本实用新型提供了一种离子注入和等离子体沉积设备，该设备包括离子源和真空室，其中，所述真空室壁上包括设置有抽真空口以及用于与所述离子源连通的开口；所述真空室内包括设置有放卷辊、冷却部件、收卷辊；所述冷却部件由至少所述１根冷却辊组成，所述冷...

本实用新型提供了一种用于薄膜的连续电镀装置，其中，该电镀装置包括放卷机，收卷机，至少一个主电镀槽，偶数对水平设置的相互平行的第一导电辊组，以及整流器；所述主电镀槽中非水平地设置有所述偶数对的相互平行的第一阳极组，至少一个与所述第一导电辊...

本发明提供了一种离子注入和等离子体沉积设备，该设备包括离子源和真空室，其中，所述真空室壁上包括设置有抽真空口以及用于与所述离子源连通的开口；所述真空室内包括设置有放卷辊、冷却部件、收卷辊；所述冷却部件由至少所述１根冷却辊组成，所述冷却辊...

本发明提供了一种连续生产挠性覆铜板的方法，其特征在于，该方法包括对在有机高分子聚合物薄膜表面进行连续的离子注入和／或等离子体沉积步骤后，进行连续的电镀铜的步骤。采用本发明所提供的方法生产的两层型挠性覆铜板，其铜膜与基材的结合力远远高于“...

本发明提供了一种用于薄膜的连续电镀装置，其中，该电镀装置包括放卷机，收卷机，至少一个主电镀槽，偶数对水平设置的相互平行的第一导电辊组，以及整流器；所述主电镀槽中非水平地设置有所述偶数对的相互平行的第一阳极组，至少一个与所述第一导电辊组中...