本发明提供了一种等离子蚀刻装置及方法，该蚀刻装置包括框架，所述框架上安装有工作台，所述工作台下方设有蚀刻箱，所述工作台上方安装有圆筒，所述蚀刻箱内设有工作腔，所述圆筒内设有等离子腔，所述圆筒外侧套设有螺旋线圈，所述框架上设有刻蚀气体供应...