本发明涉及一种如下通式(1)的1‑卤代‑7‑甲基二十三烷化合物，其中X1表示卤素原子。本发明还涉及制备如下通式(4)的17‑甲基烷烃化合物的方法，其中n表示11至13的整数，该方法包括将上述1‑卤代‑7‑甲基二十三烷化合物(1)转化为如...

本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种鎓盐，在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度、且曝光裕度(EL)、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用。并提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的...

本发明涉及一种如下通式(1)的1‑卤代‑2,6,14‑三甲基十八烷化合物，其中X1表示卤素原子。本发明还涉及制备如下通式(4)的5,13,17‑三甲基烷烃化合物的方法，其中n表示14至18的整数，该方法包括将上述1‑卤代‑2,6,14‑...

本发明为一种疏水性纤维素纳米纤维，其特征在于，其包含(A)纤维素纳米纤维和(B)含异氰酸酯基的有机聚硅氧烷，所述含异氰酸酯基的有机聚硅氧烷通过氨基甲酸酯键与所述纤维素纳米纤维的羟基键合。由此，提供一种在室温下能够分散在液状油剂、尤其是硅...

一种生物体电极和生物体电极的制造方法。提供一种为薄膜且高透明、生物体信号的灵敏度高、生物体相容性优异、质量轻且能够以低成本进行制造、无论是水润湿还是干燥、长时间粘贴于肌肤其生物体信号的灵敏度也不会大幅降低、没有肌肤的瘙痒、红斑、斑疹等而...

一种化学增幅负型抗蚀剂组合物和图案形成方法。[课题]提供具有高溶解对比度、优异的CDU和LWR性能的化学增幅负型抗蚀剂组合物，以及使用该组合物的图案形成方法。[解决手段]一种化学增幅负型抗蚀剂组合物，其包含(A)聚合物P和(B)交联剂X...

本发明提供含有末端硅烷醇基的聚氧化烯系化合物及其制造方法、室温固化性组合物、密封材料以及物品。本发明提供在分子链末端在1分子中含有至少一个由下式(1)表示的反应性硅基、并且主链为聚氧化烯系聚合物的新型的聚氧化烯系化合物及其制造方法、以该...

导热性有机硅组合物，其含有：(A)在1分子中具有至少两个与硅原子键合的烯基的有机聚硅氧烷；(B)在1分子中具有至少两个与硅原子键合的氢原子的有机氢聚硅氧烷：其量使得相对于(A)成分中的烯基1个，(B)成分中的硅原子键合的氢原子成为0.1...

提供有机膜形成用组合物、有机膜形成方法和图案形成方法。[课题]提供基板(晶圆)上的成膜性(面内均匀性)和填埋特性优异且抑制了EBR工序时的隆起的有机膜形成用组合物、使用了该组合物的有机膜形成方法和图案形成方法。[解决手段]一种有机膜形成...

本发明涉及抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供优于已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨度，且边缘粗糙度、尺寸变异小，且曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料，以及使用了前述抗蚀剂材料的抗蚀剂组成物、及图案形成方法。该课...

本发明涉及抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、图案形成方法、及单体。本发明的课题为提供超过已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨度，且边缘粗糙度、尺寸变异小，曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料，以及提供含有前述抗蚀剂材料的抗蚀剂组成物、图案形成方法、...

本发明涉及单体、抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供优于已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨度，且边缘粗糙度、尺寸变异小，且曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料，以及为前述抗蚀剂材料的原料的单体、含有前述抗蚀剂材料的...

烧结稀土磁体含有特定量的R(两种或更多种稀土元素，其中Nd和Pr是必要的)、硼(B)、M1(选自Al、Si、Cr、Mn、Cu、Zn、Ga、Ge、Mo、Sn、W、Pb和Bi的一种或多种元素)和M2(选自Ti、V、Zr、Nb、Hf和Ta的一...

双组分型导热性加成固化型有机硅组合物，其为由第一组分和第二组分组成的双组分型导热性加成固化型有机硅组合物，第一组分含有：（A）具有与硅原子键合的烯基的有机聚硅氧烷、（C）导热性填充材料、和（E）铂族金属催化剂，第二组分含有：（A）具有与...

提供鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。[课题]提供在远紫外线光刻和EUV光刻中的LWR、分辨率优异且能够抑制抗蚀图案倒塌的化学增幅抗蚀剂组合物、其中使用的鎓盐和使用该抗蚀剂组合物的图案形成方法。[解决手段]一种用下述式(1)表示的鎓盐。

本发明涉及分子抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中感度、分辨性及LWR优异的分子抗蚀剂组成物、以及使用该分子抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为一种负型分子抗蚀剂组成物，含有：包含具有环状醚...

提供组合物，其包含由下述式(1)表示的含有甲基丙烯酰氨基的有机硅化合物和由下述式(2)表示的有机硅化合物。(式中，R1各自独立地表示碳原子数1～10的烷基或碳原子数6～10的芳基，R2表示甲基或乙基，Me表示甲基，m1和m2表示1～3的...

本发明提供一种赋予即使在超过150℃的高温下也可维持高粘着力与保持力的粘着层的硅酮粘着剂组合物、及包括包含所述粘着剂组合物的硬化物的粘着层的粘着带及粘着膜。本发明提供一种含有下述(A)成分～(D)成分的硅酮粘着剂组合物。(A)在一分子中...

本发明提供一种能够简便地评估基准标记的加工精度(例如深度)的EUV掩膜坯料的评估方法。一种形成于EUV掩膜坯料的基准标记的评估方法，拍摄形成于所述EUV掩膜坯料的基准标记并获取基准标记图像，根据该获取到的基准标记图像获取作为所述基准标记...

提供有机膜形成用材料、半导体装置制造用基板、有机膜的形成方法、图案形成方法和化合物。[课题]提供化合物和含有该化合物的有机膜形成用材料，所述化合物能够形成即便在非活性气体中的成膜条件下也会固化，不仅耐热性、形成于基板的图案的填埋或平坦化...