提供在用于半导体、液晶显示器或电池的制造的药液或电解液中，药液使用者不购入运用药液调制供给装置或不筹备药液或其原料而能够始终接受需要量的所需浓度的药液的供给的药液使用费用计算方法以及所需的药液调制供给装置。药液调制供给装置在供给药液的配...

提供在用于半导体、液晶显示器或电池的制造的药液或电解液中，药液使用者不购入运用药液调制供给装置或不筹备药液或其原料而能够始终接受需要量的所需浓度的药液的供给的药液调制供给装置。药液调制供给装置在供给药液的配管具备累计流量计。将药液供给者...

提供一种显影液的成分浓度测定方法及装置、显影液管理方法及装置，根据显影液的特性值，高精度地计算呈碱性的显影液的碱性成分、所溶解的光致抗蚀剂、所吸收的二氧化碳等各成分的浓度，将显影液的显影性能维持并管理成最佳状态。通过测定部测定与显影液成...

提供一种显影液的成分浓度测定装置及其方法、显影液管理装置及其方法，测定并管理呈碱性的显影液所吸收的二氧化碳的浓度。显影液的成分浓度测定装置及显影液管理装置具备密度计，测定显影液的密度。显影液的密度与二氧化碳浓度之间存在不受碱性成分等其他...

提供一种显影液的管理方法及装置，能够实现可维持期望的显影性能且可维持期望的线宽及剩余膜厚的显影处理。显影液管理装置(D)具备控制单元(21)，该控制单元具备：数据存储部(23)，保存导电率数据，该导电率数据具有在确定反复使用的呈碱性的显...

本发明提供一种将草酸系蚀刻液的作为蚀刻液的性能维持/管理成大致固定并抑制固体粒子的析出的蚀刻液管理装置及方法、以及蚀刻液的成分浓度测定方法。该蚀刻液管理装置具备：电导率计(17)，其对蚀刻液的电导率值进行测定；密度计(18)，其对蚀刻液...

本发明提供一种对蚀刻液的成分浓度进行监视并且对溶解金属浓度进行监视，以使成分浓度固定的方式自动地补给补充液并且对溶解金属进行分离回收的蚀刻液管理装置、溶解金属浓度测定装置及测定方法。所述蚀刻液管理装置具备：第一物性值测定机构，其对与蚀刻...

本发明提供一种对蚀刻液的成分浓度进行监视并且对溶解金属浓度进行监视，以使成分浓度固定的方式自动地补给补充液并且对溶解金属进行分离回收的蚀刻液管理装置、溶解金属浓度测定装置及测定方法。所述蚀刻液管理装置具备：第一物性值测定机构，其对与蚀刻...

本发明提供节省空间且能够缩短处理时间的固体粒子回收去除装置、具备该固体粒子回收去除装置的液体管理装置以及蚀刻液管理装置。该固体粒子回收去除装置具备：壳体(35)，其形成为筒状；中心轴(36a)，其设置在壳体(35)内；螺杆叶片(36b)...

本发明提供节省空间且能够缩短处理时间的固体粒子回收去除装置、具备该固体粒子回收去除装置的液体管理装置以及蚀刻液管理装置。该固体粒子回收去除装置具备：壳体(35)，其形成为筒状；中心轴(36a)，其设置在壳体(35)内；螺杆叶片(36b)...

本发明提供在半导体制造工厂或平板显示器制造工厂的使用侧，能够将铝的蚀刻液的硝酸浓度、水分浓度、磷酸浓度及醋酸浓度恒定地调合的蚀刻液调合装置。其具备：检测用纯水稀释调合槽内的蚀刻液而形成的稀释液的电导率的电导率计或检测蚀刻液的硝酸浓度的吸...

光刻胶剥离液管理装置，为把光刻胶剥离液品质控制为恒定，削减液体使用量、减少工作时间和降低价格，构成为具有：光刻胶剥离液排出装置，用于用吸光光度计１６检测光刻胶剥离液的溶解光刻胶浓度以排出光刻胶剥离液；第１补给装置，用于用液面水平计３检测...

一种在半导体制造工艺或液晶基板制造工艺中对用于剥离抗蚀剂的抗蚀剂剥离液进行控制的装置，其目的是将抗蚀剂剥离液的质量控制恒定，而且削减溶液使用量，减少停机时间并降低成本。该控制装置具有一个用于通过吸光光度计１６测定抗蚀剂剥离液中溶解的抗蚀...

提供了处理液能循环使用、且即使反复循环使用也能连续保持处理液自身的性能的基板表面处理装置，该装置包括：其中，依次将处理液与冲洗液送抵配置在处理台上的基板的处理装置；分别回收废处理液与废冲洗液的液体回收装置；贮留废处理液，由电导率计３０和...

按照本发明的水系保护膜剥离液管理装置，是在调整槽内对在保护膜剥离设备中使用的水系保护膜剥离液进行管理的水系保护膜剥离液管理装置。在本装置中，在保护膜剥离处理槽（调整槽）中，通过管路将测定水系保护膜剥离液中的水分浓度的吸光光度计和测定劣化...

处理液配制及供给装置，包括溶解配制池，向所述溶解配制池供给原料粉末和超纯水。该溶解配制池通过管子与基片处理装置相连，并将由原料粉末配制的处理液原位供给所述处理装置。为了降低超纯水中微生物浓度的增加，该超纯水基本上是不断循环的。在将该处理...

将蚀刻液自动控制在规定的硝酸浓度、醋酸浓度及磷酸浓度而且对蚀刻液处理槽的液体补给进行适当的管理、并且使蚀刻性能经常一定化的同时削减使用原液量、大幅度缩短停工时间从而使综合制造成本的减低成为可能。本发明提供一种蚀刻液管理装置，其是在具备贮...

一种用于液晶基板和半导体制造工艺的光刻胶剥离管理装置。此装置可恒定地控制光刻胶剥离液质量，且可削减液体用量、减少停机时间和降低成本，其包括用吸光光度计１６检测剥离液中溶解的光刻胶浓度并排出剥离液的光刻胶剥离液置放装置，用液面高度仪３检测...

提供显影液制造装置及方法，该装置备有供给且搅拌显影原液和纯水的调制槽、以及与该调制槽连接设置的正常化槽，正常化槽通过管路连接在形成电子电路的加工设备上。调制槽及正常化槽具有测定各自槽内的碱系显影液的碱浓度的第一及第二碱浓度测定装置。在调...

本发明提供一种碱性加工液及其供给装置等，其能减少加工处理时的液体使用量和废液生成量，对曝光后的光致抗蚀剂等有机膜的溶解性好。本发明的显影液供给装置的组成如下：显影处理装置通过配管与接受槽连接，在接受槽后段连续设计了过滤器等的前处理部分、...