松山湖材料实验室专利技术

松山湖材料实验室共有733项专利

  • 本申请提供一种低热值气体燃烧系统及控制方法,涉及低热值气体处理技术领域。低热值气体燃烧系统,包括:燃烧室、预混室、低热值气管道、助燃气管道、高热值气管道、热值检测装置、控制系统。低热值气管道、助燃气管道、高热值气管道分别用于向预混室通入...
  • 本发明公开了一种利用Al掺杂调节稀磁半导体磁学性能的方法及其制品,本发明提供的制备方法简单,易于实现,科学利用离子注入结合脉冲激光退火成功实现了Al对(In,Mn)As稀磁半导体的替位掺杂,且保证了掺杂薄膜的单晶外延结构,通过逐渐变化掺...
  • 本发明公开了一种高电压锂离子电池组合式电解液添加剂、电解液及其电池,本发明提供的高电压锂离子电池组合式电解液添加剂由砜类化合物和氟代碳酸酯类化合物混合而成,在高电压下会发生分解,在正极的表面形成含‑S=O‑/‑O=S=O‑、LiF和‑CH
  • 本申请提供一种多孔介质燃烧头及多孔介质燃烧器,属于燃气燃烧技术领域。多孔介质燃烧头包括壳体、导热致密板和尾气管。壳体上设置有进气口,壳体具有贯通的腔室,腔室包括沿进气方向依次连通的预混区、防回火区、反应区和辐射区,辐射区位于远离进气口的...
  • 本发明公开了一种纳米级精度压电驱动线性位移台,其包括基体、滑轨、驱动座、柔性质量块、压电驱动单元、位置传感器单元和粘滑摩擦组件。柔性质量块和压电驱动单元之间通过球面触头和球形凹面相配合,具有自定位功能,能有效保证受力点不偏离,降低了对于...
  • 本发明公开了一种基于水刀切割的铁基非晶合金定子铁芯制备方法及其制品,本发明方法以非晶合金带材为基础,将非晶合金带材统一剪裁至预定尺寸,之后将带材堆叠预定层数,并使用夹具在轴向施加预定压力,以确保非晶合金带材之间贴合紧密;随后依次对堆叠好...
  • 本发明公开了一种陶瓷板真空溅射镀膜装置及其镀膜方法,陶瓷板真空溅射镀膜装置包括真空腔室、公转工件架、内侧圆柱溅射靶、内侧平面溅射靶、内侧离子源、外侧圆柱溅射靶、外侧平面溅射靶和外侧离子源;内、外侧离子源用于基片表面镀膜前清洁及辅助沉积,...
  • 本发明公开了一种调节稀磁半导体磁性能的方法及其制品,本发明的调节方法简单,易于实现,通过He离子束轰击稀磁半导体材料,通过离子束在稀磁半导体材料内部产生电子缺陷而调控材料的费米能级,进而改变材料的磁矩强弱及其居里温度。通过连续改变He离...
  • 本发明公开了一种高压锂离子电池阻燃剂、电解液及其电池,高压锂离子电池阻燃剂为全氟代或大部分氟代的磺酰基化合物。本发明提供的高压锂离子电池阻燃剂为全氟代或大部分氟代的磺酰基化合物,具有抗氧化特性,在高压下较为稳定,不仅不影响锂离子电池的性...
  • 本发明公开了一种制备磁性半导体外延薄膜的方法及其制品,本发明的制备方法简单,易于实现,对InAs半导体衬底进行清洁处理,将Fe元素注入InAs半导体衬底或者还将Sn或者Zn元素注入,然后再进行脉冲激光退火,制得无掺杂或Sn/Zn掺杂的(...
  • 本发明公开了一种光学检测光源设计方法及其光源,采用LED、氙灯和卤素灯中一种或多种进行组合形成光源,将光源设置在能将光线投射在被测样品上的位置,调整光源的光谱L(λ)与理想光谱I(λ)在六个波段的光谱匹配度都在0.4~2.0之间,光谱匹...
  • 本发明公开了一种硅片反射率测量方法,其包括以下步骤:(1)使用具有特定光谱的光源均匀的照射到硅片样品的表面;(2)通过光学镜头将硅片样品表面反射的光聚焦到光电探测器上;(3)光电探测器接收到的光信号转换为电信号,并输出结果;(4)将输出...
  • 本发明公开了一种高压锂离子电池电解液及其电池,其电解液由有机溶剂、锂盐以及添加剂组成,所述添加剂能在正负极表面形成P‑O、Si‑O和B‑M(其中M为O、Br、F、N、S中的至少一种)键,通过这三个键的交联反应,在正负极的表面形成稳定固态...