本实用新型属于镀膜设备技术领域，公开了一种改进型离子束表面镀膜用装置，包括箱体，所述箱体的内部安装有溅射枪，所述箱体的一侧设置有第三电机，所述第三电机的一侧通过链条转动连接有辊轴，所述箱体的内部开设有第一真空腔、第二真空腔、第三真空腔，...

本实用新型属于离子束加工设备技术领域，公开了一种用于离子束加工的修正装置，包括安装架，所述安装架的内部设置有修正板，所述修正板的内部开设有通槽，所述通槽的一侧设置有挡板，所述挡板的顶部安装有内螺纹安装块，所述内螺纹安装块的内部设置有定位...

本实用新型属于离子束加工技术领域，且公开了一种用于金属表面处理的离子束加工单元，包括台体，所述台体的顶端安装有传送带，且台体的侧壁固定有控制器，所述台体的顶部一端靠近传送带的上方安装有冲洗箱，且台体的顶部另一端靠近传送带的上方固定有真空...

本实用新型属于等离子技术领域，具体涉及一种等离子发生装置，包括外壳，所述外壳的内部开设有工作仓，所述工作仓的内部滑动设有阴极头，所述工作仓的内部设置有打磨组件，所述打磨组件包括打磨块和固定架，所述固定架与工作仓的内壁固定连接，所述固定架...

本实用新型涉及离子束加工技术领域，公开了一种用于表面处理的离子束加工单元，包括加工装置，所述加工装置的左侧安装有清洗装置，所述清洗装置的内部上方设置有传送装置，所述传送装置的下方安装有水箱，所述清洗装置的顶面两侧对称设有导管，且导管的顶...

本实用新型属于镀膜机技术领域，具体涉及一种单室磁控溅射真空镀膜机，包括设备本体，所述设备本体内部开设有过渡仓和工作仓，所述过渡仓设置在工作仓的上方，所述过渡仓的内部设置有升降组件，并延伸至工作仓的内部，所述升降组件包括两个托板和四个固定...