一种用于真空腔体的密封结构制造技术

本发明专利技术公开了一种用于真空腔体的密封结构，包括：第一上盖及与所述第一上盖通过真空法兰密封连接的第二下盖；所述真空法兰包括第一真空法兰以及与所述真空法兰密封连接的第二真空法兰，所述第二真空法兰靠近第一真空法兰的端面上至少开设有两个凹槽，所述凹槽中嵌合有密封件，所述第一真空法兰靠近第二真空法兰的端面为平滑面。根据本发明专利技术，提供双层密封结构的真空密封作用，同时能监控密封效果，并能及时发现真空密封失效而对软质密封圈进行及时更换，同时还能延长软质密封圈的使用寿命。命。命。

【技术实现步骤摘要】
一种用于真空腔体的密封结构


[0001]本专利技术涉及真空密封的
，特别涉及一种用于真空腔体的密封结构。

技术介绍

[0002]由于对材料制备纯度的要求越来越高，因此很多材料及分析检测技术都是需要在真空的环境中进行，尤其是芯片制备，高性能半导体薄膜材料制备等领域，因此，真空设备是必不可少的。而对于真空设备，为了方便将材料从真空设备中拿进去，取出来，需要对拿取路径上设置方便使用，密封效果好，密封材料使用寿命长的密封结构。由于加工方便，通常真空设备都是用不锈钢制成。为了拿取材料的方便，真空腔在需要拿取材料进出的地方，需要通过真空法兰进行真空密封。
[0003]常规密封结构只有一层密封圈，该密封圈始终处于一边是常压，一边是真空；当橡胶密封圈两侧压强差越大，密封效果越容易被破坏，导致密封圈寿命降低；再加上橡胶容易老化，因此一层密封圈设计的密封结构，密封效果不理想，同时一旦橡胶圈老化，会导致密封失效。

技术实现思路

[0004]针对现有技术中存在的不足之处，本专利技术的目的是提供一种用于真空腔体的密封结构，提供双层密封结构的真空密封作用，同时能监控密封效果，并能及时发现真空密封失效而对软质密封圈进行及时更换，同时还能延长软质密封圈的使用寿命。为了实现根据本专利技术的上述目的和其他优点，提供了一种用于真空腔体的密封结构，包括：
[0005]第一上盖及与所述第一上盖通过真空法兰密封连接的第二下盖；
[0006]所述真空法兰包括第一真空法兰以及与所述真空法兰密封连接的第二真空法兰，所述第二真空法兰靠近第一真空法兰的端面上至少开设有两个凹槽，所述凹槽中嵌合有密封件，所述第一真空法兰靠近第二真空法兰的端面为平滑面。
[0007]优选的，所述凹槽与第二真空法兰为同心圆设置。
[0008]优选的，所述凹槽的深度尺寸为0.5
‑
16.5毫米，宽度的尺寸为0.5
‑
20毫米。
[0009]优选的，所述密封件软质材料，包括橡胶。
[0010]优选的，所述第二真空法兰上开设有一通孔，所述通孔通过金属管道连接有真空泵，所述金属管道上固接有第一真空规与第一阀门。
[0011]优选的，所述第一上盖与第二下盖均为真空腔结构，且所述第二下盖上通过管道连通有真空泵，所述管道上固接有第二阀门,与第二真空规。
[0012]本专利技术与现有技术相比，其有益效果是：通过双层密封件，以保证密封效果；通过在两层密封件中间区域设置抽真空管路及真空控制阀门和真空规用于真空测量，能有效的监控两层密封件的密封效果，及时发现真空密封失效的密封件；并通过控制两层密封件之间的真空度，可以有选择性的控制每一层密封件两边真空度的差异，从而能达到延长密封件的使用寿命。
附图说明
[0013]图1为根据本专利技术的用于真空腔体的密封结构的结构示意图。
具体实施方式
[0014]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0015]参照图1，一种用于真空腔体的密封结构，包括：第一上盖1及与所述第一上盖1通过真空法兰2密封连接的第二下盖3；所述真空法兰2包括第一真空法兰21以及与所述真空法兰2密封连接的第二真空法兰22，所述第二真空法兰22靠近第一真空法兰21的端面上至少开设有两个凹槽221，所述凹槽221中嵌合有密封件222，所述第一真空法兰21靠近第二真空法兰22的端面为平滑面，所述凹槽221用于对密封件222进行限位，当第一真空法兰21与第二真空法兰22相互压合，使得密封件222产生变形，起到真空密封的效果，在正常工作时，因为密封件222在外力作用下变形，将第一真空法兰21与第二真空法兰22之间的空隙填充，由于第一真空法兰21与第二真空法兰22之间的真空腔利用真空泵4进行抽真空，于是形成了在密封件222一侧是常压区域，另一侧为真空区域，而且该第一真空法兰21与第二真空法兰22之间设置有两个密封件222，提供双重密封保护，只有当2个密封件222都失效时，真空密封效果才会失效。
[0016]进一步的，所述凹槽221与第二真空法兰22为同心圆设置。
[0017]进一步的，所述凹槽221的深度尺寸为0.5
‑
16.5毫米，宽度的尺寸为0.5
‑
20毫米。
[0018]进一步的，所述密封件222软质材料，包括橡胶。
[0019]进一步的，所述第二真空法兰22上开设有一通孔，所述通孔通过金属管道连接有真空泵4，所述金属管道上固接有第一真空规5与第一阀门6。
[0020]进一步的，所述第一上盖1与第二下盖3均为真空腔结构，且所述第二下盖3上通过管道连通有真空泵4，所述管道上固接有第二阀门7,与第二真空规8。
[0021]如图1所示，两层密封件222将真空分成三段区域：常压区域(真空腔外，真空度P0)；两层真空密封件222之间区域(监控区域，真空度P1)真空区域(真空腔内，真空度P2)。
[0022]监控密封件222是否失效：
[0023]监控作用：真空腔密封后，关闭第一阀门6，通过真空泵4抽真空。此时P1＝P0，说明密封件222是正常密封的；打开第一阀门6，使P1＝P2，然后关闭第一阀门6，如果P1保持P2的状态，说明密封件222是正常的；
[0024]延长使用寿命：在真空腔正常工作时，可以通过第一阀门6的开和关闭，将P1的真空度保持在P0与P2之间的某个区域，这样，两个橡胶密封圈两边的真空度的压强差都是小于(P0
‑
P2)的，这样也有利于延长橡胶密封圈的使用寿命。
[0025]这里说明的设备数量和处理规模是用来简化本专利技术的说明的，对本专利技术的应用、修改和变化对本领域的技术人员来说是显而易见的。
[0026]尽管本专利技术的实施方案已公开如上，但其并不仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本专利技术的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实
现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本专利技术并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于真空腔体的密封结构，其特征在于，包括：第一上盖(1)及与所述第一上盖(1)通过真空法兰(2)密封连接的第二下盖(3)；所述真空法兰(2)包括第一真空法兰(21)以及与所述真空法兰(2)密封连接的第二真空法兰(22)，所述第二真空法兰(22)靠近第一真空法兰(21)的端面上至少开设有两个凹槽(221)，所述凹槽(221)中嵌合有密封件(222)，所述第一真空法兰(21)靠近第二真空法兰(22)的端面为平滑面。2.如权利要求1所述的一种用于真空腔体的密封结构，其特征在于，所述凹槽(221)与第二真空法兰(22)为同心圆设置。3.如权利要求1所述的一种用于真空腔体的密封结构，其特征在于，所述凹槽(221)的深度尺寸为0...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡常青，赵建海，
申请(专利权)人：上海铂世光半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：