一种单室磁控溅射真空镀膜机制造技术

本实用新型专利技术属于镀膜机技术领域，具体涉及一种单室磁控溅射真空镀膜机，包括设备本体，所述设备本体内部开设有过渡仓和工作仓，所述过渡仓设置在工作仓的上方，所述过渡仓的内部设置有升降组件，并延伸至工作仓的内部，所述升降组件包括两个托板和四个固定杆，四个所述固定杆均设置在两个托板之间，本实用新型专利技术通过挡板将设备本体的内部分割成过渡仓和工作仓两个空间，在取料时驱动组件启动，通过电机、主动轮、从动轮和转轴让升降组件从工作仓的内部进入过渡仓的内部，通过托板将过渡仓和工作仓密封后，启动密封组件，从而将工件取出，实现了设备本体内部空间不与外部空间接触下进行下料的功能。料的功能。料的功能。

【技术实现步骤摘要】
一种单室磁控溅射真空镀膜机


[0001]本技术属于镀膜机
，具体涉及一种单室磁控溅射真空镀膜机。

技术介绍

[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，在溅射类镀膜的过程中，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
[0003]现有的镀膜机在取料的过程中，设备内部空间与外部空间接触，从而导致设备需要重新调节工作环境，从而达到预定要求，同时在使用的过程中每次都要重新抽真空，而抽真空的过程及耗时间，导致产能下降。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种单室磁控溅射真空镀膜机，以解决上述
技术介绍
中提出的现有镀膜机不能连续进行镀膜工作，同时设备需要重复抽真空，导致设备生产周期大大延长的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种单室磁控溅射真空镀膜机，包括设备本体，所述设备本体内部开设有过渡仓和工作仓，所述过渡仓设置在工作仓的上方，所述过渡仓的内部设置有升降组件，并延伸至工作仓的内部，所述升降组件包括两个托板和四个固定杆，四个所述固定杆均设置在两个托板之间，并分别在两个托板上呈环形阵列分布，所述设备本体的顶部设置有驱动组件，所述驱动组件的一端延伸至其中一个托板的顶部，所述设备本体的外部安装有控制器。
[0006]优选的，所述设备本体的外部设置有换气组件，所述换气组件包括抽气泵和连接管，所述抽气泵和连接管的两端均分别延伸至过渡仓和工作仓的内部，所述连接管上设置有电磁阀。
[0007]优选的，所述过渡仓与工作仓之间设置有挡板，所述挡板的截面呈圆环形，四个所述固定杆均设置在挡板中部的圆环形结构中，且两个托板分别与挡板的两端卡合连接。
[0008]优选的，所述设备本体的外侧开设有出料口，所述出料口的一端延伸至过渡仓的内部，所述设备本体的内部设置有密封组件。
[0009]优选的，所述密封组件包括活动板和电动伸缩杆，所述电动伸缩杆设置在设备本体的内部，所述活动板的一端延伸至出料口的内部，并与出料口滑动连接，所述活动板的内部开设有安装孔，所述电动伸缩杆的一端延伸至安装孔的内部。
[0010]优选的，所述设备本体的一侧设置有设备舱，所述设备舱的一端延伸至工作仓的内部，所述设备舱的内部安装有磁控溅射装置。
[0011]优选的，所述驱动组件包括电机和转轴，所述电机设置在设备本体的顶部，所述转轴的一端贯穿设备本体，并与托板的顶部固定连接。
[0012]优选的，所述设备本体的顶部转动设有从动轮，所述转轴设置在从动轮的内部，并
与从动轮旋合连接，所述从动轮的一侧设置有主动轮，所述主动轮与从动轮啮合连接，所述主动轮的一端与电机的输出端固定连接。
[0013]优选的，所述设备本体上设置有进气管和真空管，所述进气管和真空管均延伸至工作仓的内部。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0015](1)本技术通过挡板将设备本体的内部分割成过渡仓和工作仓两个空间，在取料时驱动组件启动，通过电机、主动轮、从动轮和转轴让升降组件从工作仓的内部进入过渡仓的内部，通过托板将过渡仓和工作仓密封后，启动密封组件，从而将工件取出，实现了设备本体内部空间不与外部空间接触下进行下料的功能。
[0016](2)本技术设置了位于过渡仓和工作仓之间的换气组件，在需要取料时，连接管上的电磁阀启动，从而让过渡仓与工作仓的内部气压稳定，在托板与挡板底部卡合时，电磁阀关闭，抽气泵启动，将过渡仓内部的气压转移至工作仓中，在进料时重复此工作，从而保障工作仓中环境稳定，让设备本体可连续进行镀膜工作。
附图说明
[0017]图1为本技术的结构示意图；
[0018]图2为本技术的外观图；
