本发明提供一种光纤母材的制造方法，包括：沉积工序，通过使SiO<subgt;2</subgt;微粒子附着在起始母材上而获得灰粒母材，所述起始母材包含石英玻璃且具有折射率较高的纤芯部及折射率低于所述纤芯部的包层部；烧结工序，在...

本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供在稳定性、妆容、涂敷时的延展性优异，在叠加涂抹的彩妆化妆料的持续性优异的审美性高的化妆料。一种油包水型化妆料，含有油剂、下述(A)成分、(B)成分以及(C)成分的油包水型化妆料，水相成分含有下...

下述的有机硅组合物能够分别且简便地管理第一阶段固化和第二阶段固化，其含有(A)在一分子中具有至少三个(甲基)丙烯酰基的有机聚硅氧烷、(B)在一分子中具有至少两个烯基、不具有(甲基)丙烯酰基的有机聚硅氧烷、(C)在一分子中具有至少两个氢甲...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论为正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：酸产生剂，含有被碘原子取代的芳基磺酸的锍盐或錪盐。

光固化性涂布组合物，其含有(A)由式(1)表示的有机聚硅氧烷(R1相互独立地表示氢原子、或可介入氧原子等的1价的烃基，X相互独立地表示可介入氧原子等的2价的饱和烃基，Q相互独立地表示可介入氧原子等的(a+1)价的饱和烃基，P相互独立地表...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论为正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：基础聚合物，具有被碘原子取代的芳基磺酸阴离子键结于主链...

本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物。本发明的课题是提供基板上的成膜性及填埋特性优良，会抑制EBR步骤时的隆起，且作为多层抗蚀剂用的有机膜使用时的处理容忍度优良的有机膜形成用组成物、使用该组成物的有机膜形...

本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组成物、抗蚀剂下层膜、抗蚀剂下层膜的制造方法、图案形成方法、及半导体装置的制造方法。本发明的课题为提供一种可形成会表现优异的加工耐性及优异的气体穿透性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组成物。本发明的解决手段...

本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组成物、抗蚀剂下层膜、抗蚀剂下层膜的制造方法、图案形成方法、及半导体装置的制造方法。本发明的课题为提供一种可形成会表现优异的加工耐性及优异的气体穿透性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组成物。其解决手段为一种...

提供被覆物品，其具有树脂基材、在所述树脂基材上设置的底漆层、在所述底漆层上设置的硬涂层、和在所述硬涂层的表层部形成的光改性层，所述底漆层为包含(A)乙烯基系(共)聚合物和(B)具有规定的中值直径的无机粒子的底漆组合物的固化被膜，(A)乙...

本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种鎓盐型单体，其在化学增幅抗蚀剂组成物中使用，该化学增幅抗蚀剂组成物于使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度且曝光裕度(EL)、LWR、C...

本发明中提供一种混炼型硅橡胶复合物，其包含：(A)有机聚硅氧烷生胶；(B)比表面积为50~450m2/g的强化性二氧化硅；(C)下述通式(1)所示的有机烷氧基硅烷的部分水解物；及(D)选自下述(D1)~(D3)中的一种以上的缩合反应用催...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供边缘粗糙度、尺寸偏差小、分辨度优良、且耐热性良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，含有：包含含有下式(a1)或(a2)表示的反应性基团的重复单元(A)及...

本发明的目的在于提供一种导热性复合体及其制造方法，其因是片状而处理性良好，进而强度及绝缘性优异，且可容易地将自身固定于元件或放热构件，进而与放热构件的接着强度优异。一种导热性复合体，具有：第一导热性接着层；增强层(A)，层叠于所述第一导...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的α位...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的芳基...

包含在数均分子量1000～40000的直链状全氟聚醚基的一个或两个末端经由连接基团具有在分子中合计1～20个由下述通式(1)表示的一价的基团的新型的含有氟聚醚基的化合物的光交联性氟聚醚组合物即使没有配混光聚合引发剂或阻聚剂，保存稳定性也...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的α位...

本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的α位...

本发明为一种衬底基板的制造方法，其为用于单晶金刚石层叠基板的衬底基板的制造方法，其具有：准备初始基板的工序；及在所述初始基板上形成由至少包含单晶Ir膜或单晶MgO膜的单层膜或层叠膜构成的中间层的工序，使用雾化CVD法形成构成所述中间层的...