本实用新型公开了一种可调式圆弧型前置电控箱，所述前置电控箱由电控箱后板、电控箱侧板和电控箱面板组成，所述电控箱侧板为两块，所述电控箱面板是一块曲面板，所述电控箱侧板具有与所述电控箱面板相配合的弧度；所述电控箱后板、两块所述电控箱侧板和所...

本实用新型公开了一种整体式旋转限位装置，包括限位挡杆2、转轴5、固定件3和拉簧4，限位挡杆2包括限位挡杆一6、限位挡杆二7和限位挡杆三8，限位挡杆一6呈钝角向栏具托架9方向弯曲，限位挡杆二7呈L直角状，限位挡杆三8呈圆弧状，限位挡杆二7...

本实用新型涉及一种偏载升降机，属于升降机技术领域，包括底板和竖直设置在底板上的导轨电机支撑立柱架，导轨电机支撑立柱架的两侧设置导轨，导轨电机支撑立柱架的内部竖直设置有丝杠副组件，丝杠副组件的上端依次连接有联轴器和电机；用于承载重载物的载...

本实用新型公开了一种可实现竖直方向旋转的上料装置，包括气缸、夹紧气缸、底板，气缸选用平端杆侧耳轴型，气缸的活塞杆顶端用耳环与栏具放置板连接，气缸的缸体两端耳轴处加轴承与轴承座一连接固定于底板上，底板的轴承座二设置于轴承座一两侧，通过轴承...

本实用新型公开了一种用于晶片湿法清洗后的氮气烘干模块，包括储气罐、在线加热器和烘干槽本体，所述在线加热器通过管路分别与储气罐和烘干槽本体相通，所述烘干槽本体上方设有槽盖，内部设有多路喷淋管路，所述喷淋管路通过管夹固定于烘干槽本体的内部侧...

本实用新型涉及一种上料装置，属于工业生产领域，包括固定支架、底板和电缸，底板用于承载物料且搭在固定支架的上方，底板的两侧有固定在固定支架上的物料限位架，电缸固定在固定支架上，同时也与底板的底面相连，在电缸的作用下能够实现底板在竖直方向上...

本实用新型提出一种均匀刻蚀基片的集成电路芯片湿处理装置，承载体通过圆柱体连接结构挂载在振动装置上；圆柱体连接结构包括设置于振动装置的下端的第一圆柱体、设置于承载体的上端的第二圆柱体，第二圆柱体可转动连接在第一圆柱体上且可相对第一圆柱体上...

本实用新型公开了一种可实现升降的楔形运动机构，包括底板，上楔形块和下楔形块，下楔形块设置于上楔形块与底板之间，其底部为平面，顶部为斜面，上楔形块顶部为平面，底部包括平面部和斜面部，斜面部的倾斜度与下楔形块的顶部斜面相同，底板上垂直设置有...

本实用新型提出一种基片的湿法制绒装置，该湿法制绒装置包括至少一组涂抹装置，所述涂抹装置包括转动驱动装置、多个滚轴、及化学液槽体；所述化学液槽体内用以盛接化学液，所述化学液槽体具有开放槽口；所述多个滚轴并排排布设置在所述化学液槽体的开放槽...

本实用新型提出一种集成电路芯片湿处理装置，包括：振动装置、承载体、抖动机构及活动连接结构；承载体通过所述活动连接结构挂载在振动装置上；所述活动连接结构包括设置于所述振动装置的下端的第一连接件、设置于所述承载体的上端的第二连接件，所述第二...

本实用新型公开了一种用于清洗晶圆的花篮装置，属于晶圆清洗技术领域，其包括外部支撑部件和内部固定部件；所述外部支撑部件包括两个平行间隔设置的侧板；所述内部固定部件包括四个平行设置的卡杆，所述卡杆的两端分别固定在两个侧板相对面的下方，四个卡...

本实用新型公开了一种半导体器件的清洗装置，包括内槽4和溢流外槽5，与内槽4相连通的溢流外槽5的上端边高于内槽4的上端边，内槽4下部设置有网孔支撑板3，内槽4上端边呈波浪状，内槽4底端设置有与内槽4连通的进水口2，溢流外槽5上设置有排水口...

本发明提出一种基片的湿法制绒装置及方法，该湿法制绒装置包括至少一组涂抹装置，所述涂抹装置包括转动驱动装置、多个滚轴、及化学液槽体；所述化学液槽体内用以盛接化学液，所述化学液槽体具有开放槽口；所述多个滚轴并排排布设置在所述化学液槽体的开放...

本发明提出一种均匀刻蚀基片的集成电路芯片湿处理装置及方法，承载体通过圆柱体连接结构挂载在振动装置上；圆柱体连接结构包括设置于振动装置的下端的第一圆柱体、设置于承载体的上端的第二圆柱体，第二圆柱体可转动连接在第一圆柱体上且可相对第一圆柱体...