本实用新型公开了一种带有光源的晶圆片研磨垫，包括有研磨垫本体，所述的研磨垫本体包括有研磨层、粘结层和基座，所述的研磨层为透明的，在所述的研磨层上设有光源。本实用新型在研磨垫本体上设有光源，在晶圆片研磨时，通过光源的光能，减少晶圆片的研磨...

本实用新型公开了晶圆固定环，包括有一环体以及一位于环体中央的容置空间，除了设置若干一般的排水通道之外，还进一步于环体上设置若干进水通道，进水通道连通于容置空间与环体之外部，且该等进水通道的深度大于或等于环体之厚度的一半，以对容置空间提供...

本发明提供一种晶圆抛光垫，供化学机械研磨(CMP)使用，以对晶圆进行研磨抛光。晶圆抛光垫的实施包括研磨片以及设于研磨片背面的压力调节片；其中，研磨片正面为研磨面，压力调节片具有一结合面结合在研磨片的背面，结合面的面积小于研磨面的面积，且...

本实用新型是一种钻石整理器的钻石排列整理装置，其包括有一整理板，整理板上设有复数钻石容置槽，钻石容置槽可为圆形钻石容置槽或椭圆形钻石容置槽，且每一钻石容置槽的开口大小，都小于钻石的直径，当钻石落入钻石容置槽时，能使钻石的锐利端朝外。本实...

一种研磨垫整理器，此研磨垫整理器具有一底层与复数个钻石颗粒，其中此些钻石颗粒镶嵌于底层的一表面上，并且钻石颗粒露出底层表面的部分具有相同的高度，并且此些钻石颗粒露出底层表面的高度，小于最小钻石颗粒的一半高度。以使得研磨垫调整器不会因为钻...