信越化学工业株式会社专利技术

信越化学工业株式会社共有3581项专利

  • 本发明涉及水硬性组合物、增粘剂及用于其的添加剂。包含(A)羟烷基烷基纤维素和(B)特定聚乙二醇衍生物的增粘剂对水硬性组合物有效地赋予耐冻害性、良好的流动性和减少渗出的效果。
  • 本发明涉及图案形成方法。本发明提供一种图案形成方法,借由使用对比已知的KrF抗蚀剂具有优良的干蚀刻耐性且成膜性及基板密合性优异的抗蚀剂下层膜形成用组成物,能够以高精度形成阶梯形状图案。一种图案形成方法,具有下列步骤:在被加工基板上利用抗...
  • 本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组成物及图案形成方法。本发明提供一种抗蚀剂下层膜形成用组成物,是多层抗蚀剂法中使用的抗蚀剂下层膜形成用组成物,其特征为含有(A)树脂、(B)碱产生剂、及(C)有机溶剂,前述(A)树脂的重均分子量为3,000~...
  • 含有分支型有机聚硅氧烷的化妆料,其含有一种以上的分支型有机聚硅氧烷,所述分支型有机聚硅氧烷由(R<supgt;1</supgt;<subgt;3</subgt;SiO<subgt;1/2</subgt...
  • 以特定比例含有(A)在分子链中具有至少2个烯基的特定结构的全氟聚醚聚合物、(B)在1分子中具有2个以上与硅原子键合的氢原子的含氟有机氢聚硅氧烷、(C)氢化硅烷化反应催化剂、和(D)BET比表面积为50m2/g以上的疏水性二氧化硅粉末的热...
  • 本发明涉及单体、聚合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供一种可获得改善图案形成时的分辨度,且LER及分辨度、图案忠实性、剂量宽容度经改善的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物,以及提供一种抗蚀剂图案形成方法。该...
  • 本发明提供一种粉末状添加剂,其包括用特定聚乙二醇衍生物浸渍的水溶性多孔粉末。该粉末状添加剂易于处理,可有效配制流动性、减少渗出和耐冻害性提高的水硬性组合物。
  • 本发明为一种光隔离器,其为多级型的光隔离器,具备:光学元件,其在光的行进方向上至少依次配置有第一偏振器、第一法拉第旋转器、第二偏振器、第三偏振器、第二法拉第旋转器、第四偏振器;永久磁铁,其对所述第一法拉第旋转器及所述第二法拉第旋转器施加...
  • 本发明涉及一种制备通式(1’)的卤代烷基烷氧甲基醚化合物的方法,其中X1表示卤素原子,R1表示氢原子、具有1至9个碳原子的正烷基、或苯基,且n表示2至7的整数,所述方法包括以下步骤:将以下通式(1)的卤代烷基烷氧甲基醚化合物转化为以下通...
  • 本发明是一种导热性有机硅组合物,其包含下述(A)~(D)成分:100质量份的(A)25℃下的运动粘度为10~500,000mm2/s的有机聚硅氧烷;10~2,000质量份的(B)平均粒径为0.01~100μm的导热性填充剂;1,000~...
  • 本发明涉及一种制备卤代烷基烷氧甲基醚化合物(1B)的方法,其中X1表示卤素原子,且R1表示氢原子、具有1至9个碳原子的正烷基、或苯基,包括以下步骤:将卤代烷基烷氧甲基醚化合物(1A),其中X1和R1如上定义,转化为亲核试剂4‑烷氧基甲氧...
  • 本发明提供一种高纯度的醛改性有机硅和不进行向醛的羰基加成氢甲硅烷基的竞争反应的所述醛改性有机硅的制造方法。所述醛改性有机硅为在一分子中含有1个或2个醛基的醛改性有机硅,且为以下述式(1)表示的醛改性有机硅。[化学式1](AR12SiO1...
  • 具有由下述式(1)表示的结构单元比、含有1~90质量%的具有光聚合引发部位的基团的光反应性有机聚硅氧烷与丙烯酸酯化合物等聚合性有机化合物的相容性优异,具有在大气下也能够赋予光固化性的光聚合引发部位。(R13SiO1/2)a(R12SiO...
  • [课题]本发明的目的是提供以高纯度且高收率制造含有羟基和(甲基)丙烯酰基的硅氧烷的方法。[解决手段]本发明提供上述含有(甲基)丙烯酰基的硅氧烷的纯化方法,其包括在1个分子中有1个以上的硝酰自由基且具有160~2,000的分子量的聚合抑制...
  • 本发明提供一种能够有利于工业上的制造,且具备耐氢氟酸性优异的密封材料的燃料电池组和具备该燃料电池组的燃料电池。在通过叠层多个由挟持了膜电极组件的一对隔离物组成的燃料电池单元而形成的燃料电池组中,密封材料被配置在所述隔离物,所述密封材料为...
  • 本发明的光纤母材的特征在于:当制造由纤芯部与一部分包层部所构成的纤芯玻璃母材,然后将剩余的包层部给到该纤芯玻璃母材的外侧时,所述纤芯玻璃母材中,将相对折射率差为纤芯中心的相对折射率差的0.45倍值的半径位置设为纤芯半径位置,在该纤芯半径...
  • 本发明是一种成膜方法,包含:对原料溶液进行雾化而形成原料雾的步骤;将所述原料雾与载气混合而形成混合气的步骤;将基体载置于台的步骤;将所述混合气从混合气供给元件向所述基体供给,并在所述基体上通过热反应进行成膜的成膜步骤;以及利用排气元件对...
  • 掩模坯基板具有152mm×152mm方形的第一和第二主表面与6.35mm的厚度,其中在通过将第一、第二主表面的图相加而获得的拟TTV图中,在第一矩形区域与第二矩形区域重合的情况下形成的十字形区域内,在拟TTV图的拟合中,当导出平面函数时...
  • 采用本发明的制造方法得到的、由基材、在该基材的外表面上采用干式方法形成的氧化硅基底层、和在该氧化硅基底层的外表面上采用湿式方法形成的以特定结构的具有水解性甲硅烷基的含有氟聚醚基的聚合物和/或其部分水解缩合物的固化物作为主成分的拒水拒油表...
  • 以特定比例含有(I)在单末端具有氟代氧烷基且在另一单末端具有反应性官能团的特定结构的聚合物、和(I I)在分子内具有氟代氧亚烷基且在两末端具有反应性官能团、不具有极性基团的特定结构的聚合物的含有氟聚醚基的聚合物组合物可形成拒水拒油性、磨...