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苏州晶鼎鑫光电科技有限公司专利技术
苏州晶鼎鑫光电科技有限公司共有30项专利
一种多通道集成滤光片制造技术
本实用新型公开了一种多通道集成滤光片,包括基片,所述基片一侧覆盖有8个集成通道,所述8个集成通道相互并排连接;所述第一集成通道到第五集成通道上还覆盖一层第一公共截次膜系,所述第六集成通道、第七集成通道和第八集成通道上覆盖有一层第二公共截...
一种工作波段为3400-4200nm的带通滤光片制造技术
本实用新型公开了一种工作波段为3400-4200nm的带通滤光片,包括正面膜系、基片和背面膜系,所述正面膜系由一氧化硅层和锗膜层交替叠加组成,所述一氧化硅层和锗膜层共27层;所述背面膜系由一氧化硅层和锗膜层交替叠加组成,所述一氧化硅层和...
一种工作波段为3800-5200nm的中红外带通滤光片制造技术
本实用新型公开了一种工作波段为3800-5200nm的中红外带通滤光片,包括正面膜系、基片和背面膜系,所述正面膜系由硫化锌层和锗膜层交替叠加组成,所述硫化锌层和锗膜层共45层;所述背面膜系由硫化锌层和锗膜层交替叠加组成,所述硫化锌层和锗...
一种工作波段为3700-4800nm的带通滤光片制造技术
本实用新型公开了一种工作波段为3700-4800nm的带通滤光片,包括正面膜系、基片和背面膜系,所述正面膜系由一氧化硅层和锗膜层交替叠加组成,所述一氧化硅层和锗膜层共29层;所述背面膜系由一氧化硅层和锗膜层交替叠加组成,所述一氧化硅层和...
一种工作波段为3900-5500nm的中红外带通滤光片制造技术
本实用新型公开了一种工作波段为3900-5500nm的中红外带通滤光片,包括正面膜系、基片和背面膜系,所述正面膜系由硫化锌层和锗膜层交替叠加组成,所述硫化锌层和锗膜层共26层;所述背面膜系由硫化锌层和锗膜层交替叠加组成,所述硫化锌层和锗...
一种工作波段为4100-5200nm的中红外带通滤光片制造技术
本实用新型公开了一种工作波段为4100-5200nm的中红外带通滤光片,包括正面膜系、基片和背面膜系,所述正面膜系由一氧化硅层和锗膜层交替叠加组成,所述一氧化硅层和锗膜层共24层;所述背面膜系由一氧化硅层和锗膜层交替叠加组成,所述一氧化...
一种镀膜膜厚监测装置制造方法及图纸
本案为一种镀膜膜厚监测装置,包括:挡板,设于挡板上的通孔,第一晶振,第二晶振,其中,第一晶振与第二晶振的监测位置相同,通孔处为监测位置,第一晶振在监测位置被镀膜时,遮挡第二晶振;当第一晶振被镀膜到一定的厚度后,第一晶振被移离而第二晶振被...
一种镀膜膜厚监测方法技术
本案为一种镀膜膜厚监测方法,包括:挡板,设于挡板上的通孔,第一晶振,第二晶振,其中,第一晶振与第二晶振的监测位置相同,通孔处为监测位置,第一晶振在监测位置被镀膜时,遮挡第二晶振;当第一晶振被镀膜到一定的厚度后,第一晶振被移离而第二晶振被...
一种多通道滤光片的纳米掩膜制作方法技术
本案为一种多通道滤光片的纳米掩膜制作方法,包括以下步骤:a.在干净的滤光片基片上形成纳米掩膜膜层;b.在纳米掩膜膜层上进行旋涂光刻胶,90℃-100℃烘烤10min以上,在纳米掩膜膜层上形成光刻胶层;c.曝光;d.显影和后烘;e.通过蚀...
一种制作集成多通道滤光片的纳米掩膜方法技术
本案为一种制作集成多通道滤光片的纳米掩膜方法,包括以下步骤:a.预处理:甩胶和前烘,在干净的滤光片基片上旋涂光刻胶,90℃-100℃烘烤10min以上;b.曝光:把预处理好的滤光片基片置于掩膜板下进行紫外曝光;c.显影和后烘;d.镀制纳...
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