本发明的目的在于提供一种对准器结构，以相对较大的移动尺度结束基板(S)及掩模(M)间的第1次相对移动后，以相对较小的移动尺度执行基板(S)及掩模(M)间的第2次相对移动，从而能够实现迅速而精密的基板及掩模的对齐。本发明的对准器结构作为在...

本发明的目的是提供：一种对准器结构，通过提供用于在基板(S)和掩模(M)垂直的状态下使基板(S)和掩模(M)固定且对准的对准结构而能够在基板S和掩模M垂直的状态下良好处理基板；以及一种对准方法。本发明的对准器结构包括：掩模夹紧单元(10...

本发明的目的在于提供一种对准器结构，以相对较大的移动尺度结束基板(S)及掩模(M)间的第1次相对移动后，以相对较小的移动尺度执行基板(S)及掩模(M)间的第1次相对移动，从而能够实现迅速而精密的基板及掩模的对齐。本发明的对准器结构作为在...

本发明的目的在于提供一种原子层沉积装置及原子层沉积系统，在把多个矩形基板支撑于一个基板支撑部的状态下，借助相对于气体喷射部的相对旋转而在基板表面形成薄膜，从而能够减小装置的安装空间，显著提高生产速度；本发明提供一种原子层沉积装置，包括：...