本发明提供了在半导体器件制造的ＣＭＰ工艺中，能抑制金属层过度氧化、对金属层和／或阻挡层等进行研磨、且能根据不同用途调节研磨速度的研磨剂及研磨方法。使含有抛光磨料和肽的研磨剂与氧化剂一起悬浮于水系介质中，将ｐＨ调整到７以上，制成研磨剂浆液...

本发明提供一种半导体用研磨剂，它是含氧化铈研磨粒子、水和添加剂的半导体用研磨剂，其特征在于，上述添加剂选自水溶性有机高分子和阴离子性表面活性剂中的１种以上，２５℃的上述研磨剂的ｐＨ为３．５－６，并且上述添加剂的总的浓度是研磨剂总重量的０...

研磨剂组合物，它是用于基板的研磨的化学机械研磨用研磨材料，含有（Ａ）磨粒、（Ｂ）水系介质、（Ｃ）酒石酸、（Ｄ）三羟基甲基氨基甲烷及（Ｅ）选自丙二酸和马来酸的１种或１种以上，更好的是为了防止配线金属部的凹陷，还含有具有在配线金属表面形成保...

一种评价抛光玻璃用的磨粒质量的方法，所述方法包括：在溶解有二氧化硅的水性介质中加入要测定的磨粒，使得二氧化硅在二氧化硅于水性介质中基本上不聚合的条件下吸附在磨粒上，随后进行固液分离，从母液中分离出磨粒，测定残留在母液中的二氧化硅浓度，用...

本发明提供实际上高度维持研磨速度，且将潜伤发生率抑制至极限为止的研磨材粒子及其评估方法，对将被测量对象的研磨材粒子添加入水性介质的研磨材水性介质分散液照射超声波，并测量由式（１）所示的相对于超声波照射前的特定粒径以上的粒子含量，超声波照...

本发明提供包含聚合物（Ａ）及水系介质（Ｂ）的组合物，所述聚合物（Ａ）包含具备多氟烷基的不饱和酯的聚合单元（ａ１）和具备硅及不饱和基团的聚合单元（ｂ１）；还提供将该组合物供至马达或单反照相机等精密仪器的滑动部件的表面形成被膜，从而赋予防润...

一种可自由控制氟含量的铈磨料的制造方法，其特征在于，用化学方法将碱金属、碱土类金属以及放射性物质分离除去，制成这些物质含量减小了的、以铈为主要成分的轻稀土类原料，然后用氢氟酸将该原料部分氟化，接着进行烧成。该方法使碱金属和碱土类金属和放...

本发明提供了不使用过氧化氢等氧化剂、或氨等还原剂，而且不需要ｐＨ调整、过滤等复杂操作，简单的，操作容易的铈系研磨剂的制造方法。即利用干式混合或湿式混合将含有铈以及镧的碳酸盐的碳酸稀土和硅的氧化衍生物以微粉状态混合，然后烧制，就得到所需的...

一种可自由控制氟含量的铈磨料的制造方法，其特征在于，用化学方法将碱金属、碱土金属以及放射性物质分离除去，制成这些物质含量减小了的、以铈为主要成分的轻稀土原料，然后用氢氟酸将该原料部分氟化，接着进行焙烧。该方法使碱金属和碱土金属和放射性物...

轻稀土原料，用于制造碱金属、碱土金属和放射性物质含量减少了的、以铈为主要成分的铈磨料，其特征在于，其换算成氧化物后的轻稀土占原料总重量的３５％以上，铈占总稀土氧化物重量的５０％以上，碱金属氧化物在０．５重量％以下，碱金属和碱土金属氧化物...

油栏组合物，其特征在于，包含含有下述聚合单元（ａ↑［１］）的聚合物（Ａ）、表面活性剂（Ｂ）和水系介质（Ｃ），前述表面活性剂（Ｂ）的总质量中含有５０质量％以上的氟系表面活性剂（Ｂ↑［１］），聚合单元（ａ１）为含有多氟烷基的不饱和酯的聚合单...

本发明涉及防止用于焊接的焊剂蠕流的组合物，该组合物没有使地球环境变暖或工作环境问题。本发明提供防止用于焊接的焊剂蠕流的组合物，该组合物由包括含多氟烷基的不饱和酯的聚合物单元的聚合物、氟型表面活性剂和水性介质的组合物组成。本发明还提供用该...