本发明涉及发动机尾气检测系统技术领域，涉及一种提高文丘里管内壁减摩耐腐蚀性能的陶瓷层及制备方法。其中的陶瓷层生长在文丘里管基体表面，该陶瓷层的成分是氧化铝和硅酸铝，厚度为5‑15μm。陶瓷层的制备方法包括以下过程：S1，文丘里管基体表面...

本实用新型涉及一种提高压缩机滑片减摩耐磨性的薄膜，位于压缩机滑片基体的弧面，所述的薄膜为四层结构，自所述压缩机滑片基体起，第一层是金属单质薄膜结合层，第二层是金属氮化物薄膜过渡层，第三层是金属碳化物薄膜过渡层，第四层为类石墨碳膜层。具有...

本发明涉及一种提高压缩机滑片减摩耐磨性的薄膜，位于压缩机滑片基体的弧面，所述的薄膜为四层结构，自所述压缩机滑片基体起，第一层是金属单质薄膜结合层，第二层是金属氮化物薄膜过渡层，第三层是金属碳化物薄膜过渡层，第四层为类石墨碳膜层。具有高硬...

本实用新型公开了一种计量阀的挂具，包括挂架和若干承载盒，所述若干承载盒均设置在所述挂架上，承载盒上设有通孔；所述挂架包括底部托盘、顶部托盘和固连杆，底部托盘和顶部托盘通过固连杆固定在一起；底部托盘上设有定位孔，顶部托盘上设有定位槽，底部...

本实用新型公开了一种用于微弧氧化的挂具，括第一支架和第二支架，第一支架与第二支架之间设置有多个挂架，每个挂架的两个相对的侧面上均设置有多个挂钩，挂钩包括钩体和连接体，钩体与连接体连接，连接体与挂架连接，连接体的表面覆盖有橡胶层。本实用新...

本实用新型公开了一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统，由磁控溅射装置和反馈控制装置组成，磁控溅射装置包括反应气体存储装置和真空室，反应气体存储装置通过导气管和真空室连通，真空室内设有磁电管，磁电管上设有放电等离子体；反馈控制装置由光探头、...

本实用新型公开了一种控制阀套挂具，一种控制阀套挂具，包括转轴、托架和套体装置，托架通过定位孔套设在转轴上，托架包括底板和侧支撑板，底板设置在侧支撑板的底端，并与侧支撑板焊接连接，套体装置活动设置在侧支撑板上。本实用新型通过转轴、托架和套...

本实用新型公开了一种用于滚轮销镀层的挂具，包括转盘和销体固定件，转盘上设置有圆孔，销体固定件通过固定件卡座设置在圆孔上，销体固定件包括齿轮和管件，齿轮设置在管件一端的外侧壁上，管件另一端的外侧壁上设置有卡位槽，卡位槽上设置有卡件，管件内...

本实用新型公开了一种柱塞挂具，包括第一转盘、第二转盘和柱塞固定管，第一转盘与第二转盘通过螺栓组件连接，第一转盘上设置有多个大圆孔，第二转盘上设置有多个小圆槽，大圆孔与小圆槽一一对应设置，相对应的大圆孔与小圆槽的中轴线重合，柱塞固定管包括...

本实用新型公开了一种滚轮销挂具，包括转盘和销体固定件，销体固定件随着转盘的转动而旋转，圆孔设置在转盘上，转盘上还设置有安装孔和异形孔，安装孔和异形孔之间设置有定位槽，销体固定件包括齿轮和圆柱体，圆柱体内设置有磁铁块，磁铁块的上方设置有圆...

本实用新型公开了一种油压柱塞的挂具，包括第一转盘、第二转盘和柱塞固定管，第一转盘和第二转盘通过连接件连接，第一转盘上设置有大圆孔，第二转盘上设置有小圆槽，小圆槽与大圆孔对应设置，柱塞固定管穿过大圆孔固定在小圆槽内。本实用新型通过第一转盘...

本实用新型公开了一种微型钻头挂具，包括第一转盘、第二转盘、旋转轴、小轴和多个微钻固定装置，第一转盘与第二转盘均套设于旋转轴上，微钻固定装置设置于第一转盘与第二转盘之间，且套设于小轴上，小轴穿过第一转盘的轴孔与第二转盘连接，旋转轴的底部设...

本实用新型公开了一种连杆挂具，包括环状体、端盖和挂管，端盖设置在环状体的一端，环状体的侧壁上设置有至少四个圆孔，每个圆孔上均安装有挂管，每个挂管上均设置有锁口，锁口上设置有锁环。本实用新型通过在环状体上设置挂管，并通过锁环将连杆固定在挂...

本实用新型公开了一种钻头清洗装置，包括架体和钻头置放架，钻头置放架设置在架体的底部，钻头置放架包括第一层网架、第二层网架和第三层网架，第一层网架设置在第二层网架的正上方，第三层网架设置在第二层网架的正下方，第一层网架、第二层网架与第三层...

本发明公开了一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统及其使用方法，由磁控溅射装置和反馈控制装置组成，磁控溅射装置包括反应气体存储装置和真空室，反应气体存储装置通过导气管和真空室连通，真空室内设有磁电管，磁电管上设有放电等离子体；反馈控制装置由...

本发明公开了一种含钨自润滑刀具镀层制备方法，包括下述步骤：S100：预处理，去除合金材料上的污染物，使合金材料表面清洁、干燥；S200：上挂架和抽真空；S300：离子清洗；S400：沉积钨金属打底；S500：沉积钨/碳过渡层：S600：...

本实用新型公开了一种用于真空离子镀膜机的星形拨动齿轮托架，包括零件支架(1)、星形拨动齿轮架(2)、压盘(3)、定位托盘(4)和紧固件(5)，紧固件(5)内设有定位托盘(4)，定位托盘(4)的上方设有压盘(3)，星形拨动齿轮架(2)设于...

本实用新型公开了一种溅射离子镀工件悬挂网架，包括支撑杆(1)、套管(2)、定位盘(3)和悬挂网架(4)，定位盘(3)与悬挂网架(4)通过紧固螺栓连接，支撑杆(1)上设有悬挂网架(4)，支撑杆(1)外侧设有套管(2)，套管(2)位于每两个...

本实用新型公开了一种非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备，包括真空腔（1）和控制柜（3），真空腔（1）下方设有真空控制柜（2），控制柜（3）上设有手动操作界面（4）和全自动操作界面（5），真空腔（1）上设有侧开式炉门（18），真空控制柜（2）...

本实用新型公开了一种工件离子镀预处理设备，包括依次连接的除蜡槽(1)、A除油槽(2)、B除油槽(3)、漂洗槽(4)、A润洗槽(5)、B润洗槽(6)、脱水槽(7)和脱甲醇槽(8)，他们的底部均通过连接管(9)与排污管(10)连接。本实用新...