前驱物优选正硅酸乙酯或正硅酸甲酯。在本专利技术中，透明导电膜的主要成分是氧化锡薄膜，为了提高膜层的导电率，需要在膜层中进行掺杂形成半导体导电薄膜，掺杂的成分有氟、锑等；同时，本专利技术中的氧化锡掺氟透明导电膜的厚度 至少360nm，优选不小于400nm，厚度的上限没有特别的限制，一般不超过1200nm。在本专利技术中，在玻璃基板和顶层氧化锡薄膜之间沉积一层中间薄膜层，该中间薄膜层的目的，一方面，是为了防止玻璃基板中的碱金属离子扩散到透明导电膜中引起导电膜碱中毒，从而影响膜层的电导率和透光性；另一方面，是为了消除膜层的光干涉条纹。中间薄膜层沉积在玻璃板上，该膜层的主要成分是二氧化硅等。中间膜层的合适厚度为30~150nm,优选50~IOOnm,膜层如果太薄,不能起到碱金属离子屏蔽作用，从而影响透明导电层3的电导率，同时中间层也不能太厚，太厚会影响导电膜玻璃的可见光透过率。在本专利技术中，用液相辊涂法涂覆氧化锡掺杂透明导电膜玻璃的后处理温度为400~700°C，为了得到较高的电导率，一般温度至少500°C，优选不少于550°C。热处理的目的是促进薄膜晶粒的充分生长培育。热处理时间不少于3分钟，优选不少于8分钟。在本专利技术中，制备透明导电膜所用的氧化锡液体前驱物的化学式为RnSnCl4_n，其中R为直链或支链或环烷基，n=0，I或2 ;锡源RnSnCl4_n常用的如四氯化锡等无机锡或单丁基二氣化锡等有机锡。氧化硅的液体前驱物的化学式为RuOvSini，其中R为直链或支链或环烷基，u=3-8，v=0-4，m=l-4。典型的如正硅酸乙酯(TEOS)、正硅酸甲酯(TMOS)等。氟的前驱物包括三氟乙酸、氢氟酸、三氟化磷、氟化铵等；锑的前驱物包括三氯化锑、五氯化锑等。它们作为掺杂而存在可以提高FTO透明导电膜的电导率。液体前驱液中的溶剂是水、醇类(乙醇、丙醇等)或其混合物。本专利技术通过改变前驱物混合液的配方，可以控制膜层的质量，改善膜层的功能。本专利技术工艺简单，设备及原料成本低，易于操作，便于工业化大批量生产。本专利技术采用合适的液体前驱物在移动的玻璃表面镀制了氧化锡掺杂透明导电氧化物薄膜，得到的透明导电膜具有高透过率、高电导率以及自身绒面结构的特点，在薄膜太阳能电池及低辐射节能玻璃中应用极广。本专利技术实现简单、低成本、大面积均匀制备透明导电膜玻璃。图1为本专利技术透明导电膜的膜层结构示意图； 图2为本专利技术的工艺流程示意图。【具体实施方式】以下结合实施例进一步说明本专利技术，同时本专利技术并不限制于这些实施例。实施例1 本专利技术工艺的流程参照图1、图2，玻璃板I由上片台4通过传送辊道8进入液相辊涂镀膜机5a，在玻璃板I上涂覆一层中间薄膜层2，然后进入流平段6中进行流平表干，紧接着玻璃进入液相辊涂镀膜机5b，在此处涂覆一定厚度的氧化锡掺杂功能层薄膜3，最后镀完膜的玻璃送入后处理段7中进行热处理，为了保证膜层晶核得到充分生长培育，热处理温度需预先设定在一个合适的温度范围内。在本实施例中，玻璃基板为3.2mm超白玻璃；利用第一个液相辊涂镀膜机，在一个大气压，温度为25°C，湿度40%的环境下，玻璃板移动速度6m/min，辊子转速7m/min，以正硅酸乙酯的水解产物二氧化硅溶胶在玻璃表面镀制了一层二氧化硅中间薄膜层；接着利用第二个液相辊涂镀膜机，在一个大气压，温度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大面积制备透明导电膜玻璃的方法，其特征在于包括以下步骤：（1）.玻璃板进入第一液相辊涂镀膜机，利用液相辊涂法，在玻璃板上涂覆氧化硅液体前驱物，然后进入流平段中进行流平表干，形成厚度为30～150nm的中间薄膜层；（2）.流平表干的玻璃板进入第二液相辊涂镀膜机，利用液相辊涂法，在玻璃板的中间薄膜层上涂覆氧化锡掺杂液体前驱物，形成厚度为360?1200nm的氧化锡掺杂透明导电薄膜；（3）.镀完膜的玻璃板送入后处理段中进行热处理，热处理温度为400～700℃，热处理时间不少于3分钟。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：彭寿，王芸，金良茂，甘治平，王东，单传丽，石丽芬，王萍萍，孙人杰，
申请(专利权)人：蚌埠玻璃工业设计研究院，中国建材国际工程集团有限公司，
类型：发明
国别省市：