本发明公开了一种具备防颗粒污染功能的晶圆真空腔室间转运机械手，包括机身，所述机身上设置有取片组件；所述取片组件包括滑动连接于机身一侧的第一升降轴，所述第一升降轴上端转动设置有第一伸展臂，所述第一伸展臂一端转动设置有第二伸展臂，所述第二伸...

本技术提供了一种继电器故障检测电路，包括供电单元、报警单元和测试单元。供电单元给测试单元和报警单元供电，测试单元包括单片机MCU以及与单片机MCU连接的继电器控制模块和继电器反馈模块。报警单元与单片机MCU信号连接，继电器控制模块用于控...

本技术提供了一种喷淋头。喷淋头包括导气管、上盖和下盖。上盖的本体沿高度方向延伸。本体包括上下设置的第一端和第二端。导气管固定在上盖的上方，并与腔体连通。下盖，其顶部向下开设环槽，上盖嵌入环槽内，上盖的第二端与环槽抵接。在高度方向上，第一...

本技术公开了一种化学气相沉积炉的辅助进气装置，包括化学气相沉积炉本体和反应管，所述反应管卡接在化学气相沉积炉本体的内部，反应管的一端设置有辅助进气机构，辅助进气机构能够向化学气相沉积炉的反应管内辅助预热进气，涉及化学气相沉积技术领域：通...

本技术提供了一种高压电源的控制装置，用于控制高压电源。高压电源的控制装置包括壳体、设置在壳体上的控制面板、设置在壳体内的供电电源和内部电路。供电电源配置为给控制面板和内部电路供电，控制面板和内部电路电连接。内部电路上设有连接器，连接器通...

本发明公开了一种用于半导体喷淋头的隔热耐腐蚀涂层及其制备方法。所述隔热耐腐蚀涂层的制备方法包括以下步骤：将NiCrAlY合金粉末与粘结剂混合均匀，喷涂在基底表面，形成粘结底层；将氧化钇稳定氧化锆粉末与粘结剂混合均匀，喷涂在粘结底层上，形...

本申请公开了一种用于半导体加热装置的防护涂层及其制备方法。所述防护涂层的制备方法包括以下步骤：将有机溶剂、氧化钇、二氧化硅、氮化硼混匀球磨，加入改性剂反应，得到混合浆料；将混合浆料喷涂在基体上，干燥得到前驱体；将前驱体放入沉积炉中，通入...

本发明公开了一种晶圆固定装置及晶圆干燥装置。该晶圆固定装置包括：固定底座和旋转底座，该旋转底座上固定设有静电吸盘；多个均布在旋转底座周侧的对中组件，每个对中组件均包括外壳以及沿晶圆轴向对称设置在外壳上的上柔性垫块和下柔性垫块，外壳能够沿...

本技术提供了一种晶圆夹持针的测试装置，包括动力件、传动件、夹持台、转动调节部和若干晶圆夹持针。传动件与动力件转动连接。夹持台与传动件固定连接，夹持台的顶壁安装晶圆。若干晶圆夹持针均安装于夹持台内，若干晶圆夹持针均设有若干外露于顶壁的抵接...

本发明公开了一种绝缘陶瓷材料、其制备方法及在半导体加热器中的应用。所述绝缘陶瓷材料的原料包括按重量份计算的如下组分：氧化铝70‑80份、氮化硼20‑30份、氧化镁1‑2份、石英纤维粉2‑3份、改性剂4‑6份；其中改性剂的制备方法包括：使...

本发明公开了一种半导体用微纳结构喷淋盘及其制作方法。所述半导体用微纳结构喷淋盘包括喷淋盘基体，形成在盘面上的粗化结构，以及覆设在盘面及粗化结构上的复合涂层。喷淋盘基体的盘面上离散分布有多个喷淋孔。所述粗化结构包括沿盘面周期性分布的多个菱...

本发明提供了一种高压负载装置及控制方法。高压负载装置包括电源分配电路、检测电路、负载电路、可编程逻辑控制器和处理单元。电源分配电路用于连接待测电源的输入端。检测电路与电源分配电路连接，用于检测高压负载装置的液位、漏液、温度信息。负载电路...

本发明涉及半导体加工技术领域，尤其涉及一种化学气相沉积CVD设备，包括：处理罐和固定连接在处理罐上端的充气管，所述加热层安装在处理罐内部，所述加热层上端设置有多个喷气组件，多个所述喷气组件与上端的充气管连通，用于导出反应气体；所述反应空...

本技术公开了晶圆加工技术领域的一种新型晶圆低耗氮清洗后旋干机，包括箱体，箱体的正面安装有箱门，箱体的内腔底部安装有支撑架，支撑架的内侧安装有驱动电机，驱动电机的输出轴安装有转动盘，转动盘的顶部设置有多个卡盘，箱体的顶部设置有烘干组件，箱...

本技术公开了晶圆加热技术领域的一种受热均匀的晶圆加热装置，包括操作台，操作台的底部四周均设置有支撑腿，操作台的顶部中心处设置有加热台，加热台的顶部中心处设置有凹槽，凹槽内设置有加热板，凹槽的左右两侧中部均设置有传感器安装槽，传感器安装槽...

本技术公开了晶圆片甩干技术领域的一种安装有吸附台的晶圆片甩干装置，包括箱体，箱体的底部四周均设置有垫块，箱体的内腔底部中心处呈矩形状设置有四组支撑杆，四组支撑杆的顶部共同连接设置有电机安装板，电机安装板的顶部设置有低速电机，低速电机的顶...

本技术公开了定位气缸技术领域的一种新型定位气缸，包括安装座，安装座的左侧安装设置有标准气缸，安装座的中部纵向设置有凹槽，凹槽的内腔左侧中部横向设置有螺栓，且凹槽的内腔左侧中部横向贯穿设置有与螺栓相匹配的通孔，标准气缸的右侧中部设置有连接...

本实用新型公开了多芯片集成电路封装技术领域的多芯片集成电路封装工艺段固化烘烤用固化炉，包括固化炉外箱体，所述固化炉外箱体的底端设有连通设置的加热箱，且加热箱的内腔底端设有热辐射式电加热基板，且热辐射式电加热基板的出口设有集热腔，所述固化...

本实用新型公开了光刻机技术领域的一种浸没式光刻机的加热器装置，包括光刻机主体，光刻机主体的前侧右端安装有保护门，光刻机主体两侧内壁的下部均转动安装有转动轴，光刻机主体的左侧下部安装有电机，两组转动轴相互靠近的一侧均设置有夹持组件，光刻机...

本实用新型公开了扩散炉技术领域的反应气体可均匀扩散的立式扩散炉，包括立式扩散炉本体和晶圆本体，所述立式扩散炉本体的左侧设有分流箱，所述分流箱的进气口连通有进气管，且进气管上设有气泵，所述分流箱的内腔右侧设有引导块，所述分流箱的上下两端均...