一种高功率（HP）发生器（10）被配置成向脉冲单元（3）输送具有高电压值和/或高电流值的高功率，其中，脉冲单元（3）被配置成向电容性负载、特别地向等离子体处理装置输送具有高电压值和/或高电流的脉冲高功率，其中脉冲高持续时间为10µs或更...

一种高功率（HP）发生器（10）被配置成向脉冲单元（3）输送具有高电压值和/或高电流值的高功率，其中，脉冲单元（3）被配置成向电容性负载、特别地向等离子体处理装置输送具有高电压值和/或高电流的脉冲高功率，其中脉冲高持续时间为10 µs或...

一种电子设备（10）、特别是用于在等离子体处理中对基板进行偏置的高功率（HP）、高电压（HV）脉冲电力供应装置，所述电子设备（10）包括：‑ 多个电气部件（15），所述多个电气部件能够在设备（10）处于使用中时产生热；‑ 容器（12），...

一种电子设备（10）、特别是用于在等离子体处理中对基板进行偏置的高功率（HP）、高电压（HV）脉冲电力供应装置，所述电子设备（10）包括：‑多个电气部件（15），所述多个电气部件能够在设备（10）处于使用中时产生热；‑容器（12），在该...

一种电子设备（10）、特别是用于在等离子体处理中对基板进行偏置的高功率（HP）、高电压（HV）脉冲电力供应装置，所述电子设备（10）包括：‑多个电气部件（15），所述多个电气部件能够在设备（10）处于使用中时产生热；‑容器（12），在该...

一种操作等离子体工艺系统（1）的方法，该等离子体工艺系统（1）包括：a）具有等离子体工艺室壁（3）的等离子体工艺室（2），该等离子体工艺室壁连接至电位，例如连接至地，b）HiPIMS电力供应装置（4），该HiPIMS电力供应装置被设计用...

一种用于开关电路(101)的能量再馈送模块(15)，开关电路具有开关单元(24)，其配置为可连接到直流电压源(V1)并在其输出(OUT)提供以下特征之一或组合：iv)高电压值，v)带有减少的振荡和/或过冲的高电压上升值，vi)对电容负载...