昭和电工株式会社专利技术

昭和电工株式会社共有2541项专利

  • 本发明涉及式(1)所示的含(甲基)丙烯酰基的氧杂环丁烷化合物,其与含(甲基)丙烯酰基的化合物具有高度共聚性,还涉及含(甲基)丙烯酰基的氧杂环丁烷化合物的制造方法,其特征在于使式(5)所示的含(甲基)丙烯酰基的异氰酸酯化合物与式(6)所示...
  • 本发明提供一种制备双官能环氧单体的新方法,包括在钼或钨的氧化物作为催化剂存在下使二烯烃与过氧化氢水溶液反应以在特定位置选择地环氧化双键。本发明提供的双官能环氧单体是一种用途广泛的材料,可广泛地在各种工业领域,例如化工领域,用作阻抗材料(...
  • 本发明是可高效且长时间稳定制备α,β-不饱和醚的方法,具体地讲,所述方法的特征在于,在含有下述式(1)~(4)中的任一种磷灰石的催化剂的存在下,使缩醛热分解:(M)↓[5-y](HZO↓[4])↓[y](ZO↓[4])↓[3-y](X)...
  • 本发明涉及以四氟氰基苯为原料,经过一系列的反应以高收率制备高纯度的可作为具有杀虫作用的环丙羧酸酯类的制备中间体等的四氟苯甲醇类、四氟苯甲醛缩二烷醇类、四氟苯甲醛类的方法,以及新颖的四氟苯甲醛缩二甲醇。
  • 一种氢化酯的生产方法,用氢化催化剂使有特定结构的含不饱和基团的酯氢化以高选择性得到氢化酯。优选用惰性溶剂稀释作为原料的所述含不饱和基团的酯和/或使原料中所含羧酸浓度为1wt%或更低以进行氢化反应。用于上述氢化的氢化催化剂优选为包含至少一...
  • 本发明涉及用下列组成化学式(1)表示的钛硅酸盐,其中在以脱水状态测定的红外吸收光谱中,吸收光谱具有相对最大值在930±15cm↑[-1]的吸收带,组成化学式(1):xTiO↓[2].(1-x)SiO↓[2](其中x是0.0001-0.2)。
  • 提供了一种通过弗瑞德-克来福特反应产物制备芳族化合物的方法,包括使芳族化合物与酯化合物在含杂多酸的固体酸催化剂存在下反应。
  • ITO烧结体,其中含有SiO↓[2]及Bi↓[2]O↓[3]的组成相当于图1所示点A、B、C、D及E所围成领域,在图1的SiO↓[2]-Bi↓[2]O↓[3]二成分系图中点A、B、C、D及E具有如下组成。 点 SiO↓[2](w...
  • 一种含一种聚合物高流动性混凝土添加剂,该聚合物单元构成源于:10-100wt%N-乙烯基乙酰胺;0-50wt%化合物CH↓[2]=CR↑[3]X↑[1]R↑[4]SO↓[3]X↑[2],其中R↑[3]为氢或甲基、R↑[4]为碳数为1至4...
  • 采用浇口盘(3,13),将稀土合金浇铸成片材(6)等。浇铸使用的浇口盘的耐火材料不必为提高熔融体(2)的流动性能而预热。所采用的耐火材料基本上是由等于或大于70%(重量)的Al↓[2]O↓[3],和等于或小于30%(重量)的SiO↓[2...
  • 一种生产具有低碱含量和优异的烧结性能的氧化铝的方法,其包括下列步骤:向氧化铝源物料中加入碱去除剂并在煅烧炉(2)中煅烧氧化铝源物料;使用收尘器(5)收集在废气中包含的氧化铝源物料粉尘;把一部分所收集的粉尘排出系统,把另一部分所收集的粉尘...
  • 本发明提供了一种生产立方氮化硼的方法,该方法包括在催化剂物质存在下,将六方氮化硼置于立方氮化硼保持热力学稳定的条件下,从而将六方氮化硼转化为立方氮化硼,其中的催化剂物质包含LiMBN#-[2]和至少一种选自碱金属、碱土金属及其氮化物和氮...
  • 一种烧结体含有立方氮化硼和一种粘合剂,该粘合剂包括从属于IVa族、Va族和VIa族的元素的氮化物、碳化物、碳氮化物和硼化物中选出的至少一种化合物,和一种包含属于IVa族、Va族或VIa族的元素和VIII族元素的硼化物。该烧结体改善了耐磨...
  • 本发明涉及一种用于制备砂轮等的立方氮化硼磨料颗粒的生产方法以及该立方氮化硼磨料颗粒。该方法包括在可使立方氮化硼维持热力学稳定的压力和温度下保持含有六方氮化硼和立方氮化硼籽晶的混合物,其特征在于,该籽晶含有立方氮化硼孪晶。
  • 在制造立方氮化硼(CBN)时,使用CBN合成催化剂成分的表面被有机物覆盖了的CBN合成催化剂。有机物的质量相对于100质量份的CBN合成催化剂成分,优选为0.01~50质量份,另外,作为有机物,优选为硬脂酸和/或月桂酸。通过使用这样的C...
  • 本发明提供了一种生产低苏打氧化铝的方法,其包括在苏打去除剂存在下在煅烧炉中煅烧氢氧化铝,其中煅烧炉中生成的氧化铝粉尘根据其粒径来进行拣选,并且在粉尘收集器中收集,使至少一部分所收集的氧化铝粉尘进行除去苏打的处理,随后将其返回到煅烧炉中。...
  • 采用浇口盘(3,13),将稀土合金浇铸成片材(6)等。浇铸使用的浇口盘的耐火材料不必为提高熔融体(2)的流动性能而预热。所采用的耐火材料基本上是由等于或大于70%(重量)的Al↓[2]O↓[3],和等于或小于30%(重量)的SiO↓[2...
  • 一种包括高渗透压物质,聚合物吸水剂和亲水性醇类的脱水装置,该三种物质同时存在并且全部由选择性地允许水渗透的半透膜覆盖.这种脱水装置的脱水能力极好,尤其适用于除去食物中的水.
  • 含有氯离子和选自氯离子以外的其它布朗斯台德碱,优选硝酸根离子和磷酸根离子中的至少一种布朗斯台德碱的氧化钛溶胶。该溶胶中的氧化钛优选主要是板钛矿型的氧化钛。该溶胶可以通过在至少一种布朗斯台德酸的存在下使四氯化钛水解而制得。由该氧化钛溶胶形...
  • 氧化钛溶胶、薄膜及其制造方法
    含有氯离子和选自氯离子以外的其他布朗斯台德碱,优选硝酸根离子和磷酸根离子中的至少一种布朗斯台德碱的氧化钛溶胶。该溶胶中的氧化钛优选主要是板钛矿型的氧化钛。该溶胶可以通过在至少一种布朗斯台德酸的存在下使四氯化钛水解而制得。由该氧化钛溶胶形...