一种确定薄膜中元素的分布轮廓的方法。所述方法包括激发沉积于第一薄膜中的元素的电子能量以获取与所述电子能量相关联的第一能谱，并从所述第一能谱中去除背景能谱。移除所述背景值产生经处理的能谱。所述方法进一步包括通过能与第一薄膜比较的薄膜中的元...

根据本发明的一个实施例，使用光电子能谱来确定基片上的单个或多个层结构中的一个或多个层的厚度。可以通过测量当使用光子轰击时由所述结构所放射出的两个光电子核素或其他原子特定特性电子核素的强度来确定所述厚度。为每个光电子核素确定关于层的厚度的...

根据本发明的一个方面，提供一种衬底处理系统。该系统可以包括围绕室的室壁；被设置在所述室中的衬底支架，用于支撑衬底；电磁放射源，用于发射电磁放射线至衬底支架上的衬底上，所述电磁放射线使光电子从所述衬底上的材料被发射出来；分析器，用于捕获从...

根据本发明的一个实施例，公开了一种对来自仪器的数据进行分析的方法。由所述仪器产生的原始数据以及由用户产生的配置数据一并被打包到调用模型中。所述原始数据可以包括，例如，在分析光电子能谱数据时具有某一动能的计数。所述配置数据可以包括由用户基...

一种用于表征膜层的方法，该方法包括：　　　　提供代表膜层的至少一种成分浓度的至少一个被测光谱峰形，其中该膜层通过由一系列过程条件定义的特定过程形成在基底上；　　　　提供用于待表征的附加膜层的已获得的光谱，其中该附加膜层通过由一系列过程条...

本发明提供了一种用于表征膜层的非破坏性的方法，提供使用比较过程（例如，匹配过程）比较元素和／或化学物质的被测峰值形态（例如，先前所测量的在某一被监测的特定程序下硅的峰值形态）和采集的光谱数据（例如，使用非线性最小二乘拟合算法）用于膜层的...