本发明公开了基于光谱分析的半导体4D设备显影液质量在线监测方法，涉及显影液质量监测技术领域，该方法的步骤包括：建立腐蚀光路基线校验模型，跟踪显影液光谱基线，得到基线漂移趋势，当漂移趋势小于或等于设定漂移门限时，不打断采集；否则，采集晶圆...