本申请涉及一种掩模版承载机构及掩模版量测机台。掩模版承载机构包括：载台组件；支架组件，可活动地设于所述载台组件上；多个支撑件，间隔地设于所述支架组件远离所述载台组件的一侧；所述多个支撑件的中心连线围成一闭合图形；以及滑动件，可滑动地设于...

本申请涉及一种基板结构、光掩膜版及其制备方法，基板结构包括：透明基板，所述透明基板具有封闭的中空腔；以及透明液体，填充于所述中空腔内；所述透明液体用于透过投射在所述透明基板上的光线。本申请通过在透明基板中设置封闭的中空腔，并且在中空腔中...

本申请涉及一种光掩模版的清洗方法，包括：采用包括氢气水和碱性溶液的第一溶液对光掩模版进行第一清洗。通过使第一溶液包括氢气水和碱性溶液，可以利用氢气水提高第一溶液的PH值，当碱性溶液对光掩模版表面的无机颗粒进行清洗处理时，由于氢气水提高了...

本申请提供了一种喷淋装置以及喷淋系统。该喷淋装置包括喷淋管、第一输送管路、第二输送管路以及固定连接部，其中，喷淋管包括入口以及位于喷淋管的管壁上的至少六个喷嘴，多个喷嘴包括第一喷嘴，其中，远离入口的第一喷嘴的开孔的轴向方向与其他喷嘴的开...

本申请提供了一种用于清洁刻蚀设备的掩模版以及刻蚀设备的清洁方法。该掩模版包括基板和遮光层，其中，遮光层位于基板的表面上，遮光层中设有多个开口图形，开口图形在基板上的正投影的形状边界具有多个凸起。该用于清洁刻蚀设备的掩模版上的开口图形在基...

本申请提供了一种掩模版的参数监控方法、装置及计算机可读存储介质，该方法包括：首先，提供基准掩模版；然后，借助基准掩模版，获取相位角与掩模版尺寸之间的第一关系，获取透射率与掩模版尺寸之间的第二关系，掩模版尺寸至少包括掩模版关键尺寸；之后，...

本实用新型提供了一种托盘装置，包括：托盘本体；承托部件，设置在托盘本体上，承托部件为多个，多个承托部件沿托盘本体的周向间隔设置，以用于承托目标工件；相对且间隔设置的第一限位件和第二限位件，第一限位件上设置有第一限位端面，第二限位件上设置...

本申请提供了一种掩模版的图形精度的确定方法以及确定装置，掩模版中，第一坐标标识包括相互垂直的第一标识块以及第二标识块，第二坐标标识包括第三标识块以及第四标识块，第三标识块与第一标识块平行，第四标识块与第二标识块平行，该方法包括：获取目标...

本申请提供了一种光刻机，该光刻机包括本体结构和设置在本体结构上的导向片和定位结构，导向片包括固定端和旋转体，旋转体绕固定端旋转，旋转体用于将掩模版固定在光刻机上，导向片的材料为磁性材料，定位结构包括：真空固定件，包括密封端和吸附端，密封...

本申请提供了一种光罩的缺陷的修复方法、修复装置和光罩的修复系统，该修复方法包括：确定目标光罩的缺陷的缺陷信息，缺陷信息包括缺陷的位置信息以及尺寸信息，缺陷为位于目标光罩的透明区的铬层；根据缺陷信息，控制对缺陷进行干法刻蚀处理，以去除缺陷...

本申请提供了一种腔体的净化方法、净化设备和电子束曝光装置，该方法包括：将颗粒吸附结构送入真空腔体内；向颗粒吸附结构发射预定电荷，使得颗粒吸附结构带上预定电荷，预定电荷为正电荷和/或负电荷；在颗粒吸附结构带上预定电荷预定时间段之后，将颗粒...

本实用新型提供了一种去除膜框装置，包括：底座；承载部，设置在底座上，承载部用于承载产品，产品包括基板和连接在基板上的膜框；限位部，限位部包括框架以及设置在框架上的压紧件，其中，框架和底座可连接或分离地设置；框架和底座连接的情况下，压紧件...

本实用新型提供了一种刻蚀设备，其包括：装配盒，装配盒包括相互连接且沿装配盒的高度方向分布的第一盒体部和第二盒体部，第二盒体部的底部用于支撑掩模版；检测部，检测部用于设置在第一盒体部的一侧，以检测第一盒体部处是否有掩模版；承载台，承载台可...

本实用新型提供了一种定位组件及切割设备，定位组件包括：底座；版架，版架设置在底座上的预定位置处；版架上具有限定掩模版的限定位置；底座上设置有至少一个用于固定刀架的设定位置，通过使刀架设置在相应的设定位置处，以使刀架上的可滑动地设置的刀具...

本实用新型提供了一种版架、腐蚀机及显影设备，版架包括底架和支撑架，支撑架设置在底架上并用于支撑掩膜版；支撑架具有用于被掩膜版覆盖的预设支撑面；沿掩膜版的外周边至其内侧的方向，预设支撑面逐渐远离掩膜版，这样可以减小支撑架的预设支撑面和掩膜...

本实用新型提供了一种掩膜版板架。掩膜版板架包括：板架本体，具有第一安装部、第二安装部及第一配合部，第一安装部用于安装掩膜版；推板组件，包括推板、止挡结构及第二配合部，第二配合部和止挡结构均设置在推板上，推板可滑动地设置在第二安装部内；其...

本申请提供了一种涂胶装置，该涂胶装置包括甩干机，甩干机包括甩干机本体和掩膜版架，掩膜版架位于甩干机本体的表面上，掩膜版架用于固定掩膜版。该涂胶装置，包括甩干机，甩干机包括甩干机本体和掩膜版架，掩膜版架位于甩干机本体的表面上，掩膜版架用于...

本发明提供一种显影液的制备方法，包括以下步骤：S1：A溶液的配制：将去离子水、氢氧化钠和一元弱酸混合并密封静置；S2：B溶液的配制：将去离子水、氢氧化钾和一元弱酸混合并密封静置；S3：A溶液和B溶液混合：将所述A溶液和所述B溶液混合得到...

本实用新型提供曝光机台电子枪加热系统，包括：离子泵、分子泵、加热带，分子泵一端通过管道接真空室、另一端接机械泵，离子泵通过管道接入真空室，加热带缠绕在离子泵外部，高温情况下，气体分子运动加速，气体分子与活性膜的反应也会加快，提高了分子泵...

本实用新型提供一种掩模版架、掩模版架与掩模版间接触电阻的检测系统，版架上增设至少一对顶针，每对所述顶针中，一个顶针与所述版架绝缘，另一个顶针与所述版架导通连接，每对所述顶针用于与放置在所述版架上的掩模版的金属层接触，并利用电阻检测器与所...