本发明提供一种曝光方法及曝光装置。在曝光方法中，当一边向箭头A方向输送被曝光体(8)，一边使用光掩模(11)的第一掩模图案组(12)进行的对被曝光体(8)的第一曝光区域(9)的曝光结束时，与被曝光体的输送速度同步地使光掩模(11)移动而...

本发明是对涂敷了正性的感光材料的基板进行曝光的光掩模（３），至少以规定的排列间距在透明基板上形成了如下掩模图案群：第１掩模图案群（１６），其以与基板上的高度不同的两种凸起状图案形成部对应的间隔具有与凸起状图案的横截面积大致相等的面积的第...

本发明提供一种曝光装置，其为在一个方向上搬送ＴＦＴ用基板（８），隔着光掩膜（３）对ＴＦＴ用基板（８）间歇地照射光源光（２４），对应于形成于所述光掩膜（３）的多个掩膜图案在所述ＴＦＴ用基板（８）上形成曝光图案的曝光装置，所述光掩膜（３）的...

本发明涉及一种曝光装置，其具备：输送机构（１），其上表面载置被曝光体（７）并将其沿一定方向输送；空间光调制机构（３），其将由电光学结晶材料构成的多个光调制元件（９）沿与被曝光体（７）的输送方向交差的方向按规定的排列间距至少排列成一列；光...

本发明提供一种激光曝光装置，其具备：第一蝇眼透镜（２），其扩大激光的截面形状；第一光程差调整构件（３），其配置于第一蝇眼透镜（２）的激光的入射侧且使向第一蝇眼透镜（２）的各聚光透镜（２ａ）分别入射的激光产生相位差；会聚透镜（４），其将从...

本发明涉及一种液晶显示装置的制造方法，其在对在ＴＦＴ基板和相对电极基板之间以矩阵状形成多个像素并密封有液晶的液晶显示用基板的所述各像素施加了电场的状态，对所述液晶显示用基板照射规定波长的光，使得所述液晶的分子定向于规定方向，包括：将所述...

本发明的曝光装置，使从曝光光学系统照射的光束在与被曝光体的移动方向相正交的方向上相对地扫描，在该被曝光体上以规定的间距对功能图案进行曝光，其特征在于，包括：对预先形成于所述被曝光体上的、成为曝光位置基准的基准功能图案列进行拍摄的拍摄装置...

本发明提供一种曝光装置及被曝光体，承载在设定于表面的图案区域的一个边缘的规定位置形成有对准标记的彩色滤光基板６，并通过输送装置１，以形成有对准标记的一侧为最前侧，输送该彩色滤光基板６，通过拍摄装置３拍摄对准标记和像素，通过控制装置４，根...

本发明的曝光装置（１），使从曝光光学系统（３）照射的光束在与玻璃基板（８）的移动方向（箭头Ａ）相正交的方向上相对地扫描，在玻璃基板（８）上以规定的间距对功能图案进行曝光，其中包括：对预先形成于玻璃基板（８）的黑色点阵的像素进行拍摄的拍摄...

本发明提供一种曝光装置，利用拍摄装置３在同一视场内分别捕捉并拍摄形成在滤色基板６上的基板侧对准标记和形成在光掩膜７上的掩膜侧对准标记，基于该拍摄到的基板侧和掩膜侧对准标记的各图像，相对移动载物台１和掩膜载物台２，对滤色基板６与光掩膜７进...

本发明提供一种曝光装置，包括：承载并搬运滤色基板１的载物台５；以与滤色基板１邻接相对置的方式保持光掩膜１４的掩膜载物台６；在曝光过程中持续点亮并对光掩膜１４照射曝光用光的光源７；使照射在光掩膜１４上的曝光用光的亮度分布均匀的光积分仪８；...

本发明是由透明基体材料２和形成在该透明基体材料２的一个面上的遮光膜３构成的光掩模１，该光掩模１设置了多个掩模图案４和观察孔５，所述多个掩模图案４单向排列形成在上述遮光膜３上，并使曝光用光透过，所述观察孔５形成在上述遮光膜３上，并且形成在...

本发明提供了一种液体材料供给装置，该装置包括：液体材料吐出部（７），该液体材料吐出部（７）具有分别填充有不同液体材料的多个点胶机（２６），并支撑于支撑体；压力施加机构，用于给各点胶机（２６）内的液体材料施加气压，使从点胶机（２６）的前端...

本发明提供一种在ＴＦＴ基板的规定位置上高精度地形成滤色器或者黑矩阵的曝光图案的液晶显示装置用基板的制造方法。为此，包括：在ＴＦＴ基板（６）上涂敷滤色器或者黑矩阵的感光材料的步骤；由搬运单元（３）边以规定速度搬运涂敷了上述感光材料的ＴＦＴ...

本发明提供一种滴涂器，具有：将用于修正滤色器基板的缺陷部的彩色紫外线硬化树脂（４）予以收容的容器（１）；安装在该容器（１）的顶端、使所述彩色紫外线硬化树脂（４）排出到所述缺陷部上的排出针（２）；以及将正压赋予所述容器（１）内的彩色紫外线...