提供使蚀刻底切最小化并在随后的金属沉积中提供清洁金属剥离的方法。在一个实施例中，首先通过标准光刻技术和在第一显影剂中的抗蚀剂显影将对选定范围的能量敏感的顶部层抗蚀剂图形化，以暴露出部分的底部抗蚀剂层，其对不同的选定范围的能量敏感。然后，...

提供了一种使蚀刻底切最小化并在随后的金属沉积中提供清洁金属剥离的方法。在一个实施例中，采用双层抗蚀剂掩模，并将其用于蚀刻下面的衬底材料和随后的金属剥离。在一个实施例中，首先通过标准光刻技术和在第一显影剂中的抗蚀剂显影将对选定范围的能量（...