[0019]图3为本技术活动板的俯视图；
[0020]图4为本技术的电路框图；
[0021]图中：1、控制器；2、设备舱；3、换气组件；4、抽气泵；5、连接管；6、电磁阀；7、主动轮；8、电机；9、驱动组件；10、转轴；11、从动轮；12、出料口；13、设备本体；14、磁控溅射装置；15、进气管；16、真空管；17、过渡仓；18、活动板；19、电动伸缩杆；20、密封组件；21、工作仓；22、升降组件；23、托板；24、固定杆；25、安装孔；26、挡板。
具体实施方式
[0022]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0023]请参阅图1
‑
图4所示，本技术提供一种技术方案：一种单室磁控溅射真空镀膜机，包括设备本体13，设备本体13内部开设有过渡仓17和工作仓21，过渡仓17设置在工作仓21的上方，过渡仓17的内部设置有升降组件22，并延伸至工作仓21的内部，升降组件22包括两个托板23和四个固定杆24，四个固定杆24均设置在两个托板23之间，并分别在两个托板23上呈环形阵列分布，设备本体13的顶部设置有驱动组件9，驱动组件9的一端延伸至其中一个托板23的顶部，设备本体13的外部安装有控制器1。
[0024]进一步的，设备本体13的外部设置有换气组件3，换气组件3包括抽气泵4和连接管5，抽气泵4和连接管5的两端均分别延伸至过渡仓17和工作仓21的内部，连接管5上设置有电磁阀6，通过连接管5上的电磁阀6控制过渡仓17和工作仓21中的气压，同时通过抽气泵4可将过渡仓17中的气压过渡到工作仓21中，从而达到不排真空的情况下将工件取出并放
入，进而提高了设备的镀膜的效率。
[0025]具体地，过渡仓17与工作仓21之间设置有挡板26，挡板26的截面呈圆环形，四个固定杆24均设置在挡板26中部的圆环形结构中，且两个托板23分别与挡板26的两端卡合连接，通过两个托板23与挡板26之间的卡合状态来达到连接过渡仓17和工作仓21的功能。
[0026]值得说明的是，设备本体13的外侧开设有出料口12，出料口12的一端延伸至过渡仓17的内部，设备本体13的内部设置有密封组件20。
[0027]进一步的，密封组件20包括活动板18和电动伸缩杆19，电动伸缩杆19设置在设备本体13的内部，活动板18的一端延伸至出料口12的内部，并与出料口12滑动连接，活动板18的内部开设有安装孔25，电动伸缩杆19的一端延伸至安装孔25的内部。
[0028]进一步的，设备本体13的一侧设置有设备舱2，设备舱2的一端延伸至工作仓21的内部，设备舱2的内部安装有磁控溅射装置14，磁控溅射装置14包括磁极、屏蔽层、挡板和靶材组成。
[0029]进一步的，驱动组本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单室磁控溅射真空镀膜机，包括设备本体(13)，其特征在于：所述设备本体(13)内部开设有过渡仓(17)和工作仓(21)，所述过渡仓(17)设置在工作仓(21)的上方，所述过渡仓(17)的内部设置有升降组件(22)，并延伸至工作仓(21)的内部，所述升降组件(22)包括两个托板(23)和四个固定杆(24)，四个所述固定杆(24)均设置在两个托板(23)之间，并分别在两个托板(23)上呈环形阵列分布，所述设备本体(13)的顶部设置有驱动组件(9)，所述驱动组件(9)的一端延伸至其中一个托板(23)的顶部，所述设备本体(13)的外部安装有控制器(1)。2.根据权利要求1所述的一种单室磁控溅射真空镀膜机，其特征在于：所述设备本体(13)的外部设置有换气组件(3)，所述换气组件(3)包括抽气泵(4)和连接管(5)，所述抽气泵(4)和连接管(5)的两端均分别延伸至过渡仓(17)和工作仓(21)的内部，所述连接管(5)上设置有电磁阀(6)。3.根据权利要求1所述的一种单室磁控溅射真空镀膜机，其特征在于：所述过渡仓(17)与工作仓(21)之间设置有挡板(26)，所述挡板(26)的截面呈圆环形，四个所述固定杆(24)均设置在挡板(26)中部的圆环形结构中，且两个托板(23)分别与挡板(26)的两端卡合连接。4.根据权利要求1所述的一种单室磁控溅射真空镀膜机，其特征在于：所述设备本体(13)的外侧开设有出料口(12)，所述出料口(12)的一端延伸至过渡仓(17)的内部，所述设备本体(13)的内部设置有密封组件(20)...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄成日，池连花，张坡，
申请(专利权)人：山东艾酷博纳米材料有限公司，
类型：新型
国别省市：