上海铂世光半导体科技有限公司专利技术

上海铂世光半导体科技有限公司共有34项专利

  • 本实用新型公开了一种腔体焊接治具,包括直拉治具和斜拉治具,直拉治具包括门板保持架、观察窗保持架和直拉顶盖板,直拉顶盖板和门板保持架连接直角处设有加强筋;斜拉治具包括4个对称设置且结构设置相同的小观察窗保持架,小观察窗保持架包括保持架、小...
  • 本实用新型公开了一种开孔工装,包括刀头连接座、刀头、浮动刀套和弹簧,刀头连接座包括连接管、刀头连接杆和弹簧压紧座,连接套和弹簧压紧座之间设有调节螺母,刀头连接杆和刀头通过螺钉拧紧固定,连接套、刀头连接杆和螺钉均设有相互连通的气孔;气孔连...
  • 一种MPCVD设备的冷却结构,包括连接板,连接板表面固定有冷却管,冷却管上端固定有水箱,水箱远离冷却管的一侧开设有注水口,连接板内焊接有防护外壳,防护外壳内转动连接有散热风扇,散热风扇远离防护外壳的一侧固定有驱动电机,驱动电机的下表面固...
  • 一种用于MPCVD的张紧装置,包括波导腔体和反应腔体,波导腔体底部设置有连接杆,连接杆顶端贯穿波导腔体和反应腔体,波导腔体底部拆卸连接有张紧装置本体,连接杆底端贯穿张紧装置本体且与张紧装置本体滑动连接,连接杆顶端位于反应腔体内部且固定连...
  • 一种MPCVD腔体结构,包括腔体本体、微波源和波导,波导顶部远离微波源一侧设置有模式转换器,模式转换器贯穿波导且位于腔体本体内,腔体本体内部底部固定连接有支撑柱,支撑柱顶端固定连接有支撑台,支撑台顶部固定连接有放置台,腔体本体外侧中部开...
  • 一种MPCVD装置,包括:支撑柱,支撑柱顶部设有工作机构,工作机构内部设有加热机构,加热机构顶部设有散热机构,散热机构顶部设有基片,工作机构内部设有第一腔体和第二腔体,散热机构包括第二电动推杆,第二电动推杆固定连接在第一腔体内部,第二电...
  • 一种用于MPCVD设备的抽气模块,包括:底板,底板上表面中心放置有分子泵,分子泵上表面设有进气口,分子泵一端侧壁底部开设有出气口,分子泵外侧壁上方套接有定位环套,定位环套下底部两端位于分子泵旁均设有弧形固定板,两个弧形固定板相互远离的一...
  • 本发明公开了一种用于真空腔体的密封结构,包括:第一上盖及与所述第一上盖通过真空法兰密封连接的第二下盖;所述真空法兰包括第一真空法兰以及与所述真空法兰密封连接的第二真空法兰,所述第二真空法兰靠近第一真空法兰的端面上至少开设有两个凹槽,所述...
  • 本发明公开了一种耐磨导电金刚石定位器,包括:支撑座、固定于所述支撑座上的CVD绝缘金刚石膜、固接于所述CVD绝缘金刚石膜上的掺硼导电金刚石膜及位于所述掺硼导电金刚石膜上往复运动的运动件;所述掺硼导电金刚石膜沿长度方向上刻蚀有多个沟槽,多...
  • 本发明公开了一种合金材料的特殊水道设计的散热台,包括:样品放置台、与所述样品放置台相抵触设置的石墨烯加热结构、与所述石墨烯加热结构相抵触设置的散热结构及用于包裹所述散热结构的保护罩;所述散热结构包括与所述石墨烯加热结构相抵触的散热台及散...
  • 本发明公开了一种提高微波CVD窗口耐热性的复合窗口结构,包括:真空组件及固接于所述真空组件上的复合窗口组件;所述真空组件包括多个金属反射挡板及用于封盖金属反射挡板,多个所述金属反射挡板构成一密封腔室,所述密封腔室的上端通过端盖进行密封,...
  • 本发明公开了一种MPCVD生长台的升降装置,包括固定装置、动力装置、调节装置和检测装置,固定装置和动力装置连接,动力装置和调节装置传动连接,调节装置一侧设有若干检测装置,检测装置和调节装置活动连接,固定装置包括框架、工作台和反应室,工作...
  • 本发明公开了一种以石墨烯作为导热材料带温度控制的样品台,包括:样品放置台、与所述样品放置台相抵触设置的石墨烯加热结构、与所述石墨烯加热结构相抵触设置的散热结构及用于包裹所述散热结构的保护罩;所述石墨烯加热结构包括第一石墨烯件、与所述第一...
  • 本发明公开了一种多能量耦合等离子体化学气相沉积法制备金刚石的方法,所述等离子体化学气相沉积法采用热丝、脉冲偏压电源和旋转磁场耦合作为复合能量源,热丝用于激发含碳气体产生初级等离子体,脉冲偏压用于对热丝产生的初级等离子体施加电场,使初级等...