本发明公开了一种高耐热黄变耐化学品腐蚀的负型感光树脂，用于液晶面板中电极间的绝缘层或

本实用新型公开了一种反渗透法浓缩废显影液的简易装置，包括微米过滤器

本实用新型涉及测定仪器的技术领域，公开了一种塑料和聚酯树脂的部分酸值和总酸值自动测定仪，包括：PLC、测试结构、试剂引入结构、搅拌水解结构、酸值检测结构、红外检测结构、温度探针、冷凝管；本实用新型中通过PLC控制第一引入组件、红外检测组...

本实用新型公开了一种蚀刻废液处理回收装置，包括蚀刻流水线，所述蚀刻流水线的排水口通过蚀刻废水管和喷淋废液管连接废液储存槽，所述废液储存槽的出液口依次连接芬顿降解器、UASB反应器、袋式过滤器、离子交换柱、废水储存器和混凝沉淀池，有益效果...

本实用新型涉及一种PLC控制的实验室用集成式涂胶烘烤机，包括装置本体，装置本体顶部外接有排气管，装置本体内水平方向设置有传动装置I，传动装置I一侧沿传动方向依次设置有花篮、旋转涂胶装置、烘烤装置和冷却装置，传动装置I上设置有操作装置，操...

本实用新型涉及一种厌氧环境烤胶机，包括烘烤腔，烘烤腔内设置有隔板和托盘，隔板将烘烤腔分成上腔体和下腔体，隔板开设有通孔，通孔形状与托盘一致，大小不小于托盘，托盘下方通过升降杆连接有电缸，烘烤腔接设有氮气管路，氮气管路另一端连接有氮气瓶，...

本实用新型涉及一种实验室单体显影机，包括显影机腔体，显影机腔体顶部设置有上盖，上盖底面中心位置设置有显影液喷头和去离子水喷头，显影液喷头包括若干组带螺纹管头和狭缝，上盖底面铺设有管路，显影液喷头和去离子水喷头通过管路与供液瓶连通，管路中...

本发明涉及一种低温负性黑色光刻胶组合物及其黑色矩阵，包括有机溶剂和溶解在有机溶剂中的溶质，溶质占组合物总重量的15

本实用新型涉及一种光刻胶生产自动过滤装置，包括反应釜、滤芯和管路，反应釜底部通过管路与滤芯连接，管路上设置有液体泵I，滤芯下游接设有电磁阀I，电磁阀I下游接设返回管路和收集管路，返回管路与反应釜连接，收集管路下游接设合格液腔，滤芯和电磁...

本发明涉及一种高敏感度正性光刻胶组合物及其合成方法和固化膜，包括有机溶剂和溶解在有机溶剂中的溶质，溶质的重量比例为15

本实用新型涉及一种光刻胶减压干燥装置，包括抽气干泵、腔体和抽气管路，抽气干泵与腔体通过抽气管路连通，抽气管路上设置有手动阀，腔体一侧设置有腔门，腔体底部开设有抽气孔和中心通孔，抽气管路接设在抽气孔下方，腔体底部穿过中心通孔设置有丝杆，丝...

本实用新型涉及一种半导体清洗改良装置，包括清洗槽和设置在清洗槽内的硅片夹，清洗槽底部外接有进液管路，清洗槽侧壁外接有溢流管路，硅片夹内侧沿竖直方向并列设置有若干支架，支架上均垂直清洗槽内壁延伸出若干横梁，水平方向相邻横梁之间距离大于硅片...

本发明公开了一种聚乙烯醇肉桂酸酯型KPR光刻胶蚀刻残留剥离剂组合物，包括：有机溶剂40~70%，有机胺1~20%，缓蚀剂0.5~10%，表面活性剂0.2~5%，氟化物1~5%以及其余的超纯水，其中：所述表面活性剂为乙二醇、丙三醇、葡萄糖...

本发明公开了一种高耐热共聚型负性光刻胶组合物，包括以下质量份数的组分：碱可溶光固化有机硅树脂10~30份，碱可溶丙烯酸酯类单体1.5~8份，光引发剂0.5~2.5份，表面活性剂0.01~0.02份，和溶剂12~60份；其中，所述碱可溶光...

本发明涉及一种高残膜率正型光刻胶组合物及其合成方法和固化膜，高残膜率正型光刻胶组合物包括包括有机溶剂和溶解在溶剂中的10wt%至70wt%溶质，溶质包括含氟烷烃和硅氧烷基团的丙烯酸共聚物、硅氧烷共聚物和1,2

本发明涉及一种高粘着性正型光刻胶组合物及其合成方法和固化膜，高粘着性正型光刻胶组合物包括有机溶剂和溶解在有机溶剂中的溶质，溶质包括含环氧基团的硅氧烷共聚物、丙烯酸共聚物、1,2