一种用于将输入的ＤＣ电源电压转换成预定的ＤＣ电压的ＤＣ稳压电源１０包括：转换电路１１；第一差分电路１２，用于将转换电路１１输出电压中的变化差分；电流吸收电路１３，被第一差分电路１２的输出电压驱动；第二差分电路１４，用于将转换电路１１输出...

提供一种廉价的航天器姿态控制设备和姿态控制方法，一活动物体状态控制设备２０由以下构成；一导航动力系统２；一致动器５，用于驱动导航动力系统２；一第一控制装置４，以便对应于导航动力系统２输出的第一输出信号Ｏ１在ＰＩＤ控制中控制致动器５；和一...

在挂起模式提供一种信息处理单元使其芯片温度不超过规定温度，这样能够避免风扇产生不必要的噪声，即使使用不同类型的半导体芯片，也可以利用公用主板。当从电源控制部分输出的用来控制向ＣＰＵ供电的挂起信号变为低电平时，风扇控制部分向风扇输出适合降...

一种用以自动控制正常控制板和备用控制板之间的切换的设备。正常控制板和备用控制板中各个都装有接线检测电路，用以确定另一个控制板是否接上。两控制板中还装有开关控制电路，用以根据有关接线检测电路的输出控制开关电路的工作。

由多个执行相互备份的单元组成的设备，设置第一单元执行多种功能，第二、三单元中分别存储主、子备份数据。第一、二、三单元分别设有操作资料区Ａ３、Ａ１、Ａ２，这些资料区都是在起动所述设备时，各自将日期及时间信息存在该区内，并在下次工作时更新之...

一块电子表包括一个常规的振荡器和一个更加准确的振荡器。常规振荡器产生供电子表工作的第一频率，更加准确的振荡器产生被用作参考频率的第二频率。频率测量电路参照第二频率测量出第一频率，并由微处理器计算出第一频率与设计频率的偏差。根据这个偏差值...

一种用于便携式无线电设备上的时间显示控制仪器包括一显示单元和一显示模式控制单元，该显示单元相邻地同时显示各种时间信息，该显示模式控制单元从由多种字符式样和多种显示格式所组成的时间信息显示模式中选择出一种显示模式，并且控制时间信息在显示单...

时间测量系统，具有高速计数器（１），对传送测量开始和停止信号间的时钟计数值计数，产生输出信号，信号发生器（４）接收测量进行／终止转换和初始停止信号，产生测量开始和停止信号。加法器（２）利用时钟和输出信号对计数值相加产生总和值。对应该值，...

打印装置具有一个显像部分１１，其设置有ＯＰＣ鼓、将墨粉输送到显像部分的墨粉输送电机和将纸件运载到ＯＰＣ鼓的纸运载电机。墨粉量检测感应器检测每页纸的显像部分中的墨粉量，将作为检测电压的被检测墨粉量提供给控制部分。当预定基准电压和检测的电压...

在包括形成于透明基片上的遮光层（１０２’，２０２’，２０２”）的掩模中，遮光层的透光率随遮光层的图形密度或半导体衬底（２０３）上的光刻胶层（２０４）的厚度改变。

通过解决由光吸收引起的圆锥状光刻胶图形的问题，提供具有良好分辨率、聚焦和尺寸精度的化学增强的光刻胶，并同时产生高的热稳定性和对干法刻蚀的足够的抗蚀性，将具有芳环的树脂加入到含有一种脂环丙烯酸聚合物和一种光酸发生剂的化学增强的光刻胶中。该...

本发明为了提供一种化学增强的光刻胶，它可防止Ｔ－形光刻胶图形的形成并增强溶解速度对曝光的依赖性，它有良好的分辨率、聚焦和尺寸精度，用一种具有不同分子量的ｔ－ＢＯＣ保护的多羟苯乙烯聚合物的混合物作为化学增强光刻胶的基质聚合物和ＰＡＧ混合在...

一种化学增强的光刻胶正胶包括至少一种具有一种其极性通过酸催化剂发生变化的保护性基质的聚羟基苯乙烯树脂，其中该化学增强的光刻胶正胶与至少一种苯乙烯衍生物混合。

本发明为提供一种在化学放大负型光致抗蚀剂中兼具有抑制稀疏与致密尺寸差和侧壁凹凸少的光致抗蚀剂形状的光致抗蚀剂图形，使用将分子量为１００－１０００、产生扩散距离为３０－６０ｎｍ酸的光致酸产生剂，与分子量为１００－１０００、产生扩散距离为１...

一种曝光设备装有投射透镜、安装在投射透镜下面其上放置待曝光的晶片的晶片台、以及安装在投射透镜和晶片台之间在光学上透明且不通过气体成分的透明掩蔽板。

一种远紫外线光刻胶是一种化学增强型光刻胶，它含有一种碱性树脂和光酸发生剂。作为碱性树脂，使用的是一种通过一个酰胺键连接的具有一种环状碳酸酯的树脂，它对远紫外线透明，并具有优良的抗蚀性。这些树脂包括叔丁基保护的聚（２，５－对羧基降莰烷酰胺...

本发明提供一种参考检查数据来检查曝光图形的方法，其中掩模图形具有重叠区域，该重叠区域受到电子束的双重曝光，从而改变了穿过重叠区域的互连部分的宽度。该方法对检查数据中有关穿过重叠区域的互连部分的宽度的数据进行修改，以改变互连部分的宽度。

在用于在含有蚀刻控制成分的加工件中形成精细结构的制造方法中，使用各向同性刻蚀工艺，将具有孔口（３６）的掩模加到加工件（３０）上，且用蚀刻溶液蚀刻加工件，从而在加工件的表面内形成相应于孔口形状的凹槽（４０）。由于在各向同性刻蚀工艺期间蚀刻...

公开了一种用于产生针对随机设置在反射液晶显示设备的反射基片的表面上的不平坦的图案数据的设备。从数据输入单元输入坐标数、基本间隔、可移动范围和点直径。阵列发生单元依照基本间隔二维有规律地设置基本坐标。坐标移动单元在部分基本坐标处、在可移动...

本发明提供化学增幅抗蚀剂组合物，该组合物具有对波长不超过２２０纳米的光的高透明性，优异的抗蚀性，和优异的对衬底的粘附力。通过使用至少一种如下的重复结构单元制备化学增幅抗蚀剂组合物：由通式（Ⅲ）表示的具有桥接脂环式γ－内酯结构的重复结构单...