光固化性树脂组合物以及新型硅氧烷化合物制造技术

本发明专利技术提供一种能够进行碱显影、并且能够获得粘附性和耐擦伤性优良的固化物、作为图像显示装置的图像显示面的硬涂材料而有用的光固化性树脂组合物以及作为该光固化性树脂组合物的树脂成分而有用的新型硅氧烷化合物。具体地，提供一种光固化性树脂组合物以及由下述通式（4）表示的新型硅氧烷化合物，所述光固化性树脂组合物含有：（A）多元醇丙烯酸酯化合物、（B）在分子中具有丙烯酸基或甲基丙烯酸基和羧基的化合物、（C）由下述通式（1）～（4）中任一者表示的硅氧烷化合物以及（D）光自由基发生剂。此外，关于所述通式（1）～（4）的具体内容，如本说明书中所记载的那样，

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种能够进行碱显影、并且能够获得粘附性和耐擦伤性优良的固化物、作为图像显示装置的图像显示面的硬涂材料而有用的光固化性树脂组合物以及作为该光固化性树脂组合物的树脂成分而有用的新型硅氧烷化合物。具体地，提供一种光固化性树脂组合物以及由下述通式（4）表示的新型硅氧烷化合物，所述光固化性树脂组合物含有：（A）多元醇丙烯酸酯化合物、（B）在分子中具有丙烯酸基或甲基丙烯酸基和羧基的化合物、（C）由下述通式（1）～（4）中任一者表示的硅氧烷化合物以及（D）光自由基发生剂。此外，关于所述通式（1）～（4）的具体内容，如本说明书中所记载的那样，【专利说明】光固化性树脂组合物以及新型硅氧烷化合物
本专利技术涉及一种能够进行碱显影、并且能够形成粘附性、耐擦伤性、透明性优良的固化物的光固化性树脂组合物以及作为该光固化性树脂组合物的树脂成分而有用的新型硅氧烷化合物。
技术介绍
对于液晶显示器、CRT显示器、投影显示设备、等离子体显示器、电致发光显示器等图像显示装置中的图像显示面来说，在处理时为了使其没有划伤，要求赋予其耐擦伤性。对于耐擦伤性的提高来说，一般是在图像显示面上形成硬涂层。丙烯酸酯化合物通过使用光自由基发生剂，能够在短时间内固化，作为硬涂材料，可以使用以多官能丙烯酸酯为主成分的光固化性组合物。在多官能丙烯酸酯中，特别是以二季戊四醇六丙烯酸酯为主成分的光固化性组合物(参照例如专利文献1、2)可以获得表面硬度高、耐擦伤性优良的硬涂层，但与玻璃等的粘附性不充分。作为改良与玻璃的粘附性的技术，已知以季戊四醇三丙烯酸酯等具有羟基的丙烯酸酯为主成分的光固化性组合物(参照例如专利文献3)，但存在表面硬度不充分、容易划伤的问题。另外，已知由含有具有环氧环己基的硅氧烷化合物和自由基固化性丙烯酸树脂的光固化性组合物(参照例如专利文献4)可以获得耐擦伤性优良的硬涂层，但与玻璃的粘附性不充分。另一方面，为了仅在画面显示面上形成硬涂层，优选使用光致抗蚀剂，进而，如果考虑还对环境和健康的影响，优选使用能够进行碱显影的光致抗蚀剂。能够进行碱显影、并且能够用于硬涂层的光致抗蚀剂(参照例如专利文献5)也是已知的，但这些公知的光致抗蚀剂的耐擦伤性并不充分。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平9-48934号公报专利文献2:日本特开2011-12145号公报专利文献3:日本特开2000-191710号公报专利文献4:日本特开2003-292891号公报专利文献5:日本特开2008-216875号公报
技术实现思路
本专利技术要解决的问题因此，本专利技术的目的是提供一种能够进行碱显影、并且能够获得粘附性和耐擦伤性优良的固化物、作为图像显示装置的图像显示面的硬涂材料而有用的光固化性树脂组合物以及作为该光固化性树脂组合物的树脂成分而有用的新型硅氧烷化合物。解决问题的手段本【专利技术者】进行了深入研究，结果发现:通过配合特定结构的硅氧烷化合物，可以实现上述目的，从而完成了本专利技术。即，本专利技术提供一种光固化性树脂组合物，其含有:(A)多元醇丙烯酸酯化合物、(B)在分子中具有丙烯酸基或甲基丙烯酸基和羧基的化合物、(C)由下述通式(I)~(4)中任一者表不的硅氧烷化合物以及(D)光自由基发生剂。【权利要求】1.一种光固化性树脂组合物，其含有:(A)多元醇丙烯酸酯化合物、(B)在分子中具有丙烯酸基或甲基丙烯酸基和羧基的化合物、(C)由下述通式(I)~(4)中任一者表示的硅氧烷化合物以及(D)光自由基发生剂， 2.根据权利要求1所述的光固化性树脂组合物，其中，所述通式(I)~(3)中的G是3-缩水甘油氧基丙基。3.根据权利要求1或2所述的光固化性树脂组合物，其进一步含有(E)磷酸丙烯酸酯化合物。4.一种硅氧烷化合物，其由下述通式(4)表示， 【文档编号】C08G59/17GK103781814SQ201280043122 【公开日】2014年5月7日 申请日期:2012年10月22日 优先权日:2011年10月25日【专利技术者】原宪司, 岩岛智幸, 尾见仁一, 斋藤诚一 申请人:株式会社艾迪科本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：原宪司，岩岛智幸，尾见仁一，斋藤诚一，
申请(专利权)人：株式会社艾迪科，
类型：
国别省市：