本发明提供一种能够提高离子分布的再现性的离子研磨装置。离子研磨装置具有：离子源(1)；试样台(2)，其载置通过照射来自离子源(1)的非聚焦离子束而被加工的试样(4)；以及驱动单元(8)，其配置在离子源(1)与试样台(2)之间，使在第一方...

具备：显示部(14)，其显示与部件管理系统(1)有关的信息；自动分析装置存储部(23)，其针对多个分析用设备(25)中的各个分析用设备(25)，将相应的分析用设备(25)的ID与表示分析用设备(25)的状态的状态信息关联起来进行存储；输...

本公开的目的在于，在把持对象物的把持装置中，提供除了把持动作之外还能够实施多种作业的通用性。本公开所涉及的把持装置具备从臂部延伸的第一部件和第二部件，上述第一部件和上述第二部件构成为夹入并把持对象物，上述第一部件的刚性比上述第二部件的刚...

提供能够提高通信性能、运算性能、另外能够应对数据容量的增大的通信控制装置以及控制用通信系统。为此，设置有：运算部，对控制数据进行处理；通信部，发送包含控制数据的分组；数据存储部，具有排他控制功能。运算部将构成控制数据的两个以上的部分数据...

本发明的目的在于提供一种即使不进行专门的作业也能够确认光学性能的毛细管电泳装置及其光学性能诊断方法。为此，本发明的毛细管电泳装置包括：由多个毛细管构成的毛细管阵列；使激光振荡的光源；检测向所述毛细管阵列照射激光时发出的光的检测器；以及基...

本发明提供基因检查方法以及基因检查装置。基因检查装置(1)还具有：运算部(2d)，其在投入了检体的时刻加上与检体的优先级对应的可待机时间，计算到针对检体的分注结束为止的目标时刻，控制部(2c)按照目标时刻的顺序进行检体的分注处理。由此，...

等离子处理装置(100)具备设置于真空容器(101)的内部的放电室(1)、处理室(2)以及排气室(3)。能够载置晶片的样品台(4)配置于处理室(2)的内部。在处理室(2)与放电室(1)之间设置有分散板(20)。在分散板(20)形成有多个...

本发明的目的在于，提供能除去自然氧化膜来高精度地进行硅的蚀刻的技术。本发明的晶片处理方法之一是将在上表面形成有硅制的膜的半导体晶片配置于处理室内来对所述硅制的膜进行处理的晶片处理方法，具备如下工序：对形成于该硅制的膜的表面的氧化膜供给氢...

为了提供能够降低由毛细管阵列的激发光照射部的周边异物引起的噪声信号的电泳装置，电泳装置具备：毛细管阵列，其平面状地排列有用于试样的电泳的毛细管；激发光源，其向所述毛细管阵列照射激发光；以及荧光测定部，其测定从所述毛细管阵列诱发的荧光，其...

本发明通过将在过滤器容器与弹性体之间进行气密封闭的部位和固定过滤器容器的部位分开，能够保持过滤器容器与弹性体的气密，并且以较小的力容易地安装或拆卸过滤器容器。过滤装置包括：漏斗10，其具有用于投入液体试样的入口11和开口面积小于入口11...

本发明的目的在于提供一种能够通过适当地控制光源的温度来有效地使用光源的分析装置。本发明的分析装置包括：对光源壳体的内部进行调温的壳体内调温机构；支承安装有发光元件的基板的基座；和对所述基座进行调温的基座调温机构，上述基座调温机构以上述基...

本公开的目的在于使带电粒子源的探针电流长时间稳定。在本公开的带电粒子源中，发射器前端部具有：第一平坦面，其相对于光轴垂直；多个第二平坦面，其相对于所述光轴平行；以及多个第三平坦面，其配置于所述第一平坦面与所述第二平坦面之间。所述多个第二...

本公开在使用ECR的等离子处理装置中，将包含ECR面的位置、形状的参数的信息作为向等离子处理装置的控制装置的输入值。能够从等离子处理装置的输入装置输入到控制装置的ECR面形状的信息被另外确定的放电稳定基准限制。在满足放电稳定基准的情况下...

容易确定警报的原因、应对方法。该自动分析系统具备：检查处理部，其执行用于检查的处理的至少一部分；以及管理装置，其管理所述检查处理部。所述管理装置具备：警报检测部，其检测发出了表示所述检查处理部中产生异常的警报；警报通知部，其按照所述警报...

推定被检检体的凝血时间的延长原因。凝血时间的延长原因的推定方法取得表示混合被检检体和试剂的反应液的凝固反应所引起随时间的光量的变化的凝固波形（S301b），通过对凝固波形的前后差分处理来取得第1波形（S302b），通过对凝固波形以及第1...

本公开为了实现使能够透过离子引导器的离子的m/z范围广、构造简单且耐污染的离子引导器，提案了一种离子引导器，其导入离子，使该离子会聚并射出，该离子引导器具有：多极电极，其用于形成多极电场；以及轴电场电极，其用于形成轴电场，多极电极或轴电...

提供防止被处理基板的外周附近处的等离子处理不良状况的技术。提供如下特征的技术，具备：对被处理基板进行等离子处理的处理室；经由波导管供给微波电力的高频电源；配置于处理室的上方且所述微波透过的电介质板；载置被处理基板的样品台；配置成包围处理...

本发明提供一种尽可能地减少收容于泳动介质容器的泳动介质的余量而高效地使用、进一步降低运行成本的计测系统及送液控制方法。作为一例，本发明提出一种计测系统具备电泳装置和计算机，其中，电泳装置具备：泳动介质容器，其收容泳动介质；毛细管，其在内...

本发明提供一种尽可能地减少收容于泳动介质容器的泳动介质的余量而高效地使用、进一步降低运行成本的计测系统及送液控制方法。作为一例，本发明提出一种计测系统具备电泳装置和计算机，其中，电泳装置具备：泳动介质容器，其收容泳动介质；毛细管，其在内...

各方面涉及提供一种能够在低功率微波等离子体处理应用中促进均匀的蚀刻结果的等离子体处理技术。一种等离子体处理装置包括：控制单元，被配置为使：微波电源输出具有第一功率和第一占空比的第一微波脉冲，以在等离子体处理室中产生均匀分布的等离子体；微...