本发明提供在对用于制造半导体、液晶显示器基板的药液浓度进行管理的服务提供中使用的浓度管理装置及在对药液进行再生处理的服务提供中使用的药液再生装置、及使用这些装置而提供的服务提供所涉及的费用的计算方法及系统。浓度管理装置(1)在补给补充液...

本发明提供最适于将基板制造所使用的药液管理为最佳状态的服务的基板处理装置的药液管理系统、基板处理装置的药液管理费用的计算方法、及基板处理装置的药液管理费用计算系统。在基板处理装置的药液管理系统中，通过配备有累计流量计的配管将基板处理装置...

本发明提供最适于将基板的显影所使用的显影液管理为最佳的状态的服务的显影液的浓度管理装置以及基板的显影处理系统。基板处理系统中，显影液的浓度管理装置(B)、显影处理装置(A)、调制显影液的新液的调制装置(E)、对使用后的显影液进行再生的再...

本发明提供适合于将基板制造所使用的药液管理为最佳状态的服务的基板处理系统及其费用的计算系统。在基板处理系统中，通过配管将基板处理机构(1)、调制药液的新液的药液调制机构(3)、对使用后的药液进行再生的药液再生机构(4)等连接。药液管理机...

本实用新型提供适合于将基板制造所使用的药液管理为最佳状态的服务的基板处理系统及其费用的计算系统。在基板处理系统中，通过配管将基板处理机构(1)、调制药液的新液的药液调制机构(3)、对使用后的药液进行再生的药液再生机构(4)等连接。药液管...

本发明提供显影液管理装置，能够实现可维持期望的显影性能且可维持基板上的布线图案的期望的线宽及剩余膜厚的显影处理，并且监视显影液的导电率、溶解光致抗蚀剂浓度及吸收二氧化碳浓度。具备控制机构及警报机构，控制机构具备：数据存储部，存储有导电率...

本发明提供显影液的浓度监视装置及显影液管理装置。它们具备密度仪，用于测定显影液的密度。与碱成分等其它成分的浓度无关地在显影液的密度与吸收二氧化碳浓度之间具有良好的对应关系。浓度监视装置基于密度的测定值，根据显影液的密度与吸收二氧化碳浓度...

本发明提供能根据显影液的特性值来精度良好地算出显现碱性的显影液的碱成分、溶解的光致抗蚀剂、吸收的二氧化碳等各成分的浓度，能够将显影液的显影性能维持并管理成最佳状态的显影装置。显影装置具备：显影液调制装置，其将包含显现碱性的显影液的主成分...

本发明提供能够实现可维持期望的显影性能且可维持基板上的布线图案的期望的线宽及剩余膜厚的显影处理的显影液管理装置。显影液管理装置具备控制机构及显示机构，控制机构具备：数据存储部，存储有导电率数据，该导电率数据按照以反复使用且显现碱性的显影...

本发明提供根据显现碱性的显影液的特性值来精度良好地算出显影液的碱成分、溶解的光致抗蚀剂、吸收的二氧化碳等各成分的浓度的浓度监视装置、以及将显影液的显影性能维持并管理成最佳的状态的显影液管理装置。显影液的浓度监视装置(A)具备：对与反复使...

本发明提供能够维持所期望的显影性能并维持基板上的布线图案的所期望的线宽及剩余膜厚的显影装置。显影装置具备：显影液调制装置，其将包含显现碱性的显影液的主成分的显影原液与纯水混合，而调制浓度被设定好的所述显影液作为显影新液；显影新液用管路，...

本发明提供能够对被显现碱性的显影液吸收的二氧化碳的浓度进行测定并对显现碱性的显影液的吸收二氧化碳的浓度进行管理的显影装置。显影装置具备：显影液调制装置，其将包含显现碱性的显影液的主成分的显影原液与纯水混合，调制出浓度被设定好的所述显影液...

本发明提供根据显现碱性的显影液的特性值来精度良好地算出显影液的碱成分、溶解的光致抗蚀剂、吸收的二氧化碳等各成分的浓度的显影液的成分浓度测定装置、以及将显影液的显影性能维持并管理成最佳的状态的显影液管理装置。显影液的成分浓度测定装置具备：...

本发明提供显影液的二氧化碳浓度显示装置及显影液管理装置。它们具备密度仪，用于测定显影液的密度。与碱成分等其它成分的浓度无关地在显影液的密度与吸收二氧化碳浓度之间具有良好的对应关系。二氧化碳浓度显示装置基于密度的测定值，根据显影液的密度与...

本实用新型提供在对用于制造半导体、液晶显示器基板的药液浓度进行管理的服务提供中使用的浓度管理装置及在对药液进行再生处理的服务提供中使用的药液再生装置、以及使用这些装置而提供的服务提供所涉及的费用的计算系统。浓度管理装置(1)在补给补充液...

本实用新型提供最适于将基板制造所使用的药液管理为最佳状态的服务的基板处理装置的药液管理系统及基板处理装置的药液管理费用计算系统。在基板处理装置的药液管理系统中，通过配备有累计流量计的配管将基板处理装置与调制药液的新液的药液调制装置、对使...

本实用新型提供最适于将基板的显影所使用的显影液管理为最佳的状态的服务的显影液的浓度管理装置以及基板的显影处理系统。基板处理系统中，显影液的浓度管理装置(B)、显影处理装置(A)、调制显影液的新液的调制装置(E)、对使用后的显影液进行再生...

本实用新型提供罐以及药液调制装置，该罐将调制规定浓度的各种药液的调制槽与贮存调制出的药液的贮存槽构成为一体，以便能够设置为有效地利用有限的设置空间，该药液调制装置具备这种构成为一体的罐，且能够自动地调制规定浓度的各种药液。罐(4)具备：...

本发明提供罐以及药液调制装置，该罐将调制规定浓度的各种药液的调制槽与贮存调制出的药液的贮存槽构成为一体，以便能够设置为有效地利用有限的设置空间，该药液调制装置具备这种构成为一体的罐，且能够自动地调制规定浓度的各种药液。罐(4)具备：调制...

本发明提供由原料高精度、自动且连续地调制规定的成分浓度的抗蚀剂剥离液的抗蚀剂剥离液的调制装置。调制装置(10)具备调制槽(3)、测定机构(2)以及控制机构(1)。调制槽(3)接受抗蚀剂剥离液的原料的供给并将它们混合。对于调制槽(3)内的